曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术确保曝光单元与基板的相对移动的直线性而减少曝光时的误差。一种曝光装置，该曝光装置具备：传送带，其输送基板；吸附部件，其使基板紧贴于传送带的上表面；曝光单元，其对基板进行曝光；以及引导部，其抑制传送带的与输送方向正交的方向上的位移。与输送方向正交的方向上的位移。与输送方向正交的方向上的位移。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置


[0001]本专利技术涉及一种能够适用于在PCB、LCD面板等基板的曝光工序中使用的直接曝光装置的曝光装置。

技术介绍

[0002]已知一种在制造印刷电路板、半导体晶圆、LCD玻璃基板等基板的光刻工序中不使用光掩模的直接曝光装置(无掩模曝光装置)。根据该直接曝光方式，由于不需要光掩模，因此，在成本上有利，另外，能够进行高精度曝光。在直接曝光装置中，通过一边使基板和曝光单元相对移动一边进行曝光，能够实现比光调制元件(DMD(数字微镜器件)等)的投影像大的范围的曝光。
[0003]对于相对移动部件，其通常是使用直线运动引导件使保持长条基板的曝光台进行直线移动的机构。在将图案曝光于比曝光台大(在输送方向上较长)的范围内的情况下，要将较小的范围的图案相互连接起来而进行(例如参照专利文献1)。另外，作为能够将图案连续地曝光于较大的范围内的曝光装置，提出利用带式输送机来输送长条基板的直接曝光装置(例如参照专利文献2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2016－224本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其中，该曝光装置具备：传送带，其输送基板；吸附部件，其使所述基板紧贴于所述传送带的上表面；曝光单元，其对所述基板进行曝光；以及引导部，其抑制所述传送带的与输送方向正交的方向上的位移。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述引导部设于传送带的至少一侧面的附近，与所述传送带的一侧面附近部位接合的导向滑块滑动自如地安装于所述引导部。3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述基板是长条的基板。4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述传送带是绕挂在多个辊之间的环形带。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，所述引导部被设为与所述环形带的一侧面所形成的环状的形状大致相同的形...

【专利技术属性】
技术研发人员：绿川悟，
申请(专利权)人：株式会社奥珂制作所，
类型：发明
国别省市：