光干涉式显示单元的制造方法技术

一种光干涉式显示面板的制造方法，依序形成第一电极与牺牲层于基材上，再在电极与牺牲层中形成开口。接着，在牺牲层上旋涂一第一光阻层并填满开口。以第一微影制造工序图案化第一光阻层而定义出支撑物及支撑物的支撑臂的长短。接着，旋涂至少一第二光阻层于第一光阻层及牺牲层上，以第二微影制造工序图案化第二光阻层形成至少一第二支撑臂。在牺牲层及支撑物上方形成第二电极，一热制造工序使第一与第二支撑臂因应力而产生位移，以改变第一电极与第二电极间的距离。最后，移除牺牲层而得到光干涉式显示单元。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光干涉式显示面板的制造方法，且特别是有关于一种具有支撑臂的支撑物的光干涉式显示面板的制造方法。
技术介绍
平面显示器由于具有体积小、重量轻的特性，在可携式显示设备，以及小空间应用的显示器市场中极具优势。现今的平面显示器除液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)、有机电激发光二极管(OrganicElectro-Luminescent Display，OLED)和等离子显示器(Plasma Display Panel，PDP)等等之外，一种利用光干涉式的平面显示模式已被提出。请参见美国USP5835255号专利，该专利揭露了一可见光的显示单元阵列(Array of Modulation)，可用来作为平面显示器。请参见图1，图1显示了现有显示单元的剖面示意图。每一个光干涉式显示单元100包括两道墙(Wall)102及104，两道墙102、104间由支撑物106所支撑而形成一腔室(Cavity)108。两道墙102、104间的距离，也就是腔室108的长度为D。墙102、104其中之一为一具有光吸收率可吸收部分可见光的部分穿透部分反射层，另一则本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光干涉式显示单元的制造方法，适用于一基材上，该方法至少包含：形成一第一电极于该基材上；形成一牺牲层于该第一电极上；形成至少二开口于牺牲层及该第一电极内并定义出该光干涉式显示单元的位置；形成一第一感光材质层 填满该开口并覆盖该牺牲层；图案化该第一感光材质层以在每一该开口内形成支柱及在该支柱上形成至少一第一支撑层，其中该支柱及该第一支撑层形成一支撑物；形成至少一第二感光材质层于该牺牲层及该支撑物上；图案化该第二感光材质层以 在该第一支撑层上形成一第二支撑层，其中该第一支撑层与该第二支撑层...

【技术特征摘要】
1.一种光干涉式显示单元的制造方法，适用于一基材上，该方法至少包含形成一第一电极于该基材上；形成一牺牲层于该第一电极上；形成至少二开口于牺牲层及该第一电极内并定义出该光干涉式显示单元的位置；形成一第一感光材质层填满该开口并覆盖该牺牲层；图案化该第一感光材质层以在每一该开口内形成支柱及在该支柱上形成至少一第一支撑层，其中该支柱及该第一支撑层形成一支撑物；形成至少一第二感光材质层于该牺牲层及该支撑物上；图案化该第二感光材质层以在该第一支撑层上形成一第二支撑层，其中该第一支撑层与该第二支撑层形成一支撑臂；形成一第二电极于该牺牲层及该支撑臂上；进行一热制造工序处理；以及移除该牺牲层。2.如权利要求1所述的光干涉式显示单元的制造方法，其特征在于，该第一感光材质层及该第二感光材质层为一光阻层。3.如权利要求1所述的光干涉式显示单元的制造方法，其特征在于，图案化该第一感光材质层及该第二感光材质层的方法包括一微影制造工序。4.如权利要求1所述的光干涉式显示单元的制造方法，其特征在于，该热制造工序可以为一硬烤。5.如权利要求1所述的光干涉式显示单元的制造方法，其特征在于，该热制造工序使该支撑臂因应力而产生位移。6.如权利要求1所述的光干涉式显示单元的制造方法，其特征在于，该第二电极为可以产生上下形变的电极。7.如权利要求1所述的光干涉式显示单元的制造方法，其特征在于，该第二电极为可以移动的电极。8.如权利要求1所述的光干涉式显示单元的制造方法，其特征在于，形成该支撑物的材质可以为光阻。9.一种阵列式彩色光干涉式显示单元的制造方法，适用于一基材上，该方法至少包含形成一第一电极于该基材上；形成一牺牲层于该第一电极上；形成至少四开口于牺牲层及该第一电极之内，该些开口定义出一第一光干涉式显示单元、一第二光干涉式显示单元及一第三光干涉式显示单元的位置；形成支柱于每一所述开口内并同时该支柱上形成至少一第一支撑层，其中该第一支撑层形成一第一支撑臂；形成至少一第二支撑层于该第二光干涉式显示单元...

【专利技术属性】
技术研发人员：林文坚，
申请(专利权)人：元太科技工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]