本发明专利技术系揭露一种用以处理基板的新式设备。具有４个环境隔离室的多层式负载锁定室系与具有机械组件的传送室接合。机械组件具有二个臂手，当机械组件顺着其轴转动时，各个臂手可水平地移动。臂手可延伸到负载锁定室的隔离室中而自下方隔离室接收基板、传送基板至处理室、接着将基板放置到上方隔离室。负载锁定室中的隔离室可具有枢接上盖，其可打开以进入隔离室内部。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的实施例大体上是关于在环境控制氛围下连续执行多次基板处理 的设备。
技术介绍
基板产量一直是半导体处理的挑战。技术要精进，需持续地有效处理半导 体基板。群集工具(cluster tool)已发展做为同时处理多个基板且不破真空状 态的有效手段。不像因处理单一基板后将基板传送到另一处理室而接触大气， 多个处理室可连接至共通的传送室，如此当于一处理室中处理完基板后，仍可 在真空状态下将基板移到另一连接同一传送室的处理室。群集工具的另一好处为，可在群集工具的不同处理室中同时处理多个基板。当一基板离开处理室并传送到另一处理室后，则可将第二个基板置入第一 处理室中。因此，可在群集工具内进行连续处理来同时处理不同基板。为进入传送室，基板先经过负载锁定室(load lock chamber)。负载锁定 室可于处理基板前加热基板。完成群集工具中所有的基板处理程序后，基板传 回到负载锁定室，且可以由此离开群集工具系统。因此，群集工具极有利于提高基板产量。当然也不断地期望能提高基板产 量。故此技艺需要提高用以连续进行多个基板处理的设备的基板产量。
技术实现思路
本专利技术大致上包含一多层式负载锁定室、 一传送室及一适于接合上述两者 的机械臂。多层式负载锁定室具有4个环境隔离室，且可接合容纳有机械组件 的传送室。机械组件具有二个臂手，当机械组件顺着其轴转动时，臂手可独立 地水平与垂直移动。机械臂系设置以利用各自臂手而进入负载锁定室的上方室 及下方室。在一实施例中，揭露一负载锁定室。负载锁定室包括单一室体，其内具有 第一、第二、第三、和第四环境隔离室。第一与第二室为侧向分隔设置。第三 与第四室为侧向分隔设置，且位于第一与第二室下方。各环境隔离室内具有一 基板支撑件。在另一实施例中，揭露一传送室。传送室包含一主体，其具有负载锁定室 接口与中央腔体。机械组件系设置于腔体中。多个狭缝阀门透过负载锁定室接 口中的开口耦接至传送室主体。在又一实施例中，揭露一包含二个臂手的机械组件。臂手可水平与垂直地 移动。每一臂手包含二基板接收延伸部。各基板接收延伸部可接收一个基板。在再一实施例中，揭露一包含负载锁定室、传送室及设置于传送室内的机 械组件的设备。负载锁定室包括单一室体，其内具有第一、第二、第三、和第 四环境隔离室。第一与第二室为侧向分隔设置。第三与第四室为侧向分隔设置， 且位于第一与第二室下方。各环境隔离室内具有一基板支撑件。附图说明为让本专利技术的上述特征更明显易懂，可配合参考实施例说明，其部分乃绘 示如附图式。须注意的是，虽然所附图式揭露本专利技术特定实施例，但其并非用 以限定本专利技术的精神与范围，任何熟习此技艺者，当可作各种的更动与润饰而 得等效实施例。第l图为设备的平面图，包含负载锁定室、具机械组件于其内的传送室、 和处理室。第2图为本专利技术负载锁定室的工作接口侧的正视图。第3图为本专利技术负载锁定室的截面图。第4图为本专利技术负载锁定室的上视图。第5图为本专利技术传送室的示意图。第6图为传送室的示意图，在此接合负载锁定室。第7图为本专利技术传送机械臂的示意图。第8图为本专利技术传送机械臂的底部示意图。第9图为本专利技术传送机械臂的示意图。为便于了解，图式中相同的组件符号表示相同的组件。某一实施例采用的 组件当不需特别详述而可应用到其它实施例。具体实施例方式本专利技术大致上包含具多层式负载锁定室与传送室的处理设备。多层式负载 锁定室具有4个环境隔离室并接合具机械组件的传送室。在一些实施例中，机 械组件包括二个臂手，当机械组件顺着其轴转动时，各臂手可水平地移动。臂 手可延伸到负载锁定室的下隔离室来接收基板、传送基板到处理室、接着放置 基板到上隔离室。负载锁定室中的各个隔离室包括上盖，其可打开以进入隔离 室内部。本专利技术的实施例可做为群集工具中的传送室、负载锁定室、.