掩模图形制成方法及半导体装置的制造方法制造方法及图纸

一种由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法，包括：直到前述设计图形的设计结束为止，制成修正库，该修正库记录有由前述设计图形的掩模蚀刻坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组组成的对；获得设计结束后的设计图形的第一个边缘坐标组；将对应于与第一个边缘坐标组一致的边缘坐标组的修正值组记录到前述修正库中，或从该修正库中调出；在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正参数进行的模拟，计算出第一边缘坐标组的修正值组；将由第一边缘坐标组和修正值组构成的对追加记录到前述修正库中；在有记录的情况下，从前述修正库中读取对应的修正值组；和根据计算出的修正值组、或读出的修正值组中的任何一个，对设计图形进行修正，生成掩模图形。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉参考本申请基于在先的日本专利申请No.2001-375025和No.2002-271546，并要求以它们为基础的优先权，日本专利申请No.2001-375025的申请日为2001.9.29，日本专利申请No.2002-271546的申请日为2002.9.18，它们的全部内容在此被结合作为参考。特别是，为了实现微细加工，在最重要的光刻和蚀刻工艺中，配置在所形成的图形的周边的其它图形设计环境对所述图形的尺寸精度产生很大影响。因此，为了减小这些影响，以加工后的尺寸形成所需图形的方式，特开平9-319067号公报、和SPIE Vol.2322(1994)374(Large Area OpticalProximity Corretion using Pattern Based Correction，D.M.Newmark et.al)中公开了在预先设计的图形上附加辅助图形的光近似效果修正(OPCOptical Proximity Correction)或过程近似效果修正(PPCProcessProximity Correction)技术等(以下称为PPC技术)。PPC技术大致分为两种技术以修正值为基础并因此标准化的、根据该标准进行图形修正的标准基础PPC技术；和在通过掩模、光刻、蚀刻工艺之后的晶片上形成可预测精加工形状的模型，利用模拟器计算出修正值的模型基础PPC技术。在标准基础PPC技术中，可以进行高速的修正，但是难以进行高精度的修正，在模拟基础PPC技术中，可以进行高精度修正，但是由于必须进行光学模拟等复杂计算，需要花费修正值计算时间，掩模制造周转时间(TATturn around time)恶化。为了减少修正值计算时间，在上述公知的例子中，提出了以下方法，用以减少修正值计算时间。在图11中表示出了所述方法的一个例子。步骤S501在设计布局中设定基准点，切出以该基准点为中心的一定大小的区域。在上述特开平9-319067号公报中，记述为“根据周围的布局”确定该基准点，在SPIE中，记述为“根据角或线段(corner or line segment)”确定该基准点。步骤S502调用存储有包含在区域内的边缘坐标组(以下称为修整环境)、和与该修正环境对应的修正值的数据库(以下，将该数据库成为修正值库)，在该修正值库中检索是否与在步骤S501中切出的修正值环境相一致。步骤S503如果在一致的情况下，参照对应存储的修正值进行修正。步骤S504如果在存在不一致情况下，则利用由多项式表示光学模拟、过程模拟、或修正值的数学式等，计算修正值。而且，这时的修正环境和对应的修正值被追加到修正值库中。对于全部基准点，进行上述步骤S501～S504的处理，最终制成掩模图形。在该修正方法中，由于将分别与每次出现的修正环境对应的修正值存储在修正值库中，所以如果再次出现相同的环境则不必再进行修正值计算。结果，由于可以尽可能将需要时间的模拟次数限制的较少，所以可以减少掩模图形制造的时间。在实际的装置开发中，最初制成了以装置特性测定和工艺流程设计为目的的小规模设计数据，根据该数据进行掩模制造。然后，开发出批量生产用产品，进而，制成由该产品派生出来的产品(成为派生品)。在这些小规模数据、批量生产用产品和派生品中使用的图形库的种类，不必全都不同而是存在许多重复的图形种类。并且，在装置开发时，随着主要的掩模、光刻、蚀刻等微细加工工艺的条件变化，常常要对掩模进行改版。在这种情况下，在进行现有的掩模图形处理的情况下，在如下所述的方面中，要考虑到掩模制造的TAT延迟问题。