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掩模图形制成方法及半导体装置的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3214249
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一种由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法,包括:直到前述设计图形的设计结束为止,制成修正库,该修正库记录有由前述设计图形的掩模蚀刻坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组组成的对;获得设计结束后的设计图形的第一个边缘坐标组;将对应于与...
该专利属于株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝授权不得商用。
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