下载膜图案的形成方法和有源矩阵基板的制造方法的技术资料

文档序号:3191274

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本发明提供一种不需要对围堰实施表面处理(疏液化处理),由此简化了工序、提高了生产效率的膜图案的形成方法、和由此获得的膜图案以及器件和电光学装置等。该膜图案的形成方法将功能液(X1)配置在基板(P)上来形成膜图案。包括以下工序:在基板(P)上...
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