本发明专利技术公开了一种用于制造平板显示器的方法和装置。通过采用软模而不采用光刻工序的构图工序构图薄膜层。在基板上顺序形成薄膜层和抗蚀剂。通过采用软模向抗蚀剂施加压力形成预定抗蚀剂图案。该抗蚀剂具有大于或等于２Ｄ的偶极距μ值，或者具有小于６（ｃａｌ／ｃｍ↑［３］）↑［１／２］或者大于１１（ｃａｌ／ｃｍ↑［３］）↑［１／２］的溶解参数值。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种平板显示器件，涉及一种适用于不采用光刻工序执行构图工序的制造平板显示器件的方法和装置。
技术介绍
近来随着社会越来越向信息化方向发展，比作为可视信息通信媒体以前显示器的重要意义已经得到更进一步的增强。阴极射线管和布朗管显示为目前最通用的显示器件。但是CRT显示器比较重而且体积较大。作为替代，已经研发了多种平板显示器。平板显示器的实例包括液晶显示器LCD、场发射显示器FED、等离子体显示器PDP、电致发光器件EL等。大多数显示器已经得到实际应用并且目前存在于市场上。在这些显示器中，由于液晶显示器可以满足电子产品轻、薄、短、小的趋势因此受到欢迎。随着液晶显示器生产率的不断提高，在许多应用领域已经迅速替代阴极射线管。具体地，通过应用薄膜晶体管(以下，称之为“TFT”)驱动液晶单元的有源矩阵型液晶显示器具有出色的图像质量和低功耗。由于大规模生产技术的建立和研发的结果使得大尺寸和高分辨率有源矩阵型液晶显示器得到迅速研发。如图1所示，该有源矩阵型液晶显示器具有粘结在一起的滤色片基板22和TFT阵列基板23，在二者之间设置有液晶层15。如图1中液晶显示器示出个整有效屏幕的一部分。滤色片基板22包括位于上玻璃基板12背面的滤色片13和公共电极14。在上玻璃基板12前面粘着偏振片11。滤色片13具有排列以发送预定波长范围光的红R、绿G和蓝B滤色片层，从而实现色彩显示。在相邻的滤色片13之间形成黑矩阵(未示出)。TFT阵列基板23包括形成于下玻璃基板16前表面的彼此交叉的数据线19和栅线18以及形成于该交叉部分的TFT 20。在下玻璃基板16前表面数据线19和栅线18之间的单元区域形成像素电极21。该TFT响应于来自栅线18的扫描信号切换数据线19和像素电极21之间的数据传输路径，从而驱动该像素电极21。在TFT阵列基板23的背面粘结偏振片17。液晶层15控制通过TFT阵列基板23入射的光的传输量。粘结到滤色片基板22和TFT基板23上的偏振片11、17传输沿一个方向的偏振光，当液晶15为90°TN模式时其偏振方向彼此垂直交叉。在滤色片基板22和TFT阵列基板23的各液晶衬面上形成定向层。有源矩阵型液晶显示器件的制造工序可以分为基板清洗工序、基板构图工序、定向膜形成/摩擦工序、基板粘结/液晶注入工序、安装工序、检查工序、修复工序等。基板清洗工序采用清洗溶液去除污染液晶显示器基板表面的杂质。基板构图工序分为滤色片基板构图工序和TFT阵列基板构图工序。定向层形成/摩擦工序在每个滤色片基板和TFT阵列基板涂布定向层并用摩擦布摩擦定向层等。基板粘结/液晶注入工序通过采用密封剂将滤色片基板和TFT阵列基板粘结在一起并通过液晶注入孔注入液晶和衬垫料并密封该注入孔。安装工序将安装有诸如栅驱动IC、数据驱动IC等集成电路的载带封装(以下，称之为“TCP”)连接到基板的焊盘部分。除了采用前述TCP的载带自动粘接法还可以通过诸如玻上芯片(以下称之为“COG”)的方法可以在基板上直接安装驱动IC。检测工序包括在在TFT阵列基板上形成像素电极和诸如数据线和栅线的信号线后进行的电学检测和肉眼检查。该修复工序对通过检测工序判断要进行修理的基板执行修复。判断不可能进行修复的基板设置为废品。在包括液晶显示器的大多数平板显示器件的制造方法中，通过光刻工序构图基板上沉积的薄膜材料。该光刻工序为通常包括光刻胶涂布、掩模对准、曝光、显影和清洗的系列光工序(photo process)。但是，光刻工序会花费相对长的时间、浪费大量光刻胶材料以及剥离液并采用诸如曝光设备的昂贵设备。
技术实现思路
仅作为介绍，根据本专利技术用于制造平板显示器(诸如液晶显示器LCD、场发射显示器FED、等离子体显示器PDP、电致发光器件EL)的装置包括软模，用于通过向在基板上的薄膜层上形成的抗蚀剂施加压力以形成指定抗蚀剂图案。该抗蚀剂具有偶极距μ为2D或者具有溶解参数值小于6(cal/cm3)1/2或者大于11(cal/cm3)1/2中至少之一。在该制造装置中，抗蚀剂包括EGDMA(二甲基丙烯酸乙二醇酯)、HPA(丙烯酸羟丙基酯)和/或DGDMA(二甲基丙烯酸二甘醇酯)。这样，EGDMA、HPA和/或DGDMA约占该抗蚀剂全部成分的20～70％，并且该抗蚀剂还包括附着力促进剂和/或硅烷偶联剂。此外，该软模包括溶解参数值约为7.3(cal/cm3)1/2的PDMS(聚二甲基硅氧烷)。根据本专利技术的另一方面用于制造平板显示器的方法包括在基板上形成薄膜层；在基板上形成抗蚀剂，其中该抗蚀剂具有偶极距μ至少为2D，和/或具有溶解参数值小于6(cal/cm3)1/2或者大于11(cal/cm3)1/2；通过具有预定凹槽的软模向抗蚀剂施加压力形成抗蚀剂图案；并通过去除不与抗蚀剂图案重叠的薄膜层形成薄膜图案。根据本专利技术的另一方面用于制造平板显示器的方法包括在基板上形成薄膜层；在基板上方对准软模；选择抗蚀剂使得满足下述两条件之一使得软模不会吸收大量抗蚀剂抗蚀剂具有至少预定偶极距或者抗蚀剂的溶解参数值不同于软模的溶解参数值；在薄膜层沉积抗蚀剂；通过由具有预定凹槽的软模向抗蚀剂施加压力而不采用光刻工序形成抗蚀剂图案；并通过去除不与抗蚀剂图案重叠的薄膜层形成薄膜图案。