排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法技术

一种排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，是用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂布面上涂布正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂布法的正型光致抗蚀剂组合物，其中含有（Ａ）聚苯乙烯换算重均分子量（Ｍｗ）在６０００以上的碱溶性酚醛清漆树脂（Ｃ）含萘醌二迭氮基化合物以及（Ｄ）有机溶剂。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种适用于排出喷嘴式涂布法的正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法。
技术介绍
以往，在使用小型玻璃基板的液晶显示元件制造领域中，作为抗蚀剂涂布方法，使用的是在基板的中央滴下抗蚀剂组合物后进行旋转的方法(下述非专利文献1)。滴在中央后旋转的涂布法中，尽管可以获得良好的涂布均匀性，但是例如在1m×1m级的大型基板的情况下，旋转(spin)时被甩掉而废弃的抗蚀剂量相当多，而且还出现因高速旋转而产生基板破裂或难确保生产节拍时间(tact time)的问题。再有，滴在中央后旋转的方法中，由于涂布性能依赖于旋转时的旋转速度和抗蚀剂的涂布量，因此如果将该方法适用于大型化的第5代基板(1000mm×1200mm～1280mm×1400mm左右)，则找不到能获得必要的加速度的通用电动机，那么如果特别定购上述的电动机就存在零件成本增多的问题。另外，即使基板尺寸和装置尺寸大型化，例如对±3％的涂布均匀性、60～70秒/张的生产节拍时间等涂布工序中的性能的要求大致不变，因此在滴在中央后旋转的方法中，很难满足涂布均匀性以外的要求。从如上所述的现状考虑，作为能够适用于第4代基板(680mm本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，是用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂布面上涂布正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂布法的正型光致抗蚀剂组合物，其中含有（Ａ）聚苯乙烯换算重均分子量在６０００以上的碱溶性酚醛清漆树脂、（Ｃ）含萘醌二迭氮基化合物、以及（Ｄ）有机溶剂。

【技术特征摘要】
JP 2003-4-4 2003-1020481.一种排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，是用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂布面上涂布正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂布法的正型光致抗蚀剂组合物，其中含有(A)聚苯乙烯换算重均分子量在6000以上的碱溶性酚醛清漆树脂、(C)含萘醌二迭氮基化合物、以及(D)有机溶剂。2.如权利要求1所述的排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，还含有(B)分子量在1000以下的含酚性羟基化合物。3.如权利要求1所述的排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分含有对于m-甲酚/p-甲酚的投入比为20/80～40/60的混合酚类，使用甲醛作为缩合剂合成的Mw为4000～6000的酚醛清漆树脂(A1)。4.如权利要求1所述的排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分含有对于m-甲酚/p-甲酚的投入比为20/80～40/60的混合酚类，使用甲醛作为缩合剂合成的Mw为5000～10000的、分子量高于所述(A1)的酚醛清漆树脂(A2)。5.如权利要求1所述的排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分含有对于m-甲酚/p-甲酚的投入比为50/50～70/30的混合酚类，使用甲醛作为缩合剂合成的Mw在9000以上的酚醛清漆树脂(A3)。6.如权利要求1所述的排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分含有选自对于m-甲酚/p-甲酚的投入比为20/80～40/60的混合酚类使用甲醛作为缩合剂合成的Mw为4000～6000的酚醛清漆树脂(A1)和对...

【专利技术属性】
技术研发人员：森尾公隆，青木知三郎，加藤哲也，中岛哲矢，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]