一种面板蚀刻装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种面板蚀刻装置，涉及面板加工技术领域。该面板蚀刻装置包括下电极、连接在所述下电极上的陶瓷件、定位件和支撑件，下电极上放置有面板，定位件设在面板的外侧以定位面板，支撑件支撑在定位件和陶瓷件之间，以支撑件的轴线为界，支撑件靠近下电极的一侧宽度逐渐减小。该面板蚀刻装置能够较好地避免蚀刻产生的异物积累到定位件上的现象发生，从而保证定位精度。从而保证定位精度。从而保证定位精度。

【技术实现步骤摘要】
一种面板蚀刻装置


[0001]本技术涉及面板加工设备
，尤其涉及一种面板蚀刻装置。

技术介绍

[0002]等离子体蚀刻机台(plasma etching apparatus)已广泛地应用于液晶显示面板的制作过程中，用来去除玻璃基板表层未被光致抗蚀剂覆盖及保护的部分，以将掩模图案转移至玻璃基板表面。等离子体蚀刻主要是利用等离子体将反应气体分子解离成对玻璃基板表面的薄膜材料具有反应性的离子，以与玻璃基板上的薄膜发生化学反应，从而使暴露在等离子体下的薄膜反应成挥发性的物质，然后再利用具空系统将反应生成挥发性的物质抽离玻璃基板表面。
[0003]现有的面板蚀刻装置，如图1所示，面板5
’
一般放置在下电极2
’
上且位于上电极1
’
和下电极2
’
之间，下电极2
’
的绝缘陶瓷上通常设置有定位件4
’
，定位件4
’
用于定位面板5
’
。在蚀刻过程中，蚀刻产生的异物非常容易积攒在定位件4
’
上，从而影响了定位精度。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提出一种面板蚀刻装置，其能够避免蚀刻产生的异物积累到定位件上，定位精度高。
[0005]为实现上述技术目的，本技术的技术方案如下：
[0006]提供一种面板蚀刻装置，包括下电极和连接在所述下电极上的陶瓷件，所述下电极上放置有面板，所述面板蚀刻装置还包括：定位件，所述定位件设在所述面板的外侧以定位所述面板；支撑件，所述支撑件设置在所述定位件和所述陶瓷件之间；其中：以所述支撑件的轴线为界，所述支撑件的中心朝向所述支撑件的靠近所述下电极的一端的宽度逐渐减小。
[0007]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，以所述支撑件的轴线为界，所述支撑件的中心朝向所述支撑件背离所述下电极一端的宽度逐渐减小。
[0008]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，所述支撑件的横截面的两端为直径相等的半圆。
[0009]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，所述半圆的直径为r1，1mm≤r1≤2mm。
[0010]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，所述支撑件的横截面的两端为直径不相等的两个半圆，其中，直径较小的半圆朝向所述下电极设置，直径较大的半圆背离所述下电极设置。
[0011]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，直径较小的所述半圆的半径为r2，1mm≤r2≤2mm；直径较大的所述半圆的半径为r3，3mm≤r3≤5mm。
[0012]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，所述支撑件上设有第一连接部，所述陶瓷件上设有与所述第一连接部配合的第一连接孔。
[0013]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，所述第一连接部和所述第一连接孔过盈配
合。
[0014]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，所述支撑件上设有第二连接部，所述定位件上设有与所述第二连接部配合的第二连接孔。
[0015]作为面板蚀刻装置的一种优选方案，所述第二连接部与所述第二连接孔过盈配合。
[0016]本技术的面板蚀刻装置的有益效果为：定位件通过支撑件连接在陶瓷件上，支撑件将定位件和陶瓷件间隔设置，且支撑件以自身的轴线为界，靠近下电极的一侧的宽度逐渐减小，降低了面板蚀刻产生的异物堆积在定位件的几率，从而在面板蚀刻装置定位面板时，定位件具有更好的定位精度，并且能够避免定位件的边缘堆积过多异物导致对面板产生不良影响的现象发生。
