本发明专利技术提供一种基板处理装置，能更可靠地防止处理液（雾滴）侵入相邻的处理室。该基板处理装置具有对基板（Ｓ）实施药液处理的湿式处理部（２）和对基板（Ｓ）实施作为前处理的干式清洗等处理的前处理部（１）。各处理部（１、２）的处理室（１０、２０）经由开口部（１１ａ）而连通，该开口部（１１ａ）可通过设置在前处理部（１）一侧的闸门装置（１４）和设置在湿式处理部（２）一侧的闸门装置（２４）进行开闭。此外，在前处理部（１）的处理室（１０）内配备有在开口部（１１ａ）处于打开状态时对开口部（１１ａ）向湿式处理部（２）一侧喷出空气的空气喷嘴（１９ａ、１９ｂ）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种向LCD (液晶显示装置)、PDP (等离子显示器)等FPD (平板显示器)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、半导体基板等基板供给各 种处理液来实施处理的基板处理装置。
技术介绍
一直以来，公知有如下装置，g卩，具有多个处理室，在运送LCD、 PDP 用玻璃基板等基板的同时，在各处理室内向基板供给处理液，由此对基板实 施预定的工艺处理。例如，在专利文献1中记载有如下装置相邻地设置通 过给基板供给剥离液来剥离抗蚀剂覆膜的剥离处理室和对剥离处理后的基板 进行清洗的清洗处理室。在这种装置中，伴随着处理而充满处理室的雾状的处理液通过基板运送 用的开口部侵入到相邻的处理室(称作相邻处理室)，会给该相邻处理室的 基板处理带来各种影响。例如，在上述专利文献1的装置中，回收并再使用 (循环使用)在剥离处理室中使用的剥离液，但是，此时，若清洗液的雾滴 从清洗处理室侵入剥离处理室，则剥离液的质量就会恶化。因此，通常，例如专利文献2所示，在处理室之间设置闸门，通过仅在 运送基板时才打开开口部来防止雾滴侵入相邻处理室。专利文献l: JP特开2004—146414号公报。专利文献2: JP特开2000 — 58501号公报。但是，即使是在处理室之间设置了闸门的装置，由于在运送基板过程中 使开口部开着，所以雾滴依然会容易地通过开口部而侵入相邻处理室，从而， 在防止雾滴侵入相邻处理室的问题上还存在改进的余地。而且，考虑到在开口部关闭时附着于闸门上的雾滴在闸门动作时会飞散 到相邻处理室内，特别是，在专利文献2的结构中，由于闸门是绕水平轴转 动而倒向处理室内一侧的可倒式结构，所以所附着的雾滴等在闸门动作时(特 别是打开时)容易飞散，因此这一点也需要改善。另外，在多个处理室相邻的装置中，雾滴从其中一侧的处理室向另一侧 的处理室侵入会成为问题，而相反却是在某种程度上容许的情况较多。例如， 在专利文献l的装置中，在防止剥离液恶化的基础上，必须阻止雾滴从清洗 处理室侵入剥离处理室，相反，即剥离液(雾滴)向清洗室的侵入就不会成 为什么问题。从而，在防止雾滴侵入的对策方面，优选在考虑了这种情况的 基础上来谈对策。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能更有效地防止 雾状处理液侵入相邻的处理室的基板处理装置。为了解决上述问题，本专利技术的基板处理装置的基本结构具有向基板供给 处理液并对基板实施规定的湿式处理的湿式处理室，并且，基板除了装置通 过形成在所述湿式处理室的隔壁上的基板运送用的开口部，对所述湿式处理 室进行基板的运入运出，而且具有闸门装置，其用于开闭所述开口部；气 流形成装置，其包括配置在所述湿式处理室的室外的喷嘴构件，并且至少在 所述开口部开口状态时，使气体从所述喷嘴构件喷出，由此形成朝向所述开 口部的气流。根据这种基板处理装置，在闸门装置使开口部处于打开状态时，即，主 要是在基板通过开口部时，通过使气体从喷嘴构件喷出，在湿式处理室外形 成朝向所述开口部的气流，利用其气压防止通过了所述开口部的处理液(雾 滴)从湿式处理室内向室外流出。因此，与仅利用闸门装置来开闭开口部的 现有装置相比，能够更可靠地防止雾滴流出。另外，在所述基板处理装置中，作为所述闸门装置具有第一闸门装置和 第二闸门装置，所述第一闸门装置具有从所述湿式处理室的室内一侧开闭所 述开口部的闸门主体，所述第二闸门装置具有从所述湿式处理室的室外一侧 开闭所述开口部的闸门主体，所述气流形成装置从所述喷嘴构件向通过所述 开口部的基板供给气体，由此在该基板的表面上形成从湿式处理室的室外一 侧向室内一侧流动的气流。