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板构件,基板保持装置,曝光装置及曝光方法,以及元件制造方法制造方法及图纸
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基板保持具PH,具备:第1保持部PH1,是保持基板P;板构件T的内侧面Tc,是透过既定间隙A与保持于第1保持部PH1的基板P侧面Pc相对向,具有拨液性;以及去角部C,是设于内侧面Tc上部。于基板P的侧面Pc设有具拨液性的拨液区域,去角部C,...
该专利属于尼康股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过尼康股份有限公司授权不得商用。
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