曝光装置及器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种可以抑制液体的残留的曝光装置。曝光装置（ＥＸ）具备：可保持衬底（Ｐ）并移动的衬底载台（ＳＴ１）；可与衬底载台（ＳＴ１）独立地移动的计测载台（ＳＴ２）；在衬底载台（ＳＴ１）及计测载台（ＳＴ２）的至少一个的载台的上面形成液体（ＬＱ）的浸液区域（ＬＲ）的浸液机构（１２等）。在计测载台（ＳＴ２）的上面，设有可回收液体（ＬＲ）的回收口（５１）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及经由投影光学系统将衬底曝光的本申请基于2004年11月1日申请的日本专利特愿2004-318017号主张优先权，并在这里引用其内容。
技术介绍
在作为半导体器件或液晶显示器等微型器件的制造工序之一的光刻工序中，使用将形成于掩模上的图案向感光性衬底上投影曝光的曝光装置。该曝光装置具有支撑掩模的掩模载台和支撑衬底的衬底载台，一边逐次移动掩模载台及衬底载台，一边借助投影光学系统将掩模的图案向衬底投影曝光。另外，在这种曝光装置中，出于提高生产量等目的，还有在投影光学系统的像面侧具备可相互独立地移动的两个载台的曝光装置。在微型器件的制造中，为了实现器件的高密度化，要求在衬底上形成的图案的微细化。为了应对该要求，希望曝光装置具有更高的析像度化。作为用于实现该高析像度化的途径之一，提出过如下述专利文献1中所公开的那样的用液体来充满投影光学系统与衬底之间而形成浸液区域，借助该浸液区域的液体进行曝光处理的浸液曝光装置。专利文献1国际公开第99/49504号小册子在浸液曝光装置中，例如在维护时等，有需要将浸液区域的液体全部回收的情况。这种情况下，当液体未被完全回收而残留时，残留的液体就有可能向构成曝光装置的各种仪器内飞散而对该仪器造成影响。另外，因残留的液体的存在，有可能使曝光装置所处的环境(湿度等)变动，对曝光精度及计测精度造成影响。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这种情况而成的，其目的在于，提供一种可抑制液体的残留而维持所需性能的。为了解决上述的课题，本专利技术采用了与实施方式中所示的图1～图15对应的以下的构成。其中，在各要素中所附加的带有括号的符号只不过是该要素的示例，并不是限定各要素的。依照本专利技术的第一方式，提供一种曝光装置(EX)，是通过投影光学系统(PL)将衬底(P)曝光的曝光装置，其具备第一载台(ST1)，其在投影光学系统(PL)的像面侧，在与像面大致平行的二维平面内(XY平面内)，可保持衬底(P)并移动；第二载台(ST2)，其在投影光学系统(PL)的像面侧，在与像面大致平行的二维平面内(XY平面内)，可与第一载台(ST1)独立地移动；浸液机构(12等)，其在第一载台(ST1)及第二载台(ST2)的至少一个的载台的上面(F1、F2)上形成液体(LQ)的浸液区域(LR)，其中，在第二载台(ST2)的上面(F2)或其附近，设有可回收液体(LQ)的回收口(51)。根据本专利技术的第一方式，由于在配置于投影光学系统的像面侧的第二载台的上面或其附近，设置有回收液体的回收口，所以可以将液体良好地回收，可以抑制液体残留的情况。依照本专利技术的第二方式，提供一种使用上述方式的曝光装置(EX)的器件制造方法。根据本专利技术的第二方式，可以用维持了所需的性能的曝光装置来制造器件。根据本专利技术，可以抑制液体的残留，精度良好地进行曝光处理及计测处理。附图说明图1是表示第一实施方式涉及的曝光装置的简要构成图。图2是衬底载台的剖视图。图3是衬底载台的俯视图。图4是计测载台的剖视图。图5是计测载台的俯视图。图6是从上方看到的衬底载台及计测载台的俯视图。图7A是用于说明衬底载台及计测载台的动作的图。图7B是用于说明衬底载台及计测载台的动作的图。图8A是用于说明衬底载台及计测载台的动作的图。图8B是用于说明衬底载台及计测载台的动作的图。图9是用于说明移动浸液区域的状态的图。图10是用于说明回收浸液区域的液体的状态的图。图11是表示第二实施方式涉及的曝光装置的图。图12是表示第三实施方式涉及的曝光装置的图。图13是表示第四实施方式涉及的曝光装置的图。图14是表示第五实施方式涉及的曝光装置的图。图15是表示微型器件的制造工序的一个例子的流程图。其中符号说明如下1...浸液机构，10...液体供给机构，12...供给口，20...液体回收机构，22...回收口，50...回收机构，51...回收口，52...流路，53...真空系统，54...凹部，55...槽部，56...疏液性构件，57...液体回收构件，70...喷嘴构件，CONT...控制装置，EX...曝光装置，F1...上面，F2...上面，H1...外伸部(凸部)，LQ...液体，LR...浸液区域，P...衬底，PH...衬底夹具，PH1...第一保持部，PH2...第二保持部，PL...投影光学系统，SD...驱动机构，ST1...衬底载台，ST2...计测载台，T...平板构件。具体实施例方式下面，在参照附图的同时，对本专利技术的实施方式进行说明，但本专利技术并不限定于此。<第一实施方式> 图1是表示第一实施方式涉及的曝光装置的简要构成图。图1中，曝光装置EX具备保持掩模M且可以移动的掩模载台MST；保持衬底P且可以移动的衬底载台ST1；搭载进行有关曝光处理的计测的计测器且可以移动的计测载台ST2；将由掩模载台MST保持的掩模M用曝光用光EL照明的照明光学系统IL；将由曝光用光EL照明了的掩模M的图案的像向由衬底载台ST1保持的衬底P投影的投影光学系统PL；统一控制曝光装置EX整体的动作的控制装置CONT。