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中央处理器散热装置制造方法及图纸

技术编号:3229312 阅读:160 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术利用冲击喷柱流场(Flow field of impinging jets array)的高传热性能,提供一种中央处理器散热装置。在中央处理器顶端的该装置基座面,均布具有适当深度的弧凹区域数组。在此弧凹散热装置基座面上方适当距离处,设有一开有适当孔径的贯孔板(Orificeplate)来搭配设置在此贯孔区隔板上方的风扇组,进行冲击喷柱冷却。该装置能将外界冷空气依序透过贯孔区隔板中每一贯孔,形成喷柱(Jet),以适当的射角冲击散热装置基座面的弧凹区域,以强化传热和增加冷空气与散热装置基座接触面积的方式,进行强制对流散热,从而保证处理器在正常温度下运行。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种中央处理器散热装置。本技术所述的中央处理器散热装置的第一个方案是在组装于中央处理器顶端的散热装置基座层面,均布有多组具有适当深度的弧凹区域,在其上方适当距离处跨设的区隔喷柱孔板,产生数组喷柱,以适当的角度,冲击对应于散热装置基座的每一个弧凹区域,并配以架设在区隔喷柱孔板顶侧的风扇组进行冷却。这样能适时地将外界冷空气依序透过区隔喷柱孔板中的每一贯孔,产生空气喷柱,冲射位于散热装置基座的弧凹区域;在每一弧凹区域内,通过强化传热和增加冷却空气与散热装置基座接触面积的方式,进行强制对流散热,以有效利用外界带入的冷空气彻底地对散热装置基座实施快速排热,以使处理器能维持在正常温度下运行。本技术所述的中央处理器散热装置的另一方案是在跨设在散热装置基座上方的区隔喷柱孔板中开设有多数道贯孔,并与位于散热装置基座表面所设的每一弧凹区域相对应,根据多种喷柱冲射角度并应用适当的喷柱与弧凹区域偏心量,搭配风扇组,使得外界的冷空气,循着区隔喷柱孔板的每一贯孔,进入散热装置基座的弧凹区域,以偏心或偏角的方式冲射每一弧凹区域,并由此形成分歧,流场于弧凹区域呈径向扩张时,会因为平衡量场的旋转惯量而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中央处理器散热装置,包含有定位基座、散热鳍片、风扇组,其特征在于:在组装于中央处理器顶端的散热装置基座层面均布具有适当深度的弧凹区域数组;在此弧凹散热装置基座面上方适当距离处,设有一个开有适当孔径和适当角度的贯孔数组的区隔喷柱孔 板单元来搭配设置在此穿孔区隔板上方进行数组冲击喷柱冷却的风扇组;该贯孔数组区隔板单元与散热装置基座的每一弧凹区域相对应地开有具有适当偏心方位的贯孔;区隔喷柱孔板单元与散热装置基座之间保持一定间距。

【技术特征摘要】
1.一种中央处理器散热装置,包含有定位基座、散热鳍片、风扇组,其特征在于在组装于中央处理器顶端的散热装置基座层面均布具有适当深度的弧凹区域数组;在此弧凹散热装置基座面上方适当距离处,设有一个开有适当孔径和适当角度的贯孔数组的区隔喷柱孔板单元来搭配设置在此穿孔区隔板上方进行数组冲击喷柱冷却的风扇组;该贯孔数组区隔板单元与散热装置基座...

【专利技术属性】
技术研发人员:张始伟
申请(专利权)人:王廷飞
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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