首先，在开始制造掩模图形时的修正值库中，由于不包含边缘坐标组和与其对应的修正值，所以通过模拟对输入的边缘坐标组求出修正值的比例非常高。这样，设计图形的规模越大，模拟的修正环境数也增大，成为掩模制造的TAT恶化的原因。并且，在现有方法中，在掩模改版时，有必要再次以新的规则制成修正值库，鉴于上述情况，对于有效使用修正值库的方法的记述并未包括全部情况。如上所述，在开始制造掩模时，在修正值库中未输入边缘坐标组和与其对应的修正值，通过模拟计算出修正值的比例大，存在形成掩模图形的TAT恶化的问题。并且，在现有方法中，在掩模改版时，有必要再次以新的规则制成修正值库，鉴于上述情况，对于有效使用修正值库的方法的记述并未包括全部情况。(1)根据本专利技术的一个例子，由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法，包括直到前述设计图形的设计结束为止，制成修正库，该修正库记录有由前述设计图形的边缘坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组组成的对，获得设计结束后的设计图形的第一个边缘坐标组，将对应于与第一个边缘坐标组一致的边缘坐标组的修正值组记录到前述修正库中，或从该修正库中调出，在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正参数进行的模拟，计算出第一边缘坐标组的修正值组，将由第一边缘坐标组和修正值组构成的对追加记录到前述修正库中，在有记录的情况下，从前述修正库中读取对应的修正值组，根据计算出的修正值组、或读出的修正值组中的任何一个，对设计图形进行修正，生成掩模图形。(2)根据本专利技术的一个例子，由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法，包括准备记录边缘坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组的修正库，获得第一设计结束后的设计图形的第一边缘坐标组，将与第一边缘坐标组一致的边缘坐标组记录到前述修正库中，或从该修正库中调出，在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正图形进行的模拟，计算出第一边缘坐标组的修正值组，将由第一边缘坐标组和修正值组构成的对追加到前述修正库中，在有记录的情况下，从前述修正库中读出对应的修正值组，根据计算出的修正值组、或者读出的修正值组的任何一个对第一设计图形进行修正，生成第一掩模图形，获得与第一设计图形不同的第二设计图形的第二边缘坐标组，与第二边缘坐标组一致的边缘坐标组被记录到前述修正库中，或从该修正库中调出，在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正参数进行的模拟，计算出第二边缘坐标组的修正值组，将由第二边缘坐标组和修正值组构成的对追加记录到前述修正库中，在有记录的情况下，从前述修正库中读取对应的修正值组，根据计算出的修正值组、或读出的修正值组中的任何一个，对第二设计图形进行修正，生成第二掩模图形。(3)根据本专利技术的一个例子，由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法，包括准备设计图形，准备修正图形，准备记录有由边缘坐标组和用于修正边缘坐标组的修正值组构成的对的第一修正库，获得前述设计图形的边缘坐标组，由记录在第一修正库中的信息、以及采用前述修正参数进行的模拟，制成记录有由与前述获得的边缘坐标组一致的边缘坐标组和修正值组构成的对的第二修正库，采用记录在前述第二修正库中的边缘坐标组和修正值组，对前述设计图形进行修正，并生成掩模图形。图2是用于说明根据第一个实施形式的掩模图形的制成方法的流程图。图3是用于说明根据第一个实施形式的掩模图形制成方法的流程图。图4是表示根据第一个实施形式的掩模图形制成方法的原理的图示。图5是表示根据第二个实施形式的修正值库编辑工具的概括结构的框图。图6是表示根据第四个实施形式的掩模数据形成装置的概括结构的框图。图7是表示根据第四个实施形式的掩模数据形成方法的流本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法，包括： 直到前述设计图形的设计结束为止，制成修正库，该修正库记录有由前述设计图形的边缘坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组构成的对， 获得设计结束后的设计图形的第一个边缘坐标组， 将对应于与第一个边缘坐标组一致的边缘坐标组的修正值组记录到前述修正库中，或从该修正库中调出， 在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正参数进行的模拟，计算出第一边缘坐标组的修正值组， 将由第一边缘坐标组和修正值组构成的对追加记录到前述修正库中， 在有记录的情况下，从前述修正库中读取对应的修正值组， 根据计算出的修正值组、或读出的修正值组中的任何一个，对设计图形进行修正，生成掩模图形。