附图说明通过参照附图对实施方式进行详细描述将使本专利技术变得更加显而易见，其中图1所示为有源矩阵型液晶显示器平面透视图；图2所示为用于说明根据本专利技术实施方式的制造平板显示器的方法和装置的示图；图3所示为当图2的软模与图2的基板接触时蚀刻抗蚀剂溶液运动情况示图；以及图4所示为其上形成有没有吸收到软模中的蚀刻抗蚀剂的基板的示图。具体实施例方式现在要详细说明本专利技术的最佳实施方式，所述实施方式的实施例示于附图中。通过参照图2到图4，本专利技术的实施方式说明如下。参照图2和3，根据本专利技术实施方式的平板显示器制造方法通过采用软模而不是现有技术的光刻胶构图工序来形成所需的薄膜图案。采用该软模134的薄膜构图工序包括在形成薄膜132a的基板上涂布蚀刻抗蚀剂133a溶液的工序，采用软模134构图蚀刻抗蚀剂133的工序、构图薄膜132a的蚀刻工序、剥离残余的蚀刻抗蚀剂图案的剥离工序和检测工序。在基板131上形成的薄膜132a通过公知的涂布工序或者沉积工序在基板131上由基本材料形成，该基板材料用作平板显示器阵列中的金属图案、有机物图案和无机物图案。蚀刻抗蚀剂溶液133a包括作为液态的聚合物前体(polymer precursor)或者液态单体的树脂、催化剂、引发剂、和/或热流衍生物等。通过诸如喷嘴喷射、旋转涂布等涂布工序在薄膜132a上涂布蚀刻抗蚀剂溶液133a。软模134由具有诸如聚二甲基硅氧烷PDMS、聚亚安酯、交联酚醛清漆等高弹性橡胶材料构成，并且具有对应于即将在基板131上保留的图案的凹槽134a。这里，该具有凹槽134a和凸出表面134b的软模134进行表面处理以疏水或者亲水。以下，假设在本专利技术中软模134为疏水表面进行说明。在蚀刻抗蚀剂溶液133a上对准该软模134，通过该软模仅与薄膜132a接触的压力，即仅其本身的重量施加给蚀刻抗蚀剂溶液133a。例如，如图3所示，蚀刻抗蚀剂溶液133a通过由于软模134和玻璃基板131之间压力产生的表面本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于制造平板显示器的装置，包括软模，用于通过向在基板上的薄膜层上形成的抗蚀剂施加压力以形成指定的抗蚀剂图案；其中抗蚀剂具有偶极距μ为２Ｄ或者溶解参数值小于６（ｃａｌ／ｃｍ↑［３］）↑［１／２］或者大于１１（ｃａｌ／ｃｍ↑ ［３］）↑［１／２］中至少之一。
【技术特征摘要】
KR 2005-6-7 10-2005-00486131.一种用于制造平板显示器的装置，包括软模，用于通过向在基板上的薄膜层上形成的抗蚀剂施加压力以形成指定的抗蚀剂图案；其中抗蚀剂具有偶极距μ为2D或者溶解参数值小于6(cal/cm3)1/2或者大于11(cal/cm3)1/2中至少之一。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述抗蚀剂包括二甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸羟丙基酯或二甲基丙烯酸二甘醇酯至少其中之一。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述二甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸羟丙基酯或二甲基丙烯酸二甘醇酯占所述抗蚀剂总成分的约20％～70％。4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述抗蚀剂包括附着力促进剂或者硅烷偶联剂至少其中之一。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述软模包括聚二甲基硅氧烷，并且所述聚二甲基硅氧烷具有7.3(cal/cm3)1/2的溶解参数值。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述平板显示器包括液晶显示器、场发射显示器、等离子体显示器、电致发光器件其中之一。7.一种用于制造平板显示器的方法，包括在基板上形成薄膜层；在基板上形成抗蚀剂，所述抗蚀剂具有至少偶极距μ为2D或者溶解参数值小于6(cal/cm3)1/2或者大于11(cal/cm3)1/2中至少之一；通过由具有预定凹槽的软模向所述抗蚀剂施加压力形成抗蚀剂图案；以及通过去除不与抗蚀剂图案重叠的薄膜层形成薄膜图案。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述抗蚀剂包括二甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸羟丙基酯或二甲基丙烯酸二甘醇酯中至少之一。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述二甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸羟丙基酯或二甲基丙烯酸二甘醇酯占所述抗蚀...
【专利技术属性】
技术研发人员：金珍郁，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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