【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种相对被处理基板涡旋状地滴下液体进行成膜的液膜形成方法及其应用它的固体膜的形成方法。
技术介绍
在过去由图刻蚀术工艺进行的旋转涂敷方法是将滴下到基板上液体的几乎全部排出到基板外，用剩下的百分之几进行成膜，所使用的药液浪费大，由于被排出的药液多，也给环境带来坏影响。另外，在方形基板或12英寸以上的大口径的圆形基板中，在基板的外周部产生紊乱气流，而使其部分处的膜厚不均匀。作为不浪费地将药液均匀地涂敷在基板整面上的方法，在日本特开平2-220428号公报中公开了一种由配置成一列的许多的喷嘴滴下抗蚀液，从其后方将气体或液体吹附到成膜面，由此获得均匀的膜的方法。另外，在日本特开平6-151295号公报中是以将在棒上设有许多喷雾口，由此将抗蚀液滴下到基板上，获得均匀的膜为目的的。另外，在日本特开平7-321001号中记载着一种使用形成着用于喷雾抗蚀液的许多喷出孔的喷雾头，使其相对基板移动地进行涂敷的方法。无论这些涂敷装置的哪一个都是采用滴下或沿横向一列配置多个喷雾喷嘴并将其沿基础板表面扫描而获得均匀的膜为目的的。除了这些使用具有多个喷嘴的装置的涂敷方法之外，还有使用一根液体喷出喷嘴，使其在被处理基板上扫描来形成液膜的方法。在该方法中，由于喷嘴的操作方法的缘故，存在每一张基板的处理时间长或药液的使用量大的问题。作为解决这些问题的成膜方法，在日本特开2000-77326号公报中公开了一种螺旋状地供给药液进行涂敷的方法。在其中记载着“作为涂敷条件最好是一边以低速(例如20～30rpm)使晶片旋转、一边使喷嘴单元向该晶片的直径方向(例如X方向)移动来进行涂...
【技术保护点】
一种液膜形成方法，其特征在于，在从滴下部向被处理基板上滴下液体的同时，一边使上述被处理基板旋转、一边以使上述被处理基板每旋转一周所产生的径向的上述滴下部的移动间距变小的方式使上述滴下部从上述被处理基板的内周部朝向该基板的外周部沿径向移动，并且伴随着上述滴下部沿上述被处理基板的径向的移动，为了不由施加在被滴下的液膜上的离心力使被滴下的该液膜移动，而一边渐渐地降低该基板的转速、一边调整从该滴下部滴下的上述液体的供给速度，在上述被处理基板上形成液膜。
【技术特征摘要】
JP 2001-7-26 226471/2001;JP 2001-11-1 336968/20011.一种液膜形成方法，其特征在于，在从滴下部向被处理基板上滴下液体的同时，一边使上述被处理基板旋转、一边以使上述被处理基板每旋转一周所产生的径向的上述滴下部的移动间距变小的方式使上述滴下部从上述被处理基板的内周部朝向该基板的外周部沿径向移动，并且伴随着上述滴下部沿上述被处理基板的径向的移动，为了不由施加在被滴下的液膜上的离心力使被滴下的该液膜移动，而一边渐渐地降低该基板的转速、一边调整从该滴下部滴下的上述液体的供给速度，在上述被处理基板上形成液膜。2.如权利要求1所述的液膜形成方法，其特征在于，上述被处理基板每旋转一周产生的径向的移动间距dR被定为在与其紧接着的前边的移动间距dRO上乘以比1小的变化率a的值。3.如权利要求2所述的液膜形成方法，其特征在于，上述变化率a在滴下部向上述被处理基板的径向移动的过程中被变更1度以上。4.如权利要求1所述的液膜形成方法，其特征在于，上述液体的供给速度一定，以由喷嘴的径向位置R和径向位置的R处的移动间距dR决定的转速被控制上述基板的转速。5.如权利要求1所述的液膜形成方法，其特征在于，在形成了上述液膜后，用上述被处理基板上的最外周部的液膜在离心力的作用下不向上述被处理基板外移动的最大转速以下的转速使上述被处理基板旋转。6.如权利要求5所述的液膜形成方法，其特征在于，上述被处理基板的旋转是将形成着上述液膜的该基板的上方构成为封闭空间地进行。7.如权利要求1所述的液膜形成方法，其特征在于，将从上述滴下部滴下的液体的一部分不供给到上述被处理基板上而将其回收。8.如权利要求6所述的液膜形成方法，其特征在于，在上述被处理基板中心近旁进行从上述滴下部滴下的液体的一部分的回收。9.如权利要求8所述的液膜形成方法，其特征在于，上述被处理基板中心近旁是药液喷出速度及基板转速的至少一方成为控制界限外、在该状态下进行控制时上述液膜的膜厚比所希望的液膜厚的区域。10.回收上述液体的一部分的工程是通过向从上述滴下部滴下的液体的侧面喷射气体，通过使该喷射的气体与该液体冲撞而改变该滴下的液体的滴下轨道，并用药液回收部回收该滴下轨道改变了的液体来进行的。11.如权利要求7所述的液膜形成方法，其特征在于，在用液体回收部回收滴下轨道改变了的液体时，一边吸引上述液体和由于该液体与气体冲撞而产生的雾一边进行。