衬底载台ST1及计测载台ST2分别被可以移动地支承于基座构件BP上，且可以相互独立地移动。在衬底载台ST1的下面U1上，设有用于将衬底载台ST1非接触地支承在基座构件BP的上面BT上的气体轴承141。同样地，在计测载台ST2的下面U2上，也设有用于将计测载台ST2非接触地支承在基座构件BP的上面BT上的气体轴承142。衬底载台ST1及计测载台ST2分别在投影光学系统PL的像面侧，在与该像面大致平行的二维平面内(XY平面内)，可以相互独立地移动。本实施方式的曝光装置EX是为了实质上缩短曝光波长而提高析像度，并且实质上增大焦点深度，而适用了浸液法的曝光装置，该装置具备用于在投影光学系统PL的像面侧形成液体LQ的浸液区域LR的浸液机构1。浸液机构1具备喷嘴构件70，其设于投影光学系统PL的像面侧附近，且具有供给液体LQ的供给口12及回收液体LQ的回收口22；液体供给机构10，其经由设于喷嘴构件70上的供给口12向投影光学系统PL的像面侧供给液体LQ；液体回收机构20，其经由设于喷嘴构件70上的回收口22回收投影光学系统PL的像面侧的液体LQ。喷嘴构件70以包围投影光学系统PL的像面侧前端部的方式形成为环状。浸液机构1至少在将掩模M的图案像向衬底P上投影的期间，利用由液体供给机构10供给的液体LQ，在包括投影光学系统PL的投影区域AR的衬底P上的一部分，局部地形成大于投影区域AR且小于衬底P的液体LQ的浸液区域LR。具体来说，曝光装置EX采用将与投影光学系统PL的像面最近的第一光学元件LS1的下面LSA、和配置于投影光学系统PL的像面侧上的衬底P上面的一部分之间的光路空间用液体LQ来充满的局部浸液方式，且将经由形成浸液区域LR的液体LQ和投影光学系统PL并穿过了掩模M的曝光用光EL向衬底P照射，由此将掩模M的图案向衬底P上投影曝光。另外，浸液机构1不仅可以在衬底P的上面，而且可以在衬底载台ST1的上面F1及计测载台ST2的上面F2的至少一个上局部地形成液体LQ的浸液区域LR。此外，在计测载台ST2上，设有可以将浸液区域LR的液体LQ的至少一部分回收的回收口本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，经由投影光学系统将衬底曝光，该曝光装置的特征是，具备：第一载台，其在上述投影光学系统的像面侧，在与上述像面大致平行的二维平面内，可保持上述衬底并移动；第二载台，其在上述投影光学系统的像面侧，在与上述像面大致平行 的二维平面内，可与上述第一载台独立地移动；浸液机构，其在上述第一载台及第二载台的至少一个的载台的上面形成液体的浸液区域，在上述第二载台的上面或其附近，设有可回收上述液体的回收口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-11-1 318017/20041.一种曝光装置，经由投影光学系统将衬底曝光，该曝光装置的特征是，具备第一载台，其在上述投影光学系统的像面侧，在与上述像面大致平行的二维平面内，可保持上述衬底并移动；第二载台，其在上述投影光学系统的像面侧，在与上述像面大致平行的二维平面内，可与上述第一载台独立地移动；浸液机构，其在上述第一载台及第二载台的至少一个的载台的上面形成液体的浸液区域，在上述第二载台的上面或其附近，设有可回收上述液体的回收口。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征是，具备驱动机构，该驱动机构在包括上述投影光学系统的正下方的位置的规定区域内，一边维持上述第一载台的上面与上述第二载台的上面靠近或接触的规定状态，一边将上述第一载台和上述第二载台一起移动。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征是，在上述规定状态下，上述第一载台的上面与上述第二载台的上面基本上呈齐平面。4.根据权利要求2或3所述的曝光装置，其特征是，上述回收口设于上述第二载台的上面当中的与上述第一载台的上面靠近或接触的区域的附近。5.根据权利要求2～4中任意一项所述的曝光装置，其特征是，在上述规定状态下，上述第一载台及第二载台的至少一个当中的、上述第一载台的上面与上述第二载台的上面相互靠近或接触的区域的附近具有疏液性。6.根据权利要求2～5中任意一项所述的曝光装置，其特征是，上述第一载台具有朝向上述第二载台突出的凸部，上述第二载台具有与上述凸部对应的凹部，在上述第一载台与上述第二载台处于上述规定状态时，上述凸部配置于上述凹部中。7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征是，上述凸部形成上述第一载台的上面。8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征是，在上述凹部的内侧设有上述回收口。9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征是，上述规定状态包括第一状态和第二状态，在上述第一状态下，将上述回收口用上述凸部填塞，且在上述第一载台的上面与上述第二载台的上面之间进行上述浸液区域的移动，在上述第一载台与上述第二载台处于第二状态时，用上述...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤原朋春，柴崎祐一，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]