膜图案的形成方法、有源矩阵基板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种有助于降低制造成本的制造方法。其中在由设于基板（１８）上的围堰（３４）划分的图案形成区域内配置功能液，形成膜图案。具有：在基板（１８）上配置第一围堰形成材料，形成第一围堰层（３５）的工序；和在第一围堰层（３５）上形成第二围堰层（３６）的工序。第一围堰形成材料为有机材料，第二围堰层（３６）由被覆第一围堰层（３５）的氟系树脂材料构成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及、器件、电光学装置及电子设备。
技术介绍
一直以来公知有在基板上层叠配置了由导体构成的薄膜(膜图案)的电路布线、覆盖电路布线的绝缘膜等薄膜和由半导体构成的薄膜而成的半导体装置。作为这种半导体装置中的薄膜的有效形成方法，公知液滴喷出法(喷墨法)，该方法是从液滴喷出头中喷出将薄膜材料等作为分散质而包含的功能液的液滴，使弹落的功能液干燥，除去分散剂，形成薄膜(例如参照专利文献1)。在以液滴喷出法形成作为膜图案的薄膜时，通常形成划分膜图案的形成区域的围堰(bank)，向由该围堰划分而成为凹部的膜图案的形成区域喷出功能液。而且，通过使弹落在凹部内的形成区域上的功能液干燥，形成薄膜，从而形成膜图案。利用这种方法，可以形成例如与底栅型的薄膜晶体管中的半导体层连接的源极布线、或漏极布线(膜图案)等。此时，在栅极绝缘膜上形成围堰，向由该围堰划分的作为凹部的区域喷出功能液，通过使该功能液干燥，从而成为与半导体层连接的源极布线或漏极布线。然而，虽然希望以弹落的方式喷出到所述凹部内的功能液的液滴全部进入凹部内，但有时一部分会附着在围堰的上面。该情况下，为了使该液滴不会附着在围堰的上面而流入本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜图案的形成方法，是在由设于基板上的围堰划分的图案形成区域内配置功能液，以形成膜图案的方法，其特征在于，具有：在基板上配置第一围堰形成材料，形成第一围堰层的工序；和在所述第一围堰层上形成第二围堰层的工序，所述第一 围堰形成材料为有机材料，所述第二围堰层由被覆所述第一围堰层的氟系树脂材料构成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：守屋克之，平井利充，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]