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【技术实现步骤摘要】
本申请涉及蒸镀领域,特别涉及一种蒸镀方法、fmm sheet的制作方法及掩膜版。
技术介绍
1、有机电致发光器件(oled)由于具有亮度高、色彩饱和、轻薄、可弯曲等优点在显示面板领域占比逐渐增大。
2、oled、amoled等制程工艺中,蒸镀为决定oled或amoled性能关键的工艺之一,与蒸镀系统配合的掩膜版(mask)是决定蒸镀系统性能的关键,掩膜版(mask)的结构如图1,掩膜版(mask)包括frame(框架)1、fmask sheet2和fmm sheet3,其中,frame1为金属框架,起结构稳定作用,fmm sheet3起掩膜,形成小孔蒸镀像素的作用,fmask sheet2起间隔作用。fmask sheet2包括howllin g21和cover22,掩膜版(mask)组装时,先将每根howlling21焊到frame1上,再将cover22焊到frame1上,最后将fmm sheet3焊到frame1上,形成如图1的结构。fmm sheet3的结构如图2,fmm sheet3包括两端头31,两端头31之间设置有蒸镀作业区32,该蒸镀作业区32由若干网格形的蒸镀单元321组成,相邻两个蒸镀单元321之间设置有分隔区322。
3、早期的fmm sheet3的蒸镀单元321的尺寸大小与客户要求的产品屏幕的尺寸大小相同,以手机屏幕来说,蒸镀单元321的尺寸大小=手机屏幕的尺寸大小,但是在实际生产中,这样大小的蒸镀单元321用于蒸镀中,蒸镀工序后的基板最终形成的产品在屏幕发光时出现彩斑或者局部区域
4、经过上述预变形的fmm sheet3用于蒸镀中,蒸镀工序后的基板最终形成的产品能够成为良品供一般客户使用,但是,这样的fmm sheet3用于蒸镀工序后,沉积在基板上的蒸镀膜的膜厚及大小也并不均匀,呈现围绕fmm sheet3水平轴线方向(howlling21方向)为中心,在中心位置的蒸镀膜的膜厚及大小与客户要求的膜厚及大小基本相同,远离中心位置的蒸镀膜的膜厚较中心位置的膜厚要厚,膜大小却较中心位置的要小,具体呈现离中心位置的越远,膜厚度越厚,膜大小越小,无法满足高端客户的要求。
5、上述
技术介绍
是为了便于理解本专利技术,并非是申请本专利技术之前已向普通公众公开的公知技术。
技术实现思路
1、基于上述问题,本申请提供一种蒸镀方法,该蒸镀方法蒸镀后,基板上形成厚度及大小均基本均匀的沉积蒸镀膜,从而提高了产品的质量性能,生产出的产品可供高端客户使用。
2、一种蒸镀方法,该蒸镀方法在蒸镀时抵消或补偿蒸镀系统内热应力。
3、可选地,所述抵消或补偿蒸镀系统内热应力通过采用抵消或补偿掩膜版蒸镀时热应力的掩膜版。
4、可选地,所述掩膜版为带有可以在蒸镀时抵消或补偿热应力的fmm sheet。
5、本专利技术还提供一种fmm sheet的制作方法。
6、一种fmm sheet的制作方法,包括以下步骤:
7、s1:取fmm sheet粗件;
8、s2:在fmm sheet粗件上涂覆光阻膜,曝光,显影,蚀刻后形成fmm sheet精件,该fmm sheet精件包括两端头,两端头之间设置有蒸镀作业区,该蒸镀作业区由若干网格形的蒸镀单元组成,相邻两个蒸镀单元之间设置有分隔区,该分隔区的数目为单数,该分隔区包括中间分隔区和以该中间分隔区为对称分布的上分隔区和下分隔区,两端头与蒸镀单元临近位置设置有双面减薄区,双面减薄区的厚度<上分隔区的厚度<中间分隔区厚度,上分隔区中,远离中间分隔区的厚度<临近中间分隔区的厚度,逐渐变薄。双面减薄区的厚度<下分隔区的厚度<中间分隔区厚度,下分隔区中,远离中间分隔区的厚度<临近中间分隔区的厚度,逐渐变薄。
9、可选地,所述分隔区的数目为3个,上分隔区的下表面、下分隔区的下表面、中间分隔区的下表面在同一平面,上分隔区的上表面与下分隔区的上表面在同一平面,上分隔区的上表面与下分隔区的上表面低于中间分隔区的上表面。
