本实用新型专利技术公开一种掩膜组件，包括支撑框架和多个掩膜条，多个掩膜条交叉设置，并连接于支撑框架上，以划分形成多个矩形蒸镀区域，每个掩膜条均沿其宽度方向在支撑框架上的位置可调，每个掩膜条上均设置有遮蔽结构。通过沿掩膜条的宽度方向调节其在支撑框架上的位置，能够调节多个掩膜条划分形成的蒸镀区域的尺寸，使用时，可根据待蒸镀的玻璃基板上的待蒸镀区域调节掩膜条的位置，以使形成的蒸镀区域与玻璃基板上的待蒸镀区域对正，通用性强，另外，在有掩膜条并排设置的位置，掩膜条上的遮蔽结构能够遮挡相邻两掩膜条之间形成的竖向间隙，从而避免下方蒸镀源散发的有机物蒸汽污染玻璃基板上的非蒸镀区域。污染玻璃基板上的非蒸镀区域。污染玻璃基板上的非蒸镀区域。
【技术实现步骤摘要】
掩膜组件
[0001]本技术涉及显示面板加工
，尤其涉及一种掩膜组件。
技术介绍
[0002]在显示面板的蒸镀工艺中，需要在玻璃基板上的待蒸镀区域蒸镀一层有机材料，而在非蒸镀区域不能沾染有机材料。因此，在蒸镀设备的内部，通常将玻璃基板放置于掩膜组件上。如图1所示，掩膜组件包括支撑框架10
′
以及交叉设置于支撑框架10
′
内的多根掩膜条20
′
，多根掩膜条20
′
在支撑框架10
′
上划分出蒸镀区域30
′
和遮蔽区域，掩膜组件上的蒸镀区域30
′
与玻璃基板40
′
上指定的待蒸镀区域对正，掩膜组件上的遮蔽区域与玻璃基板40
′
上的非蒸镀区域对正。
[0003]现有技术存在以下缺陷：一方面，进行蒸镀工序时，每一批次的玻璃基板40
′
上的蒸镀区域30
′
可能存在差异，而现有技术中，针对每一批次的玻璃基板40
′
均需要设计对应的掩膜组件，严重增加了生产成本。另一方面，如图1和图2所示，在有多根掩膜条20
′
并排设置的位置处，相邻掩膜条20
′
之间存在间隙50
′
，由于该间隙50
′
是沿竖直方向的，因此，蒸镀源60
′
散发出的有机物蒸汽极易通过该竖直间隙50
′
附着于该位置的玻璃基板40
′
上，造成玻璃基板40
′
上的非蒸镀区域被污染，严重影响了显示面板的成品质量，增加了报废率。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于：提供一种掩膜组件，其能够划分形成多种尺寸的蒸镀区域，通用性强，且有效阻挡玻璃基板上的非蒸镀区域被有机物蒸汽污染。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]提供一种掩膜组件，包括：
[0007]支撑框架，
[0008]掩膜条，设置有多个，多个所述掩膜条交叉设置，并连接于所述支撑框架上，以划分形成多个矩形蒸镀区域，每个所述掩膜条均沿其宽度方向在所述支撑框架上的位置可调，每个所述掩膜条上均设置有遮蔽结构，所述遮蔽结构用于遮挡相邻且并排设置的两个所述掩膜条之间的间隙。
[0009]作为掩膜组件的一种优选方案，所述支撑框架上沿周向环设有导向槽，所述掩膜条的两端均沿其宽度方向设置有导向凸起，且所述导向凸起位于所述掩膜条面向所述支撑框架的一侧，所述导向凸起能够插入所述导向槽中，并能够与所述导向槽滑动配合。
[0010]作为掩膜组件的一种优选方案，还包括锁紧件，所述支撑框架上沿周向间隔设置有多个连接孔，所述锁紧件能够穿过任一所述连接孔，并伸入所述导向槽中，以顶紧于所述导向凸起上。
[0011]作为掩膜组件的一种优选方案，所述锁紧件为螺栓，所述连接孔为螺纹孔，所述螺栓旋入所述螺纹孔内。
[0012]作为掩膜组件的一种优选方案，所述遮蔽结构为台阶结构，每个所述掩膜条沿其
宽度方向相对的两侧均设置有所述台阶结构，所述台阶结构沿所述掩膜条的长度方向延伸，相邻两个所述掩膜条之间能够通过所述台阶结构相嵌合。
[0013]作为掩膜组件的一种优选方案，所述遮蔽结构包括遮挡板，所述掩膜条沿其宽度方向相对的两侧分别设置有插槽和所述遮挡板，所述插槽和所述遮挡板均沿所述掩膜条的长度方向延伸，所述插槽和所述遮挡板正对设置，以使所述遮挡板能够嵌入另一所述掩膜条的插槽中。
[0014]作为掩膜组件的一种优选方案，所述遮蔽结构包括可调插板，所述掩膜条上设置有沿其宽度方向贯通的容纳腔，所述可调插板可伸缩地设置于所述容纳腔内，所述可调插板伸出所述容纳腔时能够插入另一所述掩膜条的容纳腔中。
[0015]作为掩膜组件的一种优选方案，所述掩膜条的底面沿其宽度方向设置有条形孔，所述可调插板上凸设有拨动销，所述拨动销可移动地插设于所述条形孔内。
[0016]作为掩膜组件的一种优选方案，所述容纳腔的顶壁设置有摩擦片，所述可调插板与所述摩擦片可滑动接触。
