曝光装置、曝光方法以及器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置，其具备：喷嘴构件（７０），具有供给液体（ＬＱ）的供给口（１２）以及回收液体（ＬＱ）的回收口（２２）中的至少一者；和喷嘴调整机构（８０），根据衬底（Ｐ）的位置或姿势调整喷嘴构件（７０）的位置以及倾斜中的至少任意一者。曝光装置在衬底（Ｐ）上形成液体（ＬＱ）的浸液区域，隔着浸液区域的液体（ＬＱ）对衬底（Ｐ）进行曝光。由此，可以将液体良好地保持在投影光学系统与衬底之间，进行高精度的曝光处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及隔着液体对衬底进行曝光的曝光方法、曝光装置以及器件制造方法。
技术介绍
在作为半导体器件或液晶显示器件等微型器件的一个制造工序的光刻工序之中，使用将形成于掩模上的图案投影曝光到感光衬底上的曝光装置。该曝光装置具有支承掩模的掩模载台和支承衬底的衬底载台，一边逐次移动掩模载台以及衬底载台，一边通过投影光学系统将掩模的图案投影曝光到衬底上。在微型器件的制造中，为了器件的高密度化，要求形成在衬底上的图案微细化。为了满足该要求，希望曝光装置具有更高的分辨率，作为用于实现该高分辨率的装置之一，提出了如下述专利文献1所公开的那样的在将折射率比气体高的液体填充在投影光学系统与衬底之间的状态下进行曝光处理的浸液曝光装置。专利文献1国际公开第99/49504号小册子在浸液曝光装置中，必须将液体良好地保持在投影光学系统和与该投影光学系统相对配置的物体(衬底或载台)之间。一旦不能良好地保持液体，则液体流出、扩散或在液体中混入气泡或气体部分(Void)的可能性增高。一旦液体流出，则例如该流出的液体有可能附着在构成曝光装置的设备上而使该设备产生误动作。另外，在该设备为计测仪的情况下，该流出的液体可能会使得该计测仪的计测精度劣化。如果造成这样的设备的误动作或计测精度的劣化，则曝光装置的曝光精度也会劣化。另外，例如在衬底的曝光中，如果在投影光学系统与衬底之间的液体中混入了气泡或气体部分(Void)，则向衬底上转印图案的精度将会劣化。在上述以往技术当中，液体的供给以及回收是使用喷嘴构件进行的，但在喷嘴构件发生振动的情况下，如果该振动例如传递到投影光学系统，则经由投影光学系统和液体向衬底上进行的图案转印的精度可能会劣化。
技术实现思路
本专利技术就是鉴于上述情况而做出的，其目的在于，提供可以良好地保持液体，进行高精度的曝光处理的曝光装置、曝光方法以及使用了该曝光装置和曝光方法的器件制造方法。为了解决上述问题，本专利技术采用了以下结构。其中，与本实施方式的图1～图17对应地对各要素标记了带括弧的符号，但其只是这些要素的例示而已，并不限定各要素。依照本专利技术的第一实施方式，提供一种以下的曝光装置(EX)，隔着浸液区域(AR2)的液体(LQ)对上述衬底进行曝光，具备喷嘴构件(70、72)，其具有供给液体(LQ)的供给口(12)以及回收液体(LQ)的回收口(22)中的至少一者；和喷嘴调整机构(80)，其根据与喷嘴构件(70、72)相对配置的物体(P、PST)的表面位置，调整喷嘴构件(70、72)的位置以及倾斜中的至少一者。根据本专利技术的第一实施方式，虽然液体被保持在喷嘴构件和物体之间，但是，通过喷嘴调整机构根据物体的表面位置调整喷嘴构件的位置以及倾斜中的至少一者，可以将喷嘴构件与物体之间的位置关系维持为所希望的状态。因而，例如在曝光中，即使作为物体的衬底或衬底载台的表面位置发生变化，通过根据该表面位置的变化调节喷嘴构件的位置以及倾斜中的至少一者，也可以将液体良好地保持在喷嘴构件与衬底之间。所以，可以抑制液体的流出或者气泡或气体部分向液体中混入，曝光装置可以高精度地进行曝光处理。依照本专利技术的第二实施方式，提供一种使用上述方式中所记载的曝光装置(EX)的器件制造方法。根据本专利技术的第二实施方式，由于可以在维持较高曝光精度的状态下制造器件，所以能够制造出发挥所希望性能的器件。依照本专利技术的第三实施方式，提供一种以下的曝光方法，隔着衬底(P)上的液体(LQ)对上述衬底进行曝光，包括向具有供给上述液体(LQ)的供给口(12)以及回收上述液体的回收口(22)中的至少一者的喷嘴构件(70、72)与衬底(P)之间引入液体的步骤；根据与上述喷嘴构件(70、72)相对配置的物体(P、PST)的表面位置，调整上述喷嘴构件的位置以及倾斜中的至少一者的步骤；和隔着液体(LQ)对衬底进行曝光的步骤。