及/或传送 机械臂，该群集工具例如美国加州圣克拉拉的应用材料公司(Applied Materials, Inc.)制造的PRODUCER SE处理系统。本专利技术亦可应用至其它处理室、机械 装置、和群集工具，亦包括其它制造商供应的这些设备。第1图为群集工具或处理系统10的一实施例的平面图，包含多层式负载 锁定室100、耦接负载锁定室100的传送室400、和多个处理室16。传送室机 械臂600位于传送室400的中央腔体412中。负载锁定室IOO具有工作接口侧， 基板18将由此带进负载锁定室100而开始进行处理，负载锁定室100亦具有 传送室侧，基板18经处理后将自负载锁定室IOO离开至此。传送室机械臂600 适于在处理室16与负载锁定室100间传送基板。负载锁定室第2-4图绘示根据本专利技术实施例的负载锁定室的不同角度视图。第2图为 根据本专利技术实施例的多层式负载锁定室100的工作接口侧的正视图。第3图为 负载锁定室的截面图。第4图为负载锁定室的上视图。参照第2图，负载锁定 室00包括狭缝阀门102、处理室进入上盖104、狭缝阀门启动器106、进液管 108、上盖锁固机制110、基板升举销启动器112、基板支撑柱114、和处理室 幵口 116。多层式负载锁定室IOO可连续传送基板进出系统。进液管108可供 应氮气。负载锁定室100具有单一室体218。室体218内的第一室220与第二室222为侧向分隔设置。室体218内的第三室224(参见第3图)与第四室226(参见第3 图)为侧向分隔设置，并位于第一室220与第二室222下方。第一室220、第二 室222、第三室224、和第四室226的环境乃彼此隔离，以免交叉污染。基板 支撑件206、 210(参见第3图)置于各室中。如图所示，二上方室220、 222位在 幵口 116内，而二下方室224、 226位在下狭缝阀门102后方。上方室220、 222 可与下方室224、 226分别独立操作，如此上方室220、 222不受下方室224、 226的任何动作影响。另外，各个室可与负载锁定室100中的其它室分别独立 操作(即打开/关闭、减压与排空)，如此各个室将不受负载锁定室100中其它室 的任何动作影响。负载锁定室100具有4个环境隔离室而可减少各个室的内部 体积，进而缩短排空时间，并只需要较小且较便宜的真空泵。因每一室220、 222、 224、 226配有环境彼此隔开的腔室体积，故可使基 板连续移动进出。自往内基板排出的气体将不会接触向外基板。环境隔离室的 体积可各自调整以达往内与向外基板的最大基板产量。另外，由于往内处理室 系与向外处理室隔离，因此向外晶片的污染或交互干扰亦可与往内晶片隔离。在一实施例中，二个下方室224、 226是用于进入的(未处理)基板，上方室 220、 222则是用于离去的基板(已经系统中经过处理)。同一时间可放入二个基 板到下方室224、 226。换言的，可同时分别放入单一基板到各下方室224、 226。 基板接着传出负载锁定室IOO并进入处理系统以进行基板的处理。完成所有处 理程序后，基板经由负载锁定室100的上方室220、 222而离开系统。已处理 和未处理的基板也可移动经过室体218的其它室的组合。狭缝阀门102横向延伸越过负载锁定室IOO的工作接口侧，且分别覆盖二 个水平且贯穿室体218的室开口 116。单一狭缝阀门102是用来密本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种负载锁定室，包含： 单一室体； 第一室与第二室，以侧向分隔关系形成在该室体中； 第三室与第四室，以侧向分隔关系形成在该室体中，且位在该第一室与该第二室下方，该第一室、该第二室、该第三室、和该第四室彼此环境地分隔；以及 基板支撑件，分别位于各个室中。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：RB摩尔，E鲁兰，S桑德，MD塞法堤，
申请(专利权)人：应用材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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