[0017]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0018]图1是现有技术的面板蚀刻装置的结构示意图；
[0019]图2是本技术实施例的面板蚀刻装置的结构示意图。
[0020]图3是本技术实施例的第一种支撑件的俯视图；
[0021]图4是本技术实施例的第二种支撑件的俯视图。
[0022]附图标记：
[0023]图1中：
[0024]1’
、上电极；2
’
、下电极；3
’
、陶瓷件；4
’
、定位件；5
’
、面板；
[0025]图2
‑
图4中：
[0026]1、上电极；
[0027]2、下电极；
[0028]3、陶瓷件；31、第一连接孔；
[0029]4、定位件；41、第二连接孔；
[0030]5、支撑件；51、第一连接部；52、第二连接部；6、面板。
具体实施方式
[0031]参考下面结合附图详细描述的实施例，本技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本技术不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本技术的公开并且使本领域技术人员充分地了解本技术的范围，并且本技术仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
[0032]以下，参照附图2来详细描述本技术的面板蚀刻装置的具体结构。
[0033]本技术公开了一种面板蚀刻装置，如图2所示，该面板蚀刻装置包括上电极1、下电极2和连接在下电极2上的陶瓷件3，下电极2上放置有面板6，面板蚀刻装置还包括定位件4和支撑件5，定位件4设在面板6的外侧以定位面板6，且定位件4环绕面板6设置，即面板6的前后左右均设有一个定位件4。支撑件5设置在定位件4和陶瓷件3之间。以支撑件5的轴线
为界，支撑件5的中心朝向支撑件靠近下电极2的一端的宽度逐渐减小，这里的宽度是指图3以及图4中的H所代表的尺寸。
[0034]可以理解的是，在本实施例中，定位件4通过支撑件5连接在陶瓷件3上，支撑件5将定位件4和陶瓷件3间隔设置，在面板6蚀刻过程中，产生的异物就能够从支撑件5的表面划过，从而降低了面板6蚀刻产生的异物堆积在定位件4的几率。
[0035]与此同时，本实施例中的支撑件5以自身的轴线为界，靠近下电极2的一侧的宽度逐渐减小。也就是说，支撑件5的横截面靠近下电极2的一侧为一个宽度逐渐减小的楔形，这种形状的阻力较小。由此，当面板6蚀刻产生的异物从支撑件5的周面划过时受到的阻力更小，进一步降低了面板6蚀刻产生的异物堆积在定位件4的几率，从而在面板蚀刻装置定位面板6时，定位件4具有更好的定位精度，并且能够避免定位件4的边缘堆积过多异物导致对面板6产生不良影响的现象发生。
[0036]在一些实施例中，如图3所示，以支撑件5的轴线为界，支撑件5的中心朝向支撑件5背离下电极2一段的宽度逐渐减小。可以理解的是，根据前文所述的支撑件5的横截面靠近下电极2的一侧为一个宽度逐渐减小的楔形，从而降低了面板6蚀刻产生的异物划过支撑件5时受到的阻力，但是如果支撑件5的背离下电极2的一侧的宽度逐渐增大，就使得整个支撑件5的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种面板蚀刻装置，包括下电极和连接在所述下电极上的陶瓷件，所述下电极上放置有面板，其特征在于，所述面板蚀刻装置还包括：定位件，所述定位件设在所述面板的外侧以定位所述面板；支撑件，所述支撑件设置在所述定位件和所述陶瓷件之间；其中：以所述支撑件的轴线为界，所述支撑件的中心朝向所述支撑件靠近所述下电极的一端的宽度逐渐减小。2.根据权利要求1所述的面板蚀刻装置，其特征在于，以所述支撑件的轴线为界，所述支撑件的中心朝向所述支撑件背离所述下电极一端的宽度逐渐减小。3.根据权利要求2所述的面板蚀刻装置，其特征在于，所述支撑件的横截面的两端为直径相等的半圆。4.根据权利要求3所述的面板蚀刻装置，其特征在于，所述半圆的直径为r1，1mm≤r1≤2mm。5.根据权利要求1所述的面板蚀刻装置，其特征在于，所述支撑件的横截面的两端为直径不相等的两个半圆，其中，直径...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘洋，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：