根据本专利技术的曝光方法，通过根据物体的表面位置，调整喷嘴构件的位置以及倾斜中的至少一者，可以将喷嘴构件与物体之间的位置关系维持为所希望的状态。因而，例如在曝光中，即使作为物体的衬底或衬底载台的表面位置发生变化，通过根据该表面位置的变化来调节喷嘴构件的位置以及倾斜中的至少一者，也可以将液体良好地保持在喷嘴构件与衬底之间。所以，可以抑制液体流出或者气泡或气体部分向液体中混入，可以高精度地进行曝光处理。依照本专利技术的第四实施方式，提供一种以下的器件制造方法，包括利用曝光方法对衬底进行曝光的步骤；对曝光后的衬底进行显影的步骤；和对显影后的衬底进行加工的步骤。根据这样的制造方法，可以在维持较高曝光精度的状态下制造器件，所以能够制造出发挥所希望性能的器件。根据本专利技术，可以良好地保持液体，进行高精度的曝光处理，可以制造具有所希望的性能的器件。附图说明图1是表示第一实施方式的曝光装置的概略结构图。图2是图1的主要部分的放大剖视图。图3是从下侧看到的喷嘴构件的图。图4(A)-(C)是用于说明喷嘴构件的动作的示意图。图5是用于说明浸液区域的液体的动作的示意图。图6是表示第二实施方式的曝光装置的图。图7是表示第三实施方式的曝光装置的图。图8是表示第四实施方式的曝光装置的图。图9是表示第五实施方式的曝光装置的图。图10是示意地表示连接于喷嘴构件的吹气构件与衬底的位置关系的俯视图。图11是表示第六实施方式的曝光装置的图。图12是表示第七实施方式的曝光装置的概略结构图。图13是图12的主要部分的放大剖视图。图14是用于说明第七实施方式中的浸液区域的液体的动作的示意图。图15是用于说明第七实施方式中的浸液区域的液体的动作的示意图。图16是第八实施方式的曝光装置的图。图17是表示微型器件的制造工序的一个例子的流程图。符号说明1-主机架；8-下侧阶梯部；10-液体供给机构；12-供给口；20-液体回收机构；22-回收口；30-聚焦调平检查系统；70-喷嘴构件；70A-下表面；71-第一喷嘴构件；71A-下表面；72-第二喷嘴构件；72A-下表面；80、80’-喷嘴调整机构；81-支承机构；83-驱动机构；100-浸液机构；150-气体吹出机构；151-吹气口；152-吹气构件；152A-下表面；AR1-投影区域；AR2-浸液区域；EX-曝光装置；LQ-液体；LS1-光学元件；P-衬底；PK-镜筒；PL-投影光学系统；PST-衬底载台；PSTD-衬底载台驱动机构。具体实施例方式下表面参照附图对本专利技术的实施方式进行说明，但本专利技术并不限于此。<第一实施方式> 图1是表示第一实施方式的曝光装置EX的概略结构图。在图1中，曝光装置EX具备可在保持掩模M的状态下移动的掩模载台MST；可在保持衬底P的状态下移动的衬底载台PST；照明光学系统IL，其利用曝光用光EL对保持于掩模载台MST上的掩模M进行照明；投影光学系统PL，将被曝光用光EL照明了的掩模M的图案像投影曝光到保持于衬底载台PST的衬底P；和控制装置CONT，其统一控制整个曝光装置EX的动作。控制装置CONT上连接有存储曝光处理涉及的信息的存储装置MRY。本实施方式的曝光装置EX是实质上缩短曝光波长来提高分辨率、并且为了实质上加深焦点深度而使用了浸液法的浸液曝光装置，曝光装置EX具备用于在衬底P上形成液体LQ的浸液区域AR2的浸液机本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，隔着浸液区域的液体对衬底进行曝光，其特征在于，具备：喷嘴构件，具有供给上述液体的供给口以及回收上述液体的回收口中的至少一者；和喷嘴调整机构，根据与上述喷嘴构件相对配置的物体的表面位置，调整上述喷嘴构件的位置以及 倾斜中的至少一者。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-9-17 271635/2004;JP 2004-9-22 274990/20041.一种曝光装置，隔着浸液区域的液体对衬底进行曝光，其特征在于，具备喷嘴构件，具有供给上述液体的供给口以及回收上述液体的回收口中的至少一者；和喷嘴调整机构，根据与上述喷嘴构件相对配置的物体的表面位置，调整上述喷嘴构件的位置以及倾斜中的至少一者。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还具备投影光学系统，隔着投影光学系统和上述浸液区域的液体对上述衬底进行曝光。3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述喷嘴构件具有与上述物体的表面相对的下表面，上述喷嘴调整机构调整上述喷嘴构件的下表面与上述物体的表面之间的相对距离以及相对倾斜中的至少一者。