曝光装置和对准方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供曝光装置和对准方法。在曝光装置中提供能高精度地检测对准标记等的位置从而高效地进行对准的对准机构。曝光装置(100)具备对准机构(50)，该对准机构具备：多个移动照相机(60)，其能沿着副扫描方向移动；和固定照相机(70)，其固定于照相机基座(52)，在拍摄基板(W)的对准标记(AM)时，利用一个移动照相机(60)和固定照相机(70)分担地拍摄相邻的对准标记(AM)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及能对基板形成图案的曝光装置，尤其是涉及对准(对位)。

技术介绍

1、在曝光装置中，针对印刷电路板等基板，在预先确定的位置形成(描绘)图案。为了高精度地形成图案，要求基板的准确的对位，另一方面，基板由于热处理等而变形，另外，会产生因输送精度等引起的基板的错位。因此，对设置于基板的对准标记进行拍摄，来检测基板的错位。基于检测到的错位量进行对准。

2、例如，将对准标记设置于基板的四角，设置能在与载物台的移动方向(扫描方向)垂直的方向(副扫描方向)上移动的照相机(以下称为移动照相机)，拍摄对准标记而检测标记的错位。基于检测到的错位量校正曝光用的描绘数据(栅格数据)(参照专利文献1、2)。

3、在对基板有规律地形成同一图案而成的多面拼接基板的情况下，针对各图案的形成区域(描绘区域)设置对准标记。另外，为了高精度地形成图案、确认基板的设置朝向等，有时在除了基板四角以外的位置也设置有对准标记。在这样的基板中，相邻的对准标记之间的距离变短，由于照相机本身的尺寸导致的物理上的配置制约，也有时产生难以进行照相机的对准标记拍摄的事态。...

【技术保护点】

1.一种曝光装置，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

8.根据权利要求1～7中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

9.一种对准方法，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的对准方法，其特征在于，>

11.根据权...

【技术特征摘要】

1.一种曝光装置，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的曝光装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：绿川悟，
申请(专利权)人：株式会社奥珂制作所，
类型：发明
国别省市：