【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种具有单晶片注入要求的离子注入机晶片盒翻转系统，特别涉及一种该系统中用于束流取样测量的固定法拉第筒装置，属于半导体器件制造领域。
技术介绍
近年来，随着半导体集成电路技术和芯片技术的发展，半导体集成电路制造技术中，集成度越来越高，电路规模越来越大，电路中单元器件尺寸越来越小，对各种半导体工艺设备提出了更高的要求。离子注入机作为半导体离子掺杂工艺线的关键设备之一，也对它提出了很高的要求，要求离子注入机具有整机可靠性好、生产效率高、多种电荷态离子宽能量范围注入、精确控制束纯度、低尘粒污染、整机全自动控制、注片均匀性和平行度好等多种功能和特征。为了满足以上精确控制束注入能量精度要求，就要实现对束流进行取样分析的工作，以获知终端束流大小，从而控制晶片上精确的注入剂量。
技术实现思路
本技术即是针对现有技术中存在的问题而提出的一种用于束流取样测量的固定法拉第筒装置，通过本装置对束流的取样分析，可以获知终端的束流大小，从而控制晶片上精确的注入剂量，是一种具有自冷却效果的，针对靶室终端而设计的用于束流取样测量的固定法拉第筒装置。本技术通过以下技术方案实现一种用于束流取样测量的固定法拉第筒装置，固定法拉第筒包括在一法拉第外腔体内，一法拉第内腔体通过一绝缘瓷固定在法拉第外腔体上、其相互绝缘，在法拉第内腔体和法拉第外腔体之间设置一固定在绝缘瓷上的抑制极，所述抑制极与法拉第内腔体之间保持一定的空隙，法拉第外腔体外固定连接有一水冷板，所述法拉第筒通过水冷板悬挂在起固定整个装置的大法兰下部，大法兰上设有一个起密封作用的O型密封圈。本技术还可以是所述法拉第内腔体为积累电荷的...
【技术保护点】
一种用于束流取样测量的固定法拉第筒装置，其特征在于：固定法拉第筒包括：在一法拉第外腔体（３）内，一法拉第内腔体（２）通过一绝缘瓷（１３）固定在法拉第外腔体（３）上，其相互绝缘，在法拉第内腔体（２）和法拉第外腔体（３）之间设置一固定在绝缘瓷（１３）上的抑制极（４），所述抑制极（４）与法拉第内腔体（２）之间保持一定的空隙，法拉第外腔体（３）外固定连接有一水冷板（１４），所述法拉第筒通过水冷板（１４）悬挂在起固定整个装置的大法兰（７）下部，大法兰（７）上设有一个起密封作用的Ｏ型密封圈（１５）。
【技术特征摘要】
1.一种用于束流取样测量的固定法拉第筒装置，其特征在于固定法拉第筒包括在一法拉第外腔体(3)内，一法拉第内腔体(2)通过一绝缘瓷(13)固定在法拉第外腔体(3)上，其相互绝缘，在法拉第内腔体(2)和法拉第外腔体(3)之间设置一固定在绝缘瓷(13)上的抑制极(4)，所述抑制极(4)与法拉第内腔体(2)之间保持一定的空隙，法拉第外腔体(3)外固定连接有一水冷板(14)，所述法拉第筒通过水冷板(14)悬挂在起固定整个装置的大法兰(7)下部，大法兰(7)上设有一个起密封作用的O型密封圈(15)。2.根据权利要求1所述的用于束流取样测量的固定法拉第筒装置，其特征在于所述法拉第内腔体(2)为积累电荷的金属腔体。3.根据权利要求2所述的用于束流取样...
【专利技术属性】
技术研发人员：易文杰，郭健辉，彭立波，谢均宇，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]
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