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，上述喷嘴调整机构调整上述相对距离以及相对倾斜中的至少一者，使得维持在规定状态。5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，上述喷嘴构件形成为围绕上述投影光学系统的环形，上述喷嘴构件的下表面以及上述投影光学系统的下表面、与上述物体的表面之间形成有上述浸液区域。6.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，上述物体包括上述衬底，上述衬底一边在规定方向移动一边进行扫描曝光，上述喷嘴调整机构在上述扫描曝光中调整上述喷嘴构件。7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，具有调整上述衬底表面与上述投影光学系统的像面的位置关系的聚焦调整机构，为了调整上述位置关系，上述聚焦调整机构在上述扫描曝光中改变上述衬底的位置或姿势，上述喷嘴调整机构调整上述喷嘴构件，使得追随上述扫描曝光中的上述衬底表面的面位置的变化。8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述喷嘴调整机构基于上述物体的表面的面位置信息，调整上述喷嘴构件。9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还具有检测上述物体的表面的面位置信息的检测系统，上述喷嘴调整机构基于上述检测系统的检测结果调整上述喷嘴构件。10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，具有支承上述喷嘴构件的支承构件；和相对于上述支承构件驱动上述喷嘴构件的驱动机构；上述驱动机构基于上述检测系统的检测结果驱动上述喷嘴构件。11.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述浸液区域形成在上述物体的局部上，上述喷嘴调整机构包括具有吹气口的气体吹出机构，从该吹气口将气体吹到比上述浸液区域还靠向外侧的上述物体的表面，以将上述喷嘴构件的下表面与上述物体的表面的相对距离以及相对倾斜中的至少一者维持在规定状态。12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，上述气体吹出机构具有吹气构件，该吹气构件连接于上述喷嘴构件的外侧，具有与上述物体的表面相对的下表面，上述吹气口设于上述吹气构件的下表面。13.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，上述吹气口围绕上述喷嘴构件设置有多个。14.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，上述吹气口形成于上述喷嘴构件的下表面。15.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，上述气体吹出机构向上述浸液区域的边缘部附近吹出气体。16.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，上述回收口设置得相对于上述投影光学系统的光轴，比上述供给口还靠向外侧。17.根据权利要求2、7以及15中的任意一项所述的曝光装置，其特征在于，上述喷嘴构件具有第一喷嘴构件，设置成围绕上述投影光学系统，并具有上述供给口；以及第二喷嘴构件，设置成围绕在上述第一喷嘴构件的外侧，并具有上述回收口；上述喷嘴调整机构调整上述第二喷嘴构件。18.根据权利要求17所述的曝光装置，其特征在于，上述第一喷嘴构件与保持构成上述投影光学系统的光学元件的保持构件连接。19.根据权利要求17所述的曝光装置，其特征在于，上述第一喷嘴构件包含于保持构成上述投影光学系统的光学元件的保持构件。20.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，具有第一喷嘴构件，设置于上述投影光学系统的像面侧附近，具有供给上述液体的供给口；第二喷嘴构件，相对于上述投影光学系统的光轴，设置于...

【专利技术属性】
技术研发人员：水谷刚之，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]