非易失存储单元的擦除方法技术

本发明专利技术涉及一种非易失存储单元的抹除方法，非易失存储单元具有基底、第一源极／漏极以及第二源极／漏极，第一源极／漏极与第二源极／漏极之间具有信道区，信道区上具有栅极，而栅极与通道区之间具有位于第一绝缘层以及第二绝缘层之间的非导电性电荷捕捉材料，非易失存储单元的抹除方法包括下列步骤。首先，执行热空穴抹除程序，利用注入热空穴至非导电性电荷捕捉材料以移除储存于非导电性电荷捕捉材料的第一电子，此时还有部分空穴存在于第二绝缘层。接着，执行修补编程程序以移除存在于第二绝缘层的空穴。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体存储装置的数据抹除方法，特别涉及一种于栅极具有电荷捕捉介电材料的可编程只读存储器的数据抹除方法。附图说明图1为在美国专利编号5768192中所公开的只读存储器(PROM)单元的结构剖面图，其中，该传统技术利用ONO作为栅极绝缘层。此类型的PROM可利用使电子陷(trap)于氮化硅层20邻近于源极14以及漏极16的两端以执行编程的动作。氮化硅层20位于硅氧化层18以及22之间。由于此类型PROM的材料特性所致，可在单一单元上储存两位的数据。以下描述可编程只读存储器的数据抹除方式。传统数据抹除方法为带对带热空穴抹除法(band-to-band hot-hole erase)。当硅氧化层18甚厚时，例如为20nm或以上，必须提高位于栅极24与N型区14或16之间的偏压，才能使得Flowler-Nordheim隧穿电流流过硅氧化层18。因此，N型区14或16与信道区之间的电压差将比栅极24与N型区14或16之间的电压差先行变大而导致N型区14或16的末端发生电压崩溃。由电子带对带隧穿效应所产生的热空穴由空乏区中的电场所加速，当热空穴得到足够的能量时，可注入至维持于低电位的栅极24并停留于氮化硅层20中。因此，先前储存于氮化硅层20的电子即可与空穴结合，故能将先前所储存的数据消除。然而，传统带对带热空穴抹除法将导致严重的读取错误(read disturb)，原因在于数据抹除时，若有多余的空穴残留于硅氧化层18，会加强短通道侧向电场以及帮助非预期的电子穿越氧化层，造成数据可靠度上的问题。为实现所述的目的，本专利技术提出一种，非易失存储单元具有基底、第一源极/漏极以及第二源极/漏极，第一源极/漏极与第二源极/漏极之间具有信道区，信道区上具有栅极，而栅极与通道区之间具有位于第一绝缘层以及第二绝缘层之间的非导电性电荷捕捉材料，包括下列步骤。首先，执行热空穴抹除程序，利用注入热空穴至非导电性电荷捕捉材料以移除储存于非导电性电荷捕捉材料的第一电子，此时尚有部分空穴存在于第二绝缘层。接着，执行修补编程程序以移除存在于第二绝缘层的空穴。图2为根据本专利技术实施例所述的只读存储器单元的结构剖面图以及执行带对带热空穴抹除时所加的偏压。图3为根据本专利技术实施例所述的只读存储器单元的结构剖面图以及执行修补编程程序时所加的偏压。图4为根据本专利技术实施例所述的非易失内存抹除方法的操作流程图。图5为临界电压与读取时间变化的关系图。符号说明14、34～源极；16、36～漏极；18、22、38、42～硅氧化层； 20、40～氮化硅层；24、44～栅极；32～基底。当欲在PROM存储单元的漏极端写入数据时，在栅极44与漏极36端提供电压以产生垂直以及侧向电场，从而加速沿着信道区移动的电子。当电子的动能增加到足以跨越二氧化硅层38的能障时，其穿过二氧化硅层38并陷于(trapped)氮化硅层40中，如图2中虚线所标示的区域。电子所陷入的区域靠近漏极36，原因在于此时该处的电场最强，因此电子最有可能得到足够的能量以跨越二氧化硅层38的能障。当越多电子被捕捉于氮化硅层40时，此区域的临界电压会逐渐提高。同样的，当要在PROM存储单元的源极端写入数据时，只要将原供应于漏极的电压改供应至源极端即可。因为氮化硅层40并非导电材料，故电子能够陷入于不同的区域，例如氮化硅层40靠近源极34以及漏极36的两端。因此，本专利技术所述的存储单元能够储存一位以上的数据。根据本专利技术实施例所公开的非易失内存抹除方法，先使用带对带热空穴抹除法(band-to-band hot hole erase)。热空穴由带对带隧穿电子效应所产生，并利用位于空乏区的电场所加速。在此，源/漏极36所施加的正偏压为3～10伏特，而施加于栅极的负偏压为-10～0伏特。当热空穴得到足够的能量时，可注入至维持于低电位的栅极44并停留于氮化硅层40中。因此，先前写入动作所储存于氮化硅层40的电子即可与空穴结合，故能将先前所储存的数据消除。然而，因为带对带热空穴抹除法所造成的残留于硅氧化层38的多余空穴，因此导致严重的读取错误(read disturb)。