10、本专利技术还提供一种fmm sheet的制作方法。
11、一种fmm sheet的制作方法,包括以下步骤:
12、一种fmm sheet的制作方法,包括以下步骤:
13、s1:取fmm sheet粗件;
14、s2:在fmm sheet粗件上涂覆光阻膜,曝光,显影,蚀刻后形成fmm sheet精件,该fmm sheet精件包括两端头,两端头之间设置有蒸镀作业区,该蒸镀作业区由若干网格形的蒸镀单元组成,相邻两个蒸镀单元之间设置有分隔区,分隔区的数目为双数,该分隔区包括对称分布的上分隔区和下分隔区,两端头与蒸镀单元临近位置设置有双面减薄区,双面减薄区的厚度<上分隔区的厚度,双面减薄区的厚度<下分隔区的厚度,上分隔区中,远离fmmsheet3轴线的厚度<临近fmm sheet3轴线的的厚度,逐渐变薄,下分隔区中,远离fmmsheet3轴线的厚度<临近fmm sheet3轴线的厚度,逐渐变薄。
15、可选地,所述分隔区的数目为2个,上分隔区的下表面、下分隔区的下表面在同一平面,上分隔区的上表面与下分隔区的上表面在同一平面,双面减薄区的下表面低于上分隔区的下表面,双面减薄区的上表面与上分隔区的上表面齐平。
16、本专利技术还提供一种掩膜版。
17、一种掩膜版,该掩膜版包括frame、fmask sheet和fmm sheet,该fmm sheet包括两端本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种蒸镀方法,其特征在于,该蒸镀方法在蒸镀时抵消或补偿蒸镀系统内热应力。
2.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,所述抵消或补偿蒸镀系统内热应力通过采用抵消或补偿掩膜版蒸镀时热应力的掩膜版。
3.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,所述掩膜版为带有可以在蒸镀时抵消或补偿热应力的FMM Sheet。
4.一种FMM Sheet的制作方法,包括以下步骤:
5.根据权利要求4所述的FMM Sheet的制作方法,其特征在于,所述分隔区(322)的数目为3个,上分隔区(3222)的下表面、下分隔区(3223)的下表面、中间分隔区(3221)的下表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面低于中间分隔区(3221)的上表面。
6.一种FMM Sheet的制作方法,包括以下步骤:
7.根据权利要求6所述的FMM Sheet的制作方法,其特征在于,所述分隔区(322)的数目为2个,上分隔区(3222)的下表面、
8.一种掩膜版,该掩膜版包括Frame、FMASK Sheet和FMM Sheet,该FMM Sheet包括两端头(31),两端头(31)之间设置有蒸镀作业区(32),该蒸镀作业区(32)由若干网格形的蒸镀单元(321)组成,相邻两个蒸镀单元(321)之间设置有分隔区(322),该分隔区(322)的数目为单数,该分隔区(322)包括中间分隔区(3221)和以该中间分隔区(3221)为对称分布的上分隔区(3222)和下分隔区(3223),其特征在于,所述两端头(31)与蒸镀单元(321)临近位置设置有双面减薄区(33),双面减薄区(33)的厚度<上分隔区(3222)的厚度<中间分隔区(3221)厚度,上分隔区(3222)中,远离中间分隔区(3221)的厚度<临近中间分隔区(3221)的厚度,逐渐变薄。双面减薄区(33)的厚度<下分隔区(3223)的厚度<中间分隔区(3221)厚度,下分隔区(3223)中,远离中间分隔区(3221)的厚度<临近中间分隔区(3221)的厚度,逐渐变薄。
9.根据权利要求8所述的掩膜版,其特征在于,所述分隔区(322)的数目为3个,上分隔区(3222)的下表面、下分隔区(3223)的下表面、中间分隔区(3221)的下表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面低于中间分隔区(3221)的上表面。
