膜图案的形成方法和有源矩阵基板的制造方法技术

技术编号:3191274 阅读:217 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种不需要对围堰实施表面处理(疏液化处理),由此简化了工序、提高了生产效率的膜图案的形成方法、和由此获得的膜图案以及器件和电光学装置等。该膜图案的形成方法将功能液(X1)配置在基板(P)上来形成膜图案。包括以下工序:在基板(P)上形成与膜图案的形成区域对应的围堰(B);在由围堰划分的区域(34)配置功能液(X1);和对功能液(X1)实施固化处理而形成膜图案。在形成围堰(B)的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接着对其进行曝光、显影,形成图案,然后通过烧结,形成在侧链上具有疏水基,并将硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,作为功能液(X1),使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及膜图案及其形成方法、器件、电光学装置、电子设备以及有源矩阵基板的制造方法。
技术介绍
以往,在半导体集成电路等的微细布线图案(膜图案)的制造中,大多使用光刻法。与之相对,近年来提出了使用液滴喷出法的制造方法。该制造方法通过将包含布线图案形成用功能材料(导电性微粒)的功能液(布线图案用墨水)从液滴喷头喷出到基板上,来将材料配置在图案形成面上,从而形成布线图案,这种方法由于能够对应少量多样化的生产,所以是一种非常有效的方法。可是,近年来,随着构成器件的电路不断向高密度化发展,例如对布线图案的微细化、细线化的要求也越来越高。但是,对于这样的微细布线图案,如果采用基于所述液滴喷出法的制造方法来形成,则特别难以保证其布线宽度的精度。因此,提出了在基板上设置作为分隔部件的围堰,并且,通过实施表面处理而使该围堰呈疏液性,使其它部分呈亲液性的方法。另外,在利用液滴喷出法形成布线图案的情况下,特别是不仅需要对成为布线图案用功能材料的导电性微粒进行烧结,而且还必须在比较高的温度下进行热处理。但是,特别是在使用围堰形成布线图案的情况下,由于通常使用的由有机材料构成的围堰对该热处理的耐性低,所以在热处理时会产生溶融等不良现象。因此,作为尤其是对热处理的耐性高的无机质的围堰,可考虑使用例如专利文献1所示的由感光性聚硅氨烷涂敷膜构成的围堰。特开2002-72504号公报但是,由上述感光性聚硅氨烷涂敷膜构成的围堰对于有机溶剂类的功能液(膜图案用墨水)不能发挥充分的疏液性,因此,需要进行使用氟碳类的气体等进行表面处理(疏液化处理)。但是,进行这样的表面处理,会使得工程复杂化,并降低生产效率。特别是,在将功能液配置在围堰内来形成第1功能膜,然后在其上面配置其它功能液来形成第2功能膜时,在配置第2功能液之前必须对围堰再次实施表面处理(疏液化处理),因此使得工程进一步复杂化。其原因是通过形成了第1功能膜时的热处理,使氟从围堰脱离,从而导致围堰的疏液性消失或降低,因此,在配置第2功能液之前必须再次进行表面处理(疏液化处理)。
技术实现思路
本专利技术就是鉴于上述情况而提出的,其目的在于提供一种不需要对围堰实施表面处理(疏液化处理),由此可简化工序、提高生产效率的膜图案形成方法、和由此获得的膜图案、以及器件、电光学装置、电子设备、以及有源矩阵基板的制造方法。为了达到上述目的,本专利技术的膜图案的形成方法,通过将功能液配置在基板来形成膜图案,其特征在于,包括在所述基板上形成与所述膜图案的形成区域对应的围堰的工序;在由所述围堰划分的区域配置所述功能液的工序;和对所述功能液实施固化处理而形成膜图案的工序;在形成所述围堰的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接下来对其进行曝光、显影来形成图案,然后,通过烧结形成在侧链上具有疏水基,并将聚硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,作为所述功能液,使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。根据该膜图案的形成方法,由于首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接下来在将其图案形成之后,通过烧结,形成在侧链上具有疏水基,并将硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,所以,所获得的围堰由于成为其主要成分的骨架为无机质,所以对于热处理具有高的耐性。因此,当例如在对功能液实施固化处理时需要以比较高的温度进行热处理的情况下,不会产生围堰发生溶融等不良的情况,从而能够充分应对热处理。另外,所获得的围堰由于其成为在侧链上具有疏水基的结构的材质,所以即使不进行疏液化的表面处理,其本身也具有良好的疏水性。因此,特别是对于由水系液状体构成的功能液可发挥良好的疏水性,从而,因不需要对围堰实施疏液化处理,而简化了工序,提高了生产效率,并且可充分提高由上述功能液构成的膜图案的图案精度。另外,在上述膜图案的形成方法中,优选所述疏水基是甲基。这样,能够使上述围堰发挥更好的疏水性,从而,可进一步提高由上述功能液构成的膜图案的图案精度。另外,在所述膜图案的形成方法中,作为所述聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,优选使用含有光酸产生剂,且作为正型抗蚀剂而发挥功能的感光性聚硅氨烷液或感光性聚硅氧烷液。这样,如果使聚硅氨烷液或聚硅氧烷液作为正型抗蚀剂而发挥功能,则可进一步提高由此获得的围堰的图案精度,从而,对基于该围堰而获得的膜图案,也可提高其图案精度。另外,在所述膜图案的形成方法中,优选所述功能液中含有的功能材料是导电性材料。这样,尤其是作为膜图案,可形成布线图案等导电性图案。另外,本专利技术的另一种膜图案的形成方法,通过将功能液配置在基板上来形成膜图案,其特征在于,包括在所述基板上形成与所述膜图案的形成区域对应的围堰的工序;在由所述围堰划分的区域配置第1功能液的工序;在所配置的所述第1功能液上配置第2功能液的工序;和通过对叠层在由所述围堰划分的区域上的所述第1功能液和所述第2功能液实施规定的处理,形成由多种材料叠层而构成的膜图案的工序;在形成所述围堰的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接下来对其进行曝光、显影来形成图案,然后,通过烧结形成在侧链上具有疏水基,并将聚硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰, 作为所述第1功能液,使用水系分散介质或含有溶剂的液状体,并且,作为所述第2功能液,使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。根据该膜图案的形成方法,由于首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接下来在将其图案形成之后,通过烧结形成在侧链上具有疏水基,并将硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,所以,所获得的围堰由于成为其主要成分的骨架为无机质,所以对热处理具有高的耐性。因此,当例如在对功能液实施固化处理时需要以比较高的温度进行热处理的情况下,不会产生围堰发生溶融等不良的情况,从而,能够充分应对热处理。另外,所获得的围堰由于其成为在侧链上具有疏水基的结构的材质,所以即使不进行疏液化的表面处理,其本身也具有良好的疏水性。因此,特别是对于由水系液状体构成的功能液可发挥良好的疏水性,从而,由于不需要对围堰实施疏液化处理,所以可简化工序,提高生产效率,并且可充分提高由上述功能液构成的膜图案的图案精度。并且,由于所获得的围堰其本身具有良好的疏水性,所以在基于第1功能液形成了膜图案后,在其上面配置第2功能液时,例如即使在上述膜图案的形成时进行了热处理,也不会由此而导致围堰的疏水性消失,或显著下降。因此,在配置第2功能液之前,不需要对围堰进行疏液化处理,由此可进一步简化工序,提高生产效率。另外,在所述膜图案的形成方法中,优选所述疏水基是甲基。这样,能够使上述围堰发挥更好的疏水性,从而可充分提高由上述功能液构成的膜图案的图案精度。另外,在所述膜图案的形成方法中,作为所述聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,优选使用含有光酸产生剂,且作为正型抗蚀剂而发挥功能的感光性聚硅氨烷液或感光性聚硅氧烷液。这样,如果使聚硅氨烷液或聚硅氧烷液作为正型抗蚀剂而发挥功能,则可进一步提高由此获得的围堰的图案精度,从而,对基于该围堰获得的膜图案,也可提高其图案精度。另外,在所述膜图案的形成方法中,所述第1功能液和所述第2功能液也可以是含有相互不同种类的功能材料的液体。这样,由这些功能液构成的膜图案会成为被赋予了多种不同功能的优良的膜图案。另外,在所述膜图案的形成方法中,优选在所配置的所述第1功能液上配置第2功能液的工序之前,预先使所述第1功能液固化。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种膜图案的形成方法,通过将功能液配置在基板上来形成膜图案,包括:在所述基板上形成与所述膜图案的形成区域对应的围堰的工序;在由所述围堰划分的区域配置所述功能液的工序;和对所述功能液实施固化处理而形成膜图案的工序, 在形成所述围堰的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接着对其进行曝光、显影,形成图案,然后,通过烧结,形成在侧链具有疏水基,并将聚硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,作为所述功能液,使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。

