光干涉式显示单元结构及制造方法技术

本发明专利技术公开了一种光干涉式显示单元结构，具有第一电极及第二电极，两电极间以支撑物支撑，其特征在于，形成不同厚度的第二电极而使第二电极具有不同的应力，借助热工艺使第二电极因应力而产生位移，借此改变第一电极与第二电极间的距离。其制造方法，依序形成第一电极与牺牲层于基材之上，再于第一电极与牺牲层中形成开口。接着，定义出支撑物于开口中，支撑物可选择性地具有至少一支撑臂位于支撑物的顶端及牺牲层之上。在牺牲层及支撑物上方形成不同厚度的第二电极及进行一热工艺。最后，移除牺牲层而得到光干涉式显示单元。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光干涉式显示面板的制造方法，特别是关于一种具有支撑臂的支撑物的光干涉式显示面板的制造方法。
技术介绍
平面显示器由于具有体积小、重量轻的特性，在可携式显示设备，以及小空间应用的显示器市场中极具优势。现今的平面显示器除液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)、有机电激发光二极管(OrganicElectro-Luminescent Display，OLED)和电浆显示器(Plasma Display Panel，PDP)等等之外，一种利用光干涉式的平面显示模式已被提出。请参见美国USP5835255号专利，该专利揭露了一可见光的显示单元数组(Array of Modulation)，可用来作为平面显示器。请参见图1，图1为公知显示单元的剖面示意图。每一个光干涉式显示单元100包括两道墙(Wall)102及104，两道墙102、104间由支撑物106所支撑而形成一腔室(Cavity)108。两道墙102、104间的距离，也就是腔室108的长度为D。墙102、104其中之一为一具有光吸收率可吸收部分可见光的部分穿透部分反射层，另一则为一以电压本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光干涉式显示单元结构，至少包括一第一电极、一第二电极，与该第一电极约成平行排列以及一支撑物支撑于该第一电极与该第二电极之间并形成一腔室，其特征在于，借助该第二电极因厚度变化而产生应力的改变，经热工艺后产生不同的位移量来定义该腔室 的长度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光干涉式显示单元结构，至少包括一第一电极、一第二电极，与该第一电极约成平行排列以及一支撑物支撑于该第一电极与该第二电极之间并形成一腔室，其特征在于，借助该第二电极因厚度变化而产生应力的改变，经热工艺后产生不同的位移量来定义该腔室的长度。2.如权利要求1所述的光干涉式显示单元结构，其特征在于，所述热工艺为一硬烤。3.如权利要求1所述的光干涉式显示单元结构，其特征在于，所述热工艺使该第二电极因应力而产生位移。4.如权利要求1所述的光干涉式显示单元结构，其特征在于，所述第二电极为可以产生上下型变的电极。5.如权利要求1所述的光干涉式显示单元结构，其特征在于，所述第二电极为可以移动的电极。6.如权利要求1所述的光干涉式显示单元结构，特征在于，形成该第二电极的材料可以为金属材料/导电透明材料。7.如权利要求1所述的光干涉式显示单元结构，其特征在于，所述支撑物还可以包括至少一支撑臂位于该第二电极的下方。8.一种数组式彩色光干涉式显示单元的制造方法，适用于一基材之上，其特征在于，该方法至少包含形成一第一电极于该基材之上；形成一牺牲层于该第一电极之上；形成至少四开口于牺牲层及该第一镜面电极之内，这些开口定义出一第一光干涉式显示单元、一第二光干涉式显示单元及一第三光干涉式显示单元的位置；形成支撑物于每一该些开口内；形成至少一第一镜面层于该牺牲层及该支...

【专利技术属性】
技术研发人员：林文坚，
申请(专利权)人：元太科技工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]