【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术，是关于配置于基板附近的板构件、保持基板的基板保持装置、使基板曝光的曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法。
技术介绍
半导体元件或液晶显示装置等的微元件制程之一的光微影制程中，是采用曝光装置来将形成于光罩上的图案转印至感光性基板上。此曝光装置，具有能保持光罩移动的光罩载台、以及能保持基板移动的基板载台，一边使光罩载台与基板载台逐次移动一边将光罩图案透过投影光学系统转印至基板。在微元件的制造中，为了达成元件的高密度化，于基板上所形成的图案被要求微细化。为了因应此要求，希望曝光装置的进一步的高分辨率化，作为实现该高分辨率化的机构之一，已有提出一种如下述专利文献1所揭示的液浸曝光装置，是使投影光学系统与基板间的曝光用光的光路空间充满液体，再透过投影光学系统与液体来使基板曝光。专利文献1国际公开第99/49504号文本
技术实现思路
当液体透过基板与基板载台间的间隙等渗入基板的背面侧时，即有可能产生各种不良情形。例如当因渗入基板背面侧的液体而浸湿基板背面时，即有可能无法以基板保持具(基板保持装置)良好地保持基板。或者，当使用既定搬送装置来从基板保持具搬出(卸载)...
【技术保护点】
一种基板保持装置，是保持透过液体来曝光的基板，其特征在于，具备：保持部，是保持该基板；既定面，是与保持于该保持部的该基板的侧面透过既定间隙相对向，具有拨液性；以及去角部，是形成于该既定面上部；于该基板侧面设有 具拨液性的拨液区域；该去角部，是设置成与保持于该保持部的该基板的拨液区域相对向。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：长坂博之，藤原朋春，
申请(专利权)人：尼康股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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