【技术特征摘要】
JP 2005-5-11 2005-1380911.一种膜图案的形成方法,通过将功能液配置在基板上来形成膜图案,包括在所述基板上形成与所述膜图案的形成区域对应的围堰的工序;在由所述围堰划分的区域配置所述功能液的工序;和对所述功能液实施固化处理而形成膜图案的工序,在形成所述围堰的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接着对其进行曝光、显影,形成图案,然后,通过烧结,形成在侧链具有疏水基,并将聚硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,作为所述功能液,使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。2.根据权利要求1所述的膜图案的形成方法,其特征在于,所述疏水基是甲基。3.根据权利要求1或2所述的膜图案的形成方法,其特征在于,作为所述聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,使用含有光酸产生剂,且作为正型抗蚀剂而发挥功能的感光性聚硅氨烷液或感光性聚硅氧烷液。4.根据权利要求1~3中任意一项所述的膜图案的形成方法,其特征在于,所述功能液中含有的功能材料是导电性材料。5.一种膜图案的形成方法,通过将功能液配置在基板上来形成膜图案,包括在所述基板上形成与所述膜图案的形成区域对应的围堰的工序;和在由所述围堰划分的区域配置第1功能液的工序;和在所配置的所述第1功能液上配置第2功能液的工序;和通过对叠层在由所述围堰划分的区域上的所述第1功能液和所述第2功能液实施规定的处理,形成由多种材料叠层而构成的膜图案的工序,在形成所述围堰的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接着对其进行曝光、显影,形成图案,然后,通过烧结,形成在侧链具有疏水基,并将聚硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,作为所述第1功能液,使用水系分散介质或含有溶剂的液状体,并且作为所述第2功能液,使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。6.根据权利要求5所述的膜图案的形成方法,其特征在于,所述疏水基是甲基。7.根据权利要求5或6所述的膜图案的形成方法,其特征在于,作为所述聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,使用含有光酸产生剂,且作为正型抗蚀剂而发挥功能的感光性聚硅氨烷液或感光性聚硅氧烷液。8.根据权利要求5~7中任意一项所述的膜图案的形成方法,其特征在于,所述第1功能液和第2功能液是含有相互不同...

【专利技术属性】
技术研发人员:平井利充守屋克之
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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