12.一种固体膜的成形方法，其特征在于，包括在从滴下部向被处理基板上滴下液体的同时，一边使上述被处理基板旋转、一边以使上述被处理基板每旋转一周所产生的径向的上述滴下部的移动间距变小的方式使上述滴下部从上述被处理基板的内周部朝向该基板的外周部沿径向移动，并且伴随着上述滴下部沿上述被处理基板的径向的移动，为了不由施加在被滴下的液膜上的离心力使被滴下的该液膜移动，而一边渐渐地降低该基板的转速、一边调整从该滴下部滴下的上述液体的供给速度，在上述被处理基板上形成液膜的工序；将形成该液膜的被处理基板暴露在该液膜中的溶剂的处理温度中的蒸气压以下的压力下干燥除去溶剂而形成固体膜的工序。13.如权利要求12所述的固体膜的形成方法，其特征在于，一边使上述液膜振动一边干燥除去上述溶剂而形成表面基本平坦的固体层。14.如权利要求12所述的固体膜的形成方法，其特征在于，该固体层是应用于曝光工程的反射防止膜、具有感光性的膜、低电介质膜、层间绝缘膜、强电介质膜、电极、图案转印膜、激光吸收膜、磁性体膜中的任何一种膜。15.一种液膜形成方法，其特征在于，包括将一边沿被处理基板的径向移动一边向旋转的被处理基板滴下药液的滴下部的移动区间的一端设定为第一位置的工序；决定上述滴下部的处于上述被处理基板的药液供给区域的最外径时的上述被处理基板的转速及在从该滴下部滴下到被处理基板上的药液轨迹中每单位长度向该基板供给药液的药液供给量qo的工序；为了在上述滴下部处于任意位置时使被处理基板被旋转一周所产生的上述滴下部的径向移动间距变化而设定移动间距的步骤；从第一位置、第一位置处的上述滴下部的移动间距、及上述药液供给量qo决定第一位置处的从上述滴下部的药液供给速度和被处理基板转速的工序；从上述滴下部位于第一位置后使上述被处理基板单位时间旋转了时的旋转角和第一位置处的上述滴下部的移动间距决定单位时间后上述滴下部所处的第二位置的工序；直到第二位置到达移动区间的另一端之前，将第二位置再次设定为新的第一位置，反复进行第一位置处的从上述滴下部供给的供给药液速度和被处理基板转速的决定、单位时间后上述滴下部位所处的第二位置的决定，决定相对于时间的上述滴下部的径向位置、药液供给速度与被处理基板转速的各自的关系的工序；根据上述工序所决定的关系进行滴下部的径向位置、药液供给速度与被处理基板转速的控制，在上述处理基板上进行液膜的形成。16.如权利要求15所述的液膜形成方法，其特征在于，上述移动区间的一端是药液供给开始位置及结束位置中的任何一个，以与其对应地使滴下部的移动区间的另一端成为药液供给结束位置及开始位置的方式决定相对于时间的滴下部的径向位置、药液供给速度与被处理基板转速的分别的关系，根据上述关系进行滴下部的径向位置、药液供给速度与被处理基板转速的控制。17.如权利要求15所述的液膜形成方法，其特征在于，决定上述药液供给速度与被处理基板转速，以使在药液供给速度与被处理基板转速的控制界限内使上述液膜的厚度成为所希望膜厚。18.如权利要求15所述的液膜形成方法，其特征在于，在药液供给速度与被处理基板转速成为上述控制界限外、上述液膜的膜厚比所希望的膜厚厚的区域中，进行控制使得其药液供给速度与被处理基板转速与膜厚即将要变厚之前的最外周的径向位置rc处的药液供给速度、基板转速基本相同，在上述滴下部的径向的气体喷射喷嘴位置r，以用从1中除去在1/rc乘以r的得值的值所示的遮断率C遮断从该滴下部喷出的药液。19.如权利要求18所述的液膜形成方法，其特征在于，上述药液的遮断由从配置在上述滴下部和上述被处理基板之间的气体喷射喷嘴喷射的气体进行；上述气体喷射喷嘴的配置位置的决定包括设定上述气体喷射喷嘴的外径D、和由从一根气体喷射喷嘴喷射的气体沿径向遮断上述药液的药液有效遮断宽度s的工序；将药液供给开始位置或进行药液遮断的最外周位置作为基准位置p，决定使以将从遮断单位宽度P的中间位置ri减去基准位置P的值两倍后的值除药液有效遮断宽度s的值与遮断率C相等那样的中间位置ri，根据被决定中间位置ri决定遮断单位宽度的工序；从药液供给开始位置到进行药液遮断的最外周位置、或从进行药液遮断的最外周位置到药液供给开始位置之间，将与被决定的遮断单位宽度P对应的位置设定为新的基准位置，同时进行上述中间位置ri及遮断单位宽度P的决定的工序；根据被决定的遮断单位宽度P及中间位置ri，决定气体喷射喷嘴的配置位置的工序。20.如权利要求19所述的液膜形成方法，其特征在于，上述药液有效遮断宽度的调整由上述气体喷射喷嘴的内径的变更及气体压力的至少一方的调整进行。21.如权利要求19所述的液膜形成方法，其特征...
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