介质滤波器、介质双工器以及通讯装置制造方法及图纸

一种介质滤波器具有一个介质块且该介质块包括至少四个相互相邻的谐振通孔。多路开槽排列在至少四个谐振通孔的三个相邻通孔附近。多路开槽具有一个形成在其内部表面上的内导体，以便于在三个相邻通孔的各自开路端面附近的一个第一区域和多路开槽的内导体之间产生一个第一电容。形成一个台阶，从而在至少四个谐振通孔的两个通孔的各自开路端面附近的一个第二区域和处在该台阶内的一个外导体之间产生一个第二电容。采用该多路开槽和三个相邻通孔，可以在通带的较低频率一边产生一个衰减峰值，以及采用两个通孔和在台阶内的外导体，可以在通带的较高频率一边产生一个衰减峰值。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种适用于高频电路的介质滤波器和介质双工器，以及一种采用介质滤波器或介质双工器的通讯装置。
技术介绍
以下三个出版物中披露了介质滤波器在一个介质块中具有多个谐振线。日本未审查专利申请公告No.9-64616披露了一种介质滤波器，在这种介质滤波器中，在其中形成导电膜的凹槽(狭槽)设在介质块的开端面上，以便于电容性耦合相互的谐振线。日本未审查专利申请公告No.5-335808披露了一种介质滤波器，在这种介质滤波器中，在其中形成导电膜的开槽设在介质块的端面上，从而在接近于谐振线开端的区域和开槽之间产生一个电容。日本未审查专利申请公告No.10-256807披露一种介质滤波器，在这种介质滤波器中，各个谐振通孔具有一个台阶形式。一个大直径孔的中心轴与一个小直径孔的中心轴存在较大的偏差，以形成一个弯曲的谐振通孔。通过通孔的相互耦合以及根据需要在通孔之间设置间距所产生的衰减峰值允许将衰减峰值的频率控制在所要求的频率。图9A至9D显示了一例公知的介质双工器的结构；图9A是该双工器的俯视图；图9B是介质双工器的前视图，图9C是该介质双工器的仰视图，以及图9D是该介质双工器的右视图。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种介质滤波器，其特征在于，它包括：　　　　一个介质块；　　　　至少四个谐振通孔，这些谐振通孔在所述介质块中相互相邻且平行，各个谐振通孔在其内部表面具有各自形成的导体；　　　　一个外导体，它形成在所述介质块的至少一个外部表面上；　　　　一个多路开槽，它形成在所述介质块中且具有一个形成在其内部表面上的内导体，所述内导体与所述外导体相分离，所述多路开槽排列在接近于至少四个谐振通孔中的三个相邻的谐振通孔，从而在所述三个相邻谐振通孔的各自开路端面附近的一个第一区域和所述多路开槽的内导体之间产生一个电容；和，　　　　一个台阶，它形成在所述介质块上，所述外导体在所述台阶中延伸，从而在近于至少四个谐振通孔中...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：後川祐之，多田齐，加藤英幸，
申请(专利权)人：株式会社村田制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]