双缝干涉实验演示装置制造方法及图纸

技术编号:7253600 阅读:446 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种双缝干涉实验演示装置包括微型计算机、CMOS图像传感器、半透半反镜、双缝屏、偏振片组、激光笔、图像传感器套筒,图像传感器套筒内一端设置CMOS图像传感器,另一端为半透半反镜,激光笔、偏振片组、双缝屏、半透半反镜、CMOS图像传感器依次共轴设置,CMOS图像传感器与微型计算机连接。本实用新型专利技术适用于理工科高校及各中学的双缝干涉相关实验,可适用明室环境,且功能完善,性价比高。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种双缝干涉实验演示装置,具体地说是一种适用于理工科高校及各中学的双缝干涉实验演示装置。
技术介绍
双缝干涉是物理当中的一个重要知识点,其光强分布规律及双缝间距与干涉条纹间距关系的探讨更是一个重点和难点,双缝干涉相关实验也是理工科高校比较基础的物理实验。在双缝干涉实验演示方面,目前多数以定性观察为主,即以激光为光源,直接照射双缝装置,然后采用人眼在观察屏上观察的方式,其缺点在于难以进行定量的演示与比较;另外也有采用光电传感器,并结合计算机或监视器来进行双缝干涉演示的,但其通常对整个光路部分的器件进行了封装或要求在暗室环境下进行,直观性较差,不易于在课堂教学中推广。
技术实现思路
针对以上问题,本技术的目的是提供一种可适用明室环境、操作简便的双缝干涉实验演示装置。为实现上述目的,本技术采用一种双缝干涉实验演示装置包括微型计算机、 CMOS图像传感器、半透半反镜、双缝屏、偏振片组、激光笔、图像传感器套筒,图像传感器套筒内一端设置CMOS图像传感器,另一端为半透半反镜,激光笔、偏振片组、双缝屏、半透半反镜、CMOS图像传感器依次共轴设置,CMOS图像传感器与微型计算机连接。本技术因本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:许富洋潘日敏彭保进
申请(专利权)人:浙江师范大学
类型:实用新型
国别省市:

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