刻蚀设备制造技术

本申请实施例提供一种刻蚀设备，包括依次连接的刻蚀腔室、第一真空泵、第一排气管、第二排气管以及第二真空泵，第二排气管可拆卸地连接于第一排气管与第二真空泵之间；其中：第二排气管具有连通的第一收集管段和第二收集管段，第一收集管段具有第一端口和第二端口，第一端口与第一排气管连接；第二端口与第二收集管段相连；沿着第一端口向第二端口的方向，第一收集管段的横向截面尺寸逐渐减小。本申请提供的刻蚀设备，使废气中的可沉积物更容易附着在第二排气管的内侧壁上，在对刻蚀设备进行保养时，仅需对第二排气管进行拆卸、清理和安装，单人即可完成排气管路的维护工作，减少了人力成本和维护时间。成本和维护时间。成本和维护时间。

【技术实现步骤摘要】
刻蚀设备


[0001]本申请涉及半导体制备
，例如涉及一种刻蚀设备。

技术介绍

[0002]目前，在半导体制造过程中，刻蚀工艺是非常重要的加工工艺。在刻蚀设备、比如半导体金属刻蚀设备中，结合图1所示，刻蚀腔室中产生的废气，依次经过分子泵(Turbo Molecular Pump)、排气管路和干泵(Dry Pump)，最后进入到废气处理装置。
[0003]在上述过程中，废气中的某些物质不可避免的会沉积在金属材质的排气管路侧壁上，若不定期处理，则会造成排气管路堵塞。为此，需要定期对刻蚀设备进行维修保养，整体拆卸排气管路并进行彻底清理后重新安装。这样不仅会影响产能，而且还会严重影响刻蚀腔室内的低真空环境，维修保养之后再次启动刻蚀设备需要经历一段刻蚀工艺的不稳定期，严重影响产品良率。
[0004]已有研究表明，金属刻蚀产生的废气中的可沉积物在高温环境下(如200℃)不易在金属材质的排气管路内壁附着，而在低温环境下(如22℃)的附着性较强。为此，现有的一种解决方案是在整个排气管路外侧设置加热装置，使其中的废气始终处于较高温度下而经排本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀设备，其特征在于，包括依次连接的刻蚀腔室、第一真空泵、第一排气管、第二排气管以及第二真空泵，且第二排气管可拆卸地连接于第一排气管与第二真空泵之间；其中：所述第二排气管具有连通的第一收集管段和第二收集管段，所述第一收集管段具有第一端口和第二端口，所述第一端口与所述第一排气管连接；所述第二端口与所述第二收集管段相连；沿着第一端口向第二端口的方向，所述第一收集管段的横向截面尺寸逐渐减小，以使经由刻蚀腔室排出的废气中的可沉积物能够附着在所述第二排气管的内侧壁。2.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述第一端口的口径大于或等于所述第二端口的口径的1.5倍，所述第一端口的口径不大于所述第二端口的口径的2倍。3.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述第二收集管段的长度是所述第一收集管段的长度的2倍以上。4.根据权利要求1
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3任一项所述的刻蚀设备，其特征在于，沿着所述第二排气管中心线所在的截面，所述第一收集管段呈梯形。5.根据权利要求1

【专利技术属性】
技术研发人员：孙康，窦强，王金福，王涛，武长炜，
申请(专利权)人：北京燕东微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：