10.一种掩膜版,该掩膜版包括Frame、FMASK Sheet和FMM Sheet,该FMM Sheet包括两端头(31),两端头(31)之间设置有蒸镀作业区(32),该蒸镀作业区(32)由若干网格形的蒸镀单元(321)组成,相邻两个蒸镀单元(321)之间设置有分隔区(322),分隔区(322)的数目为双数,该分隔区(322)包括对称分布的上分隔区(3222)和下分隔区(3223),其特征在于,所述两端头(31)与蒸镀单元(321)临近位置设置有双面减薄区(33),双面减薄区(33)的厚度<上分隔区(3222)的厚度,双面减薄区(33)的厚度<下分隔区(3223)的厚度,上分隔区(3222)中,远离FMM Sheet3轴线的厚度<临近FMM Sheet3轴线的的厚度,逐渐变薄,下分隔区(3223)中,远离FMM Sheet3轴线的厚度<临近FMM Sheet3轴线的厚度,逐渐变薄;作为优选,所述分隔区(322)的数目为2个,上分隔区(3222)的下表面、下分隔区(3223)的下表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面在同一平面,双面减薄区(33)的下表面低于上分隔区(3222)的下表面,双面减薄区(33)的上表面与上分隔区(3222)的上表面齐平。
...【技术特征摘要】
1.一种蒸镀方法,其特征在于,该蒸镀方法在蒸镀时抵消或补偿蒸镀系统内热应力。
2.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,所述抵消或补偿蒸镀系统内热应力通过采用抵消或补偿掩膜版蒸镀时热应力的掩膜版。
3.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,所述掩膜版为带有可以在蒸镀时抵消或补偿热应力的fmm sheet。
4.一种fmm sheet的制作方法,包括以下步骤:
5.根据权利要求4所述的fmm sheet的制作方法,其特征在于,所述分隔区(322)的数目为3个,上分隔区(3222)的下表面、下分隔区(3223)的下表面、中间分隔区(3221)的下表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面低于中间分隔区(3221)的上表面。
6.一种fmm sheet的制作方法,包括以下步骤:
7.根据权利要求6所述的fmm sheet的制作方法,其特征在于,所述分隔区(322)的数目为2个,上分隔区(3222)的下表面、下分隔区(3223)的下表面在同一平面,上分隔区(3222)的上表面与下分隔区(3223)的上表面在同一平面,双面减薄区(33)的下表面低于上分隔区(3222)的下表面,双面减薄区(33)的上表面与上分隔区(3222)的上表面齐平。
8.一种掩膜版,该掩膜版包括frame、fmask sheet和fmm sheet,该fmm sheet包括两端头(31),两端头(31)之间设置有蒸镀作业区(32),该蒸镀作业区(32)由若干网格形的蒸镀单元(321)组成,相邻两个蒸镀单元(321)之间设置有分隔区(322),该分隔区(322)的数目为单数,该分隔区(322)包括中间分隔区(3221)和以该中间分隔区(3221)为对称分布的上分隔区(3222)和下分隔区(3223),其特征在于,所述两端头(31)与蒸镀单元(321)临近位置设置有双面减薄区(33),双面减薄区(33)的厚度<上分隔区(3222)的厚度<中...
【专利技术属性】
技术研发人员:周俊吉,
申请(专利权)人:成都拓维高科光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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