根据所述结构，由于在湿式处理室内还配备有闸门装置(第一闸门装置)， 所以雾滴很难附着在湿式处理室以外的闸门装置(第二闸门装置)的闸门主体上。因此，能够有效地防止附着在第二闸门装置上的雾滴或者干燥物在闸 门装置动作时飞散到湿式处理室的室外侧。并且，在基板通过开口部时，通 过气流形成装置在基板表面上形成朝向湿式处理室的室内一侧流动的气流， 所以更可靠地防止了雾滴从湿式处理室流出。作为具体的结构，例如具有相邻处理室，所述相邻处理室经由所述开口 部而与所述湿式处理室连通，并且对基板实施所述湿式处理的前处理或者后 处理；在这种情况下，在该相邻处理室配置有所述第二闸门装置以及所述喷 嘴构件。根据所述结构，能够有效地防止当闸门动作时雾滴飞散到相邻处理室内 或者在运送基板过程中雾滴通过所述开口部侵入相邻处理室内。另外，在所述那样的基板处理装置中，还具有闸门控制装置，所述闸门 控制装置在通过所述闸门主体关闭所述开口部的关闭状态和通过使所述闸门 主体退避到规定的退避位置而打开所述开口部的打开状态之间切换控制所述 各闸门装置的驱动状态，所述闸门控制装置在基板通过所述开口部时，在将 所述第一闸门装置从关闭状态切换到打开状态之前，将所述第二闸门装置从 关闭状态切换到打开状态。根据所述结构，在运送基板时，由于与湿式处理室的室内一侧的第一闸 门装置相比室外一侧的第二闸门装置总是先切换到打开状态，所以能够有效 地防止雾滴附着到第二闸门装置的闸门主体上。此时，优选地还具有控制所述气流形成装置的气流形成控制装置，所述 气流形成控制装置与第一闸门装置从关闭状态向打开状态切换的动作同步而 开始供给气体。根据所述结构，由于在打开开口部的同时开始供给气体，所以能够更有 效地防止雾滴从湿式处理室流出。此外，优选地在上述那样的基板处理装置中，在所述各闸门装置中的至 少第二闸门装置构成为通过使所述闸门主体沿所述隔壁的壁面滑动来开闭所 述开口部的结构。这样，根据使闸门主体沿隔壁的壁面滑动的结构，闸门主体不会像所谓 的可倒式开闭结构那样剧烈摇动，因此，即使雾滴附着在闸门主体上，也很 难引起雾滴等飞散。此外，在具有与湿式处理室相邻的相邻处理室的基板处理装置的情况下， 优选地所述相邻处理室还具有在该处理室内以包围所述开口部的附近的方 式形成的预备室；对预备室内的环境进行排气的预备室排气装置。根据所述结构，伴随着第二闸门装置打开开口部的打开动作，附着在闸 门主体上的雾滴飞散或者雾滴通过开口部从湿式处理室一侧侵入相邻处理室 侧的情况下，所述雾滴会迅速地从预备室排出到外部。另外，在本专利技术的基板处理装置中，对上述基本结构也可以添加如下的 结构。即，作为所述湿式处理室具有在基板运送方向上并列的第一处理室以 及第二处理室，在各处理室中使用相互不同的处理液对基板按顺序实施湿式 处理，并且所述相互不同的处理液之间的关系是要求在处理基板处理时抑制 在其中一种处理液中混入另一种处理液的情况的关系，在所述第一处理室和 所述第二处理室之间设置有中间室，作为所述开口部，在所述第一处理室和 中间室的隔壁上设置有第一开口部，在所述中间室和第二处理室的隔壁上设 置有第二开口部，并且作为所述闸门装置设置有分别开闭所述第一、第二开 口部的闸门装置，所述气流形成装置构成为，在所述中间室具有所述喷嘴构 件，通过使气体从所述喷嘴构件喷出，从而形成朝向对象开口部的气流，所 述对象开口部是所述第一开口部以及第二开口部中的一个的开口部，并且将 位于使用所述另一种处理液的处理室与中间室之间的开口部作为该对象开口 部，还设置有中间室排气装置，所本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板处理装置，具有向基板供给处理液并对基板实施规定的湿式处理的湿式处理室，通过形成在所述湿式处理室的隔壁上的基板运送用的开口部，对所述湿式处理室进行基板的运入运出，其特征在于，具有： 闸门装置，其用于开闭所述开口部； 气流形成装置，其包括配置在所述湿式处理室的室外的喷嘴构件，并且至少在所述开口部处于开口状态时，使气体从所述喷嘴构件喷出，由此形成朝向所述开口部的气流。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：上代和男，松井久明，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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