一种可双面压印的纳米压印设备制造技术

本发明专利技术提出一种可双面压印的纳米压印设备，包括：输送装置，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧设定为输送方向，在输送装置上连接有吸附固定装置，所述吸附固定装置用于吸附固定第一模板，在所述输送装置上方，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧顺次设置有第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置，所述第一压印装置用于固定基片，所述第二压印装置用于固定第二模板。本发明专利技术能实现单面压印和双面压印，也可实现软压硬，软压软等压印模式，压印过程全自动化，提高压印效率。提高压印效率。提高压印效率。

【技术实现步骤摘要】
一种可双面压印的纳米压印设备


[0001]本专利技术属于纳米压印
，尤其涉及一种可双面压印的纳米压印设备。

技术介绍

[0002]纳米压印技术，是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。现有的纳米压印设备只能实现单面压印，如需双面压印则需要不停的转换基片，不仅费时，且费力，增加生产成本，不利于压印行业的发展。

技术实现思路

[0003]本专利技术针对上述的技术问题，提出一种可双面压印的纳米压印设备，能实现单面压印和双面压印，也可实现软压硬，软压软等压印模式，压印过程全自动化，提高压印效率。
[0004]为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案为：一种可双面压印的纳米压印设备，包括：输送装置，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧设定为输送方向，在输送装置上连接有吸附固定装置，所述吸附固定装置用于吸附固定第一模板，在所述输送装置上方，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧顺次设置有第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可双面压印的纳米压印设备，其特征在于，包括：输送装置，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧设定为输送方向，在输送装置上连接有吸附固定装置，所述吸附固定装置用于吸附固定第一模板，在所述输送装置上方，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧顺次设置有第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置，所述第一压印装置用于固定基片，所述第二压印装置用于固定第二模板。2.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：还包括控制器、设置于所述吸附固定装置上的第一感应单元、设置于所述第一压印装置上的第二感应单元、以及设置于所述第二压印单元上的第三感应单元，所述控制器与所述第一感应单元、所述第二感应单元、所述第三感应单元、所述输送装置、吸附固定装置、第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置电性连接。3.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：所述输送装置包括输送带以及驱动输送带转动的电机。4.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：所述吸附固定装置包括吸附板，设置于所述吸附板上的支撑柱以及连接于所述支撑柱上的移动块，所述吸附板上设置有透光区，在所述吸附板上位于透光区外侧设置有真空槽，所述真空槽内设置有真空孔，所述真空孔通过真空管与真空泵连接，在所述真空槽外侧设置有定位槽。5.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：所述第一滴胶装置及第二滴胶装置均包括支撑架，与支撑架连接的用于盛放胶液的胶桶，设置于胶桶内的伸缩杆以及与伸缩杆连接的胶塞，所述胶桶具有胶嘴...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：