为了解决所述问题，因此本专利技术于执行带对带热空穴抹除法清除数据后，再执行一道修补编程程序(soft programanneal)以克服所述问题。图3为根据本专利技术实施例所述的只读存储器单元的结构剖面图以及执行修补编程程序时所加的偏压。修补编程程序(soft program anneal)直接使残余的空穴脱离或利用施加大电场所产生的隧穿效应而使得电子注入硅氧化层38以与位于硅氧化层38的多余空穴结合以消除的。在此，约9～10伏特的正电压直接至栅极44以移除多余空穴，或驱动位于基底32的电子，使其穿过硅氧化层38以抵销空穴。在此，源极/漏极以及基底的偏压皆为0伏特，而修补编程程序的执行时间约为50ms。另外，将源极/漏极34接地，并提供0～8伏特的电压至源极/漏极36，且提供3～13伏特的电压至栅极44，同样可以达到修补编程的效果。图4为根据本专利技术实施例所述的非易失内存抹除方法的操作流程图。首先，执行预编程(pre-program)以提高各存储单元只临界电压以避免过度抹除(over erasing)(S101)。接着，执行带对带热空穴抹除法以消除储存于存储单元的电子(S102)。此时，存储单元的临界电压降低。接下来，执行抹除验证(verification)动作以确认各存储单元的临界电压皆位于预期的位准(S103)。若未通过验证，则回到步骤S102重新执行数据抹除步骤，直到存储单元的临界电压达到目标位准为止。若通过验证，则执行修补编程程序(soft programanneal)(S104)以消除因为执行带对带热空穴抹除所遗留于存储单元的空穴。根据本实施例，修补编程程序可利用Flowler-Nordheim隧穿效应(F-Ntunneling effect)、热载流子效应、以及二次热载流子效应等来达成。最后，再执行修补编程程序后的验证步骤(S105)以检验修补编程程序是否完成，若未完成，则回到步骤S104重复执行修补编程程序，直到通过S105的验证步骤为止。图5为临界电压ΔVt与读取时间变化的关系图。如图5所示，在执行同样次数的读取测试中，执行过修补编程程序的存储单元的临界电压ΔVt变化量远小于未执行修补编程程序的存储单元，显示根据本专利技术实施例所公开的非易失内存抹除方法已有效解决执行带对带热空穴抹除法所产生的问题。综上所述，本专利技术在热空穴抹除后再增加一道修补编程程序以修复存储单元被热空穴所损坏的区域。在执行修补编程程序的过程中，空穴因为被注入的电子抵销或被施加的电场推离存储单元而消失。若减少留在存储单元里的空穴数目，可有效减少执行读取动作时发生错误的机会以及编程动作时所流失的电荷，并达到较佳的数据保存特性。另外，由于根据本专利技术所述的修补编程程序执行时间短，且电力消耗低，因此容易在现行仪器架构下使用。本专利技术虽以较佳实施例公开如上，然其并非用于限定本专利技术的范围，任何本领域普通技术人员，在不脱离本专利技术的精神和范围内，可做一些的等效变动与修改，因此本专利技术的保护范围以权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非易失存储单元的抹除方法，其特征在于，包括下列步骤： 执行热空穴抹除程序，利用注入热空穴至一非易失存储单元以移除储存于所述非易失存储单元的第一电子，其中尚有部分空穴存在于所述非易失存储单元；以及 执行修补编程程序以移除存在于所述非易失存储单元的空穴。

【技术特征摘要】
US 2002-4-2 10/112,7071.一种非易失存储单元的抹除方法，其特征在于，包括下列步骤执行热空穴抹除程序，利用注入热空穴至一非易失存储单元以移除储存于所述非易失存储单元的第一电子，其中尚有部分空穴存在于所述非易失存储单元；以及执行修补编程程序以移除存在于所述非易失存储单元的空穴。2.如权利要求1所述的非易失存储单元的抹除方法，其特征在于，所述修补编程程序是注入第二电子至所述非易失存储单元而抵销存在于所述非易失存储单元的空穴。3.如权利要求1所述的非易失存储单元的抹除方法，其特征在于，所述修补编程程序是利用施加电场而将存在于所述非易失存储单元的空穴推离。4.一种非易失存储单元的抹除方法，其特征在于，所述非易失存储单元具有一基底、一第一源极/漏极以及一第二源极/漏极，所述第一源极/漏极与第二源极/漏极之间具有一信道区，所述信道区上具有一栅极，所述栅极与通道区之间具有位于一第一绝缘层以及一第二绝缘层之间的非导电性电荷捕捉材料，所述非易失存储单元的抹除方法包括下列步骤执行热空穴抹除程序，利用注入热空穴至所述非...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶致锴，蔡文哲，卢道政，
申请(专利权)人：旺宏电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]