[0017]作为掩膜组件的一种优选方案，所述支撑框架包括矩形边框和支撑部，所述掩膜条连接于所述矩形边框上，所述支撑部设置于所述矩形边框背向所述掩膜条的一侧。
[0018]本技术的有益效果为：通过沿掩膜条的宽度方向调节其在支撑框架上的位置，能够调节多个掩膜条划分形成的蒸镀区域的尺寸，使用时，可根据待蒸镀的玻璃基板上的待蒸镀区域调节掩膜条的位置，以使形成的蒸镀区域与玻璃基板上的待蒸镀区域对正，通用性强，另外，在有掩膜条并排设置的位置，掩膜条上的遮蔽结构能够遮挡相邻两掩膜条之间形成的竖向间隙，从而避免下方蒸镀源散发的有机物蒸汽污染玻璃基板上的非蒸镀区域。
附图说明
[0019]下面根据附图和实施例对本技术作进一步详细说明。
[0020]图1为现有技术中掩膜组件的俯视图。
[0021]图2为现有技术中相邻且并排的两个掩膜条的结构示意图。
[0022]图3为本技术实施例一提供的掩膜组件的第一视图。
[0023]图4为本技术实施例一提供的掩膜组件的第二视图。
[0024]图5为图3中A处的局部放大图。
[0025]图6为本技术实施例一提供的掩膜条的安装示意图。
[0026]图7为本技术实施例一提供的掩膜条的横截面图。
[0027]图8为本技术实施例二提供的掩膜条的横截面图。
[0028]图9为本技术实施例三提供的掩膜条的轴测图。
[0029]图10为图9中B处的局部放大图。
[0030]图11为本技术实施例三提供的相邻且并排的两个掩膜条的连接示意图。
[0031]图1和图2中：
[0032]10
′
、支撑框架；20
′
、掩膜条；30
′
、蒸镀区域；40
′
、玻璃基板；50
′
、间隙；60
′
、蒸镀源。
[0033]图3至图11中：
[0034]1、支撑框架；11、矩形边框；111、导向槽；112、连接孔；12、支撑部；
[0035]2、掩膜条；21、导向凸起；22、台阶结构；23、遮挡板；24、插槽；25、可调插板；251、拨动销；26、容纳腔；27、条形孔；28、摩擦片；
[0036]3、蒸镀区域；
[0037]4、锁紧件；
[0038]100、蒸镀源。
具体实施方式
[0039]参考下面结合附图详细描述的实施例，本技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本技术不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本技术的公开并且使本领域技术人员充分地本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩膜组件，其特征在于，包括：支撑框架，掩膜条，设置有多个，多个所述掩膜条交叉设置，并连接于所述支撑框架上，以划分形成多个矩形蒸镀区域，每个所述掩膜条均沿其宽度方向在所述支撑框架上的位置可调，每个所述掩膜条上均设置有遮蔽结构，所述遮蔽结构用于遮挡相邻且并排设置的两个所述掩膜条之间的间隙。2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑框架上沿周向环设有导向槽，所述掩膜条的两端均沿其宽度方向设置有导向凸起，且所述导向凸起位于所述掩膜条面向所述支撑框架的一侧，所述导向凸起能够插入所述导向槽中，并能够与所述导向槽滑动配合。3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，还包括锁紧件，所述支撑框架上沿周向间隔设置有多个连接孔，所述锁紧件能够穿过任一所述连接孔，并伸入所述导向槽中，以顶紧于所述导向凸起上。4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述锁紧件为螺栓，所述连接孔为螺纹孔，所述螺栓旋入所述螺纹孔内。5.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述遮蔽结构为台阶结构，每个所述掩膜条沿其宽度方向相对的两侧均设置有所述台阶结构，所述台阶结构沿所述掩膜条的长...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄新宇，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：
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