显示元件及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种显示元件及其制造方法。该方法包含以下步骤：首先，依序于一基板上形成一第一图案化导电层以及覆盖该第一图案化导电层的一介电层，其中第一图案化导电层包含一栅极。然后，形成一图案化半导体层于介电层上，其中图案化半导体层包含一通道区，以及位于通道区两相对侧的一源极与一漏极。之后，选择性沉积一阻障层，以包覆图案化半导体层。最后，形成一第二图案化导电层于源极与漏极上方的阻障层上。该方法形成的显示元件包含一图案化阻障层及图案化半导体层，其中该图案化阻障层仅包覆图案化半导体层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制造显示元件结构的方法，其特征在于，包含：提供一基板；依序于该基板上形成一第一图案化导电层以及一介电层，其中该第一图案化导电层包含一栅极，且该介电层为覆盖该第一图案化导电层；形成一图案化半导体层于该介电层上，该图 案化半导体层包含一通道区及于该通道区两相对侧的一源极与一漏极；选择性沉积一阻障层，以仅包覆该图案化半导体层；以及形成一第二图案化导电层，覆盖该源极与该漏极上方的该阻障层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈柏林，蔡文庆，林俊男，杜国源，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]