半导体激光模块和具有光反馈功能的半导体激光装置制造方法及图纸

一半导体泵浦激光器模块用于辐射在暂态稳定性上具有优势的泵浦激光。此半导体泵浦激光器模块包括具有在ＧａＡｓ衬底上形成的层结构的半导体激光装置，其中此层结构具有量子井结构的活性层，并由包含镓和砷的半导体材料构成，和一具有光反馈功能的部件。这两个组件是光学耦合的。此半导体激光装置的活性层中的井层是一厚度为１０ｎｍ或更多的厚层。此活性层被掺入硅，在活性层下面的一ｎ型覆盖层也被掺入硅。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体激光模块和具有光反馈功能的半导体激光装置。特别的，本专利技术涉及一种可辐射波长范围为940nm至990nm的激光的半导体激光模块和具有光反馈功能的半导体激光装置，其光功率在所有时间稳定。
技术介绍
一波分复用(WDM)通信方案作为传送多路光信号的光通信系统正在发展之中。此系统包括沿光路在预定位置安装的掺饵(Er)光纤放大器(EDFA)。每个EDFA都与一个泵浦激光模块相连，此泵浦激光模块具有一半导体激光装置作为泵浦光源。泵浦激光由激光模块直接进入EDFA以对信号光源传送来的信号光进行光学放大，从而将光放大后的信号光再向下行方面传送。在这种情况下，合并在激光模块中的半导体激光装置被提供一注入电流，其电流值随信号光源的光功率波动而变化，以控制泵浦激光的光功率。这样的策略对于辐射波长为1480nm范围的半导体激光装置是有效的，因为EDFA中可提供宽广的增益带宽。然而，上述策略不能应用于辐射波长为980nm波长范围的半导体激光装置，因为EDFA中在这个波长范围的增益带宽很窄。本专利技术正是为了寻找一种方法能够克服这种限制并能在EDFA应用中也能使用980nm的泵浦光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一半导体泵浦激光部件包括： 一具有形成在砷化镓衬底的表面上的层结构的半导体泵浦激光装置，一包括所述层结构的至少一部分且其传播轴方向平行于所述砷化镓衬底表面的谐振腔，所述层结构具有一活性层，此活性层的量子井结构的至少一部分在所述谐振腔内，所述活性层由一种或多种至少包含镓和砷的半导体材料构成，所述量子井结构至少包括一个井层和一个势垒层，所述谐振腔和层结构使沿着谐振腔的传播轴传播的光的纵向模式具有空间间隔（Δλ↓［ＦＰ］）；和 与所述半导体泵浦激光装置产生的光相光学耦合的光反馈元件，所述光反馈元件具有大于或等于纵向模式的空间间隔的两倍的反射率带宽；和 其中所述半导体泵浦激光部件可产...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：大久保典雄，大木泰，
申请(专利权)人：古河电气工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]