抛光设备制造技术

技术编号:3199643 阅读:210 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
该抛光设备能够精确地控制抛光压力,准确地定位压力盘以及均匀地抛光工件。在该抛光设备中,固定盘包括用于将承压流体导入所述的第一流体腔并将抛光头部分压向下的第一压力装置;用于将承压流体导入所述的第二流体腔并将压力盘压向下的第二压力装置;和用于将承压流体导入所述的第三流体腔并将所述的工件压向下的第三压力装置。通过这一结构,将所述工件固定在弹性片元件的下侧,并通过抛光轮对工件的下表面进行抛光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及能够均匀抛光、诸如晶片之类工件的一种抛光设备
技术介绍
许多种的抛光设备是为公知的。通常,抛光设备包括具有上表面的抛光轮,在该抛光轮上粘附抛光垫;具有下表面的固定板,在该固定板上固定工件以将其压在抛光垫上;以及驱动机构,用于将抛光轮对于固定盘做相对移动以对所述工件的下表面进行抛光。在号为3158934的日本专利文件中披露了一种传统的抛光设备。该抛光设备包括一个固定板,该固定板包括主机头部分、位于抛光头部分的支座,所述的支座将需要抛光的工件固定、保持环位于支座外部并与其同轴布置,所述的保持环与所述的抛光垫接触并固定工件的外缘、一个支座压力调整机构以可调整方式将支座压向一个压盘、以及与支座压力调整机构分离的保持环压力调整机构,该保持环压力调整机构以可调整方式将保持环压向所述的压盘。在此抛光设备中,保持环压力调整机构是与支座压力调整机构分离的。因此,能有效地防止工件附近产生的抛光垫的振动,从而能有效地防止对工件外缘的过度抛光。但目前需要对抛光压力进行精确控制以进一步精密地抛光工件。
技术实现思路
为了解决传统的抛光设备的问题而提出本专利技术。本专利技术的一个目的是提供一种抛本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光设备,包括:一个抛光轮,具有一个上表面,一个抛光垫粘附在所述的上表面上; 一个固定盘,具有一个下表面,工件固定在所述的下表面上以将所述的工件压在抛光垫上;以及一个驱动机构,用于对于所述的固定盘相对移动所述的抛 光轮,以抛光所述工件的下表面,其特征在于,所述的固定盘包括:一个盘座;一个抛光头部分,它通过一第一薄膜贴附在所述盘座下侧,并能朝着所述抛光轮移动,所述的抛光头部分具有一压力环,所述压力环位于抛光头部分的下侧,并能朝着 所述抛光轮移动;一个压力盘,用一个第二薄膜附着于该抛光头上并能朝着该抛光...

【技术特征摘要】
JP 2004-3-31 2004-104580;JP 2005-3-2 2005-0568131.一种抛光设备,包括一个抛光轮,具有一个上表面,一个抛光垫粘附在所述的上表面上;一个固定盘,具有一个下表面,工件固定在所述的下表面上以将所述的工件压在抛光垫上;以及一个驱动机构,用于对于所述的固定盘相对移动所述的抛光轮,以抛光所述工件的下表面,其特征在于,所述的固定盘包括一个盘座;一个抛光头部分,它通过一第一薄膜贴附在所述盘座下侧,并能朝着所述抛光轮移动,所述的抛光头部分具有一压力环,所述压力环位于抛光头部分的下侧,并能朝着所述抛光轮移动;一个压力盘,用一个第二薄膜附着于该抛光头上并能朝着该抛光轮移动;一个弹性片元件,它贴附在所述的压力盘的下表面上;一个第一流体腔,它形成于所述的盘座和所述的抛光头部分之间,并通过所述的第一薄膜封闭;一个第二流体腔,它形成于所述的抛光头部分和所述的压力盘之间,并通过所述的第二薄膜封闭;一个第三流体腔,它形成于所述的压力盘下表面和弹性片元件之间;一个第一压力装置,用于将承压流体导入所述的第一流体腔并将所述的抛光头部分压向下;一个第二压力装置,用于将承压流体导入所述的第二流体腔并将所述的压力盘压向下;和一个第三压力装置,用于将承压流体导入所述的第三流体腔并将所述的工件压向下;以及由此,所述的工件被固定在所述的弹性片元件下侧上,同时对所述工件的下表面进行抛光。2.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述的第三压力装置排放第三流体腔中的流体,使所述的弹性片元件具有吸附功能,从而所述的弹性片元件能够吸附并固定所述的工件。3.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,一个垫片贴附在所述的弹性片元件的下表面上,以及所述的工件固定在所述垫片的下侧上。4.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述的抛光头部分为圆柱形,并通过一个隔壁将其垂直地分成一个上圆柱部分和一个下圆柱部分,所述的第一流体腔由伸入所述的上圆柱表面的盘座和封闭所述盘座和上圆柱部分之间一空间的所述第一薄膜构成,和所述的第二流体腔由贴附在所述的下圆柱部分上的所述压力环、配置在所述下圆柱部分上的压力盘、以及封闭所述下圆柱部分和压力盘之间一空间的所述第二薄膜组成。5.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,一个旋转轴与所述的盘座相连,通过旋转旋转轴使所述的盘座旋转,所述的抛光头部分随着所述的第一薄膜一起旋转,以及所述的压力盘随着所述的第二薄膜一起旋转。6.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,一个旋转轴与所述的盘座相连,通过一个第一传动元件接合所述的盘座和抛光头部分,以使所述的抛光头部分上下移动,通过一个第二传动元件接合所述的抛光头部分和压力盘,以使所述的压力盘上下移动,通过旋转旋转轴使所述的盘座旋转,所述的抛光头部分随着所述的第一传递元件一起旋转,以及所述的压力盘随着所述的第二传动元件一起旋转。7.如权利要求6所述的抛光设备,其特征在于,所述的第一传动元件和第二传动元件是销。8.如权利要求4所述的抛光设备,其特征在于,一中心轴垂直地从所述的压力盘的中心延伸,所述的中心轴能够装配在所述盘座的一个轴孔内,从而能够准确地定位所述压力盘并防止所述的压力盘横向振动。9.如权利要求8所述的抛光设备,其特征在于,在所述的中心轴内形成一个与所述的第三流体腔连通的流体通路,以及通过所述的流体通路将承压流体导入所述的第三流体腔内。10.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述的盘座和抛光头部分分别具有接合部,当所述的盘座向上移动时,所述的接合部相互接合,以及所述的接合部是斜面,其能相对所述盘座准确地定位所述的抛光头部分。11.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述的抛光头部分和压力盘分别具有接合部,当所述的盘座向上移动时,所述的接合部相互接合,以及所述的接合部是斜面,其能相对所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:宫小忠一岸田敬实
申请(专利权)人:不二越机械工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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