电致发光元件及其制造方法技术

本发明专利技术提高了电致发光元件的亮度和发光效率。一种电致发光元件的制造方法包括：在基板（１）上形成正电极（１２），在所述正电极上形成有机化合物层（１３），在所述有机化合物层上形成电子注入层（１４），以及在所述电子注入层上形成透明导电膜（１５），由此形成了电致发光元件。在电子注入层上形成透明导电膜之后，在对电致发光元件加热的同时，在所述正电极和透明导电膜之间施加电压，从而改善所述电致发光元件的光发射，例如提高亮度和发光效率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。技术背景有机电致发光元件包括在阳极和阴极之间具有有机化合物层的 层压结构。当在阳极和阴极之间施加正向偏置电压时，电子和空穴 在有机化合物层复合，有机化合物层发光。已经实现了这样的电致 发光显示屏板，其中，在基板上按照矩阵布置多个有机电致发光元 件，每一有机电致发光元件发射红色、绿色和蓝色光，由此显示图 像。此外，在日本公开专利文本No.2000-353594中公开了，在有机 化合物层当中有一种可以通过作为湿法涂覆的喷墨法层压到电极上 的类型。在这种方法中，首先通过对电极进行等离子体处理使所述 电极亲液，在接下来采用含有有机化合物的溶液涂覆所述电极时， 涂覆到所述电极上的含有有机化合物的溶液散布在整个电极上。因 而，能够形成具有均匀膜厚度的有机化合物层。在电致发光显示屏板中，在透明基板上形成有机电致发光元件。 主要有两种类型，即从透明基板一侧发射光的底部发射类型和从与 透明基板一侧相对的另一侧发射光的顶部发射类型。考虑到底部发 射类型，就有源矩阵驱动类型而言，由于在基板上设置的像素晶体 管等的原因，降低了子像素的开口率(发光面积的比率)。但是，考 虑到顶部发射类型本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电致发光元件的制造方法，其包括如下步骤：实施电场退火处理，其在加热的同时向所述电致发光元件施加具有５０到３７５Ａ／ｍ↑［２］的电流密度的电流，所述电致发光元件具有按照连续方式形成的电极、至少一层有机化合物层和反电极。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-9-15 268484/2005;JP 2006-6-29 180000/20061、一种电致发光元件的制造方法，其包括如下步骤实施电场退火处理，其在加热的同时向所述电致发光元件施加具有50到375A/m2的电流密度的电流，所述电致发光元件具有按照连续方式形成的电极、至少一层有机化合物层和反电极。2、 根据权利要求l所述的电致发光元件的制造方法，其中，在 所述电场退火处理过程中，加热温度低于所述有机化合物层的玻璃 态转化温度。3、 根据权利要求l所述的电致发光元件的制造方法，其中，在 所述电场退火处理过程中，加热持续时间为1到2分钟。4、 根据权利要求l所述的电致发光元件的制造方法，其中，在 所述电场退火处理过程中，电流施加持续时间为1到2分钟。5、 根据权利要求l所述的电致发光元件的制造方法，其中，所 述电场退火处理施加恒定电流。6、 根据权利要求l所述的电致发光元件的制造方法，其中，所 述电场退火处理施加恒定电压。7、 根据权利要求1所述的电致发光元件的制造方法，其中，所 述电致发光元件为顶部发射类型。8、 根据权利要求l所述的电致发光元件的...

【专利技术属性】
技术研发人员：尾崎刚，木津贵志，
申请(专利权)人：卡西欧计算机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]