【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种薄膜图案层及一种薄膜图案层的制造方法。
技术介绍
目前制造薄膜图案层的方法主要包括光微影法及喷墨法。 光微影法通过在预备涂布所需薄膜的基板结构上，涂敷光阻材料，将 具有预定图案的光罩设在光阻材料上，进行曝光及显影，或加上蚀刻制程， 而形成具有预设图案的薄膜图案层。该光微影法需要复杂的制程，并且，材 料的使用效率较低而造成制造成本高。喷墨法提供一个具有由多个挡墙限定的多个收容空间的基板结构，使 用一个喷墨装置，由装置上多个喷墨孔，将形成薄膜材料的墨水喷入该多个 收容空间内，墨水被固化后于该基板结构上形成预定的薄膜图案层。由于提 供的该基板结构往往大于该多个喷墨孔所直接涵盖的面积，因此，喷墨装置 尚须提供该多个喷墨孔与该基板结构的行列相对运动，然后该喷墨法就能够 一次形成薄膜图案层。由于制程大量简化，材料使用经济，因此成本大幅降 低。现有技术中，由喷墨法形成的薄膜图案层中，包括多个薄膜层，由于利 用多个喷墨孔与基板结构行列相对运动完成，故同行中相同材料的薄膜层使 用同一个喷墨孔制作，其厚度是相同。因此，该行中同种材料的薄膜层均匀 性很高。但是，不...
【技术保护点】
一种薄膜图案层，包括：一个基板；形成在基板上的多个挡墙，该多个挡墙限定多个收容空间，该收容空间呈行列状排列；及多个形成在收容空间内的薄膜层；其特征在于：每行中的收容空间的容积大小分布是无规律的，及每行中的多个薄膜层的厚度分布是无规律的。
【技术特征摘要】
1.一种薄膜图案层，包括一个基板；形成在基板上的多个挡墙，该多个挡墙限定多个收容空间，该收容空间呈行列状排列；及多个形成在收容空间内的薄膜层；其特征在于每行中的收容空间的容积大小分布是无规律的，及每行中的多个薄膜层的厚度分布是无规律的。2. 如权利要求l所述的薄膜图案层，其特征在于，所述的基板材料选自玻璃、 石英玻璃、硅晶圓、金属和塑料。3. 如权利要求l所述的薄膜图案层，其特征在于，所述的多个薄膜层包括第 一薄膜层、第二薄膜层及第三薄膜层，每相邻三行的收容空间内分别以第一 薄膜层、第二薄膜层及第三薄膜层为顺序排列。4. 如权利要求l所述的薄膜图案层，其特征在于，所述的挡墙与基板是一体 成型结构。5. 如权利要求l所述的薄膜图案层，其特征在于，该收容空间容积的无规律 分布范围为标准收容空间容积或平均收容空间容积的80%至120%。6. —种薄膜图案层的制造方法，包括以下步骤提供一基板，其表面具有多个挡墙，该多个挡墙间形成多个收容空间， 该收容空间呈行列状排列于基板上，在该多个收容空间中，每行中的收容空 间的容积大小分布是无规律的；填充墨水至该多个收容空间内，使填充至每行中的容积大小无规律分布 的收容空间内的墨水是相同材料的且填充至该行中每个收容空间的墨水体积 是相同的；及固化墨水以形成多个薄膜层，使每行中相同材料的薄膜层厚度分布是无 规律的。7. 如权利要求6所述的薄膜图案层的制造方法，其特征在于，所述的多个挡 墙通过以下分步骤形成在该基板上表面涂覆一个光阻材料层；将具有预定挡墙图案的光罩设于该光阻材料层与一曝光机光源间，并曝光该光阻材料层；利用显影方式将非挡墙图案部分的光阻材料层去除，形成设于基板上表 面的多个挡墙。8. 如权利要求6所述的薄膜图案层的制造方法，其特征在于，所述的多个挡 墙通过以下分步骤形成提供一个射出成型机及一个具有预定挡墙图案的模具； 利用射出成型机将基板材料射出至该模具中； 脱模，得到该表面具有多个挡墙的基板。9. 如权利要求8所述的薄膜图案层的制造方法，其特征在于，所述的基板材 料选自玻璃、石英玻璃、金属和塑料。10. 如权利要求6所述的薄膜图案层的制造方法，其特征在于，所述的填充至 每相邻三行收容空间中的墨水包括第一薄膜材料、第二薄膜材料及第三薄膜 材料，每相邻三行的收容空间内分别以第一薄膜层、第二薄膜层及第三薄膜 层为顺序填充。11. 如权利要求6所述的薄膜图案层的制造方法，其特征在于，所述的填充步 骤是利用 一个喷墨装置将墨水填充至收容空间内。12. 如权利要求ll所述的薄膜图案层的制造方法，...
【专利技术属性】
技术研发人员：周景瑜，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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