【技术特征摘要】
JP 2002-9-18 271546/2002;JP 2001-9-29 375025/20011.一种由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法，包括直到前述设计图形的设计结束为止，制成修正库，该修正库记录有由前述设计图形的边缘坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组构成的对，获得设计结束后的设计图形的第一个边缘坐标组，将对应于与第一个边缘坐标组一致的边缘坐标组的修正值组记录到前述修正库中，或从该修正库中调出，在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正参数进行的模拟，计算出第一边缘坐标组的修正值组，将由第一边缘坐标组和修正值组构成的对追加记录到前述修正库中，在有记录的情况下，从前述修正库中读取对应的修正值组，根据计算出的修正值组、或读出的修正值组中的任何一个，对设计图形进行修正，生成掩模图形。2.如权利要求1所述的掩模图形制成方法，前述修正库的制成如下，获得在设计过程中的前述设计图形的边缘坐标组，利用基于预先确定的修正参数的模拟，计算出用于修正前述边缘坐标组的修正值组，将由计算出的修正值组和前述边缘坐标组构成的对记录到修正库中。3.如权利要求1所述的掩模图形制成方法，前述修正库的制成如下，获得采用前述设计图形的各标准单元图形或各宏单元的边缘坐标组，利用采用预先确定的修正参数的模拟，计算出用于修正前述边缘坐标组的修正值组，将前述边缘坐标组和前述修正值组记录到前述修正值库中。4.如权利要求1所述的掩模图形制成方法，前述修正值的计算，是在光学模拟和过程模拟中，至少进行光学模拟来进行的。5.如权利要求1所述的掩模图形制成方法，前述第一边缘坐标组的获得如下，根据预先确定的标准在前述设计图形中设定基准点，求出包含在以设定的基准点为中心的区域中的图形的边缘坐标。6.一种由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法，包括准备记录边缘坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组的修正库，获得第一设计结束后的设计图形的第一边缘坐标组，将与第一边缘坐标组一致的边缘坐标组记录到前述修正库中，或从该修正库中调出，在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正参数进行的模拟，计算出第一边缘坐标组的修正值组，将由第一边缘坐标组和修正值组构成的对追加到前述修正库中，在有记录的情况下，从前述修正库中读出对应的修正值组，根据计算出的修正值组、或者读出的修正值组的任何一个对第一设计图形进行修正，生成第一掩模图形，获得与第一设计图形不同的第二设计图形的第二边缘坐标组，与第二边缘坐标组一致的边缘坐标组被记录到前述修正库中，或从该修正库中调出，在无记录的情况下，通过根据预先确定的修正参数进行的模拟，计算出第二边缘坐标组的修正值组，将由第二边缘坐标组和修正值组构成的对追加记录到前述修正库中，在有记录的情况下，从前述修正库中读取对应的修正值组，根据计算出的修正值组、或读出的修正值组中的任何一个，对第二设计图形进行修正，生成第二掩模图形。7.如权利要求6所述的掩模图形制成方法，前述第二设计图形是对第一设计图形的一部分进行改变而成的设计图形。8.如权利要求6所述的掩模图形制成方法，前述修正值组，是通过在光学模拟和过程模拟中，至少进行光学模拟而计算出来的。9.如权利要求6所述的掩模图形制成方法，前述修正库的准备如下，到前述第一设计图形的设计结束为止，预先形成记录有包含在第一设计图形中的第一边缘坐标组和修正值组的前述修正库。10.如权利要求9所述的掩模图形制成方法，前述修正库的制作如下，对设计过程中的第一设计图形设定...

【专利技术属性】
技术研发人员：小谷敏也，田中聪，井上壮一，小林幸子，市川裕隆，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：JP[日本]