一种可双面压印的纳米压印设备制造技术

本发明专利技术提出一种可双面压印的纳米压印设备，包括：输送装置，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧设定为输送方向，在输送装置上连接有吸附固定装置，所述吸附固定装置用于吸附固定第一模板，在所述输送装置上方，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧顺次设置有第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置，所述第一压印装置用于固定基片，所述第二压印装置用于固定第二模板。本发明专利技术能实现单面压印和双面压印，也可实现软压硬，软压软等压印模式，压印过程全自动化，提高压印效率。提高压印效率。提高压印效率。

【技术实现步骤摘要】
一种可双面压印的纳米压印设备


[0001]本专利技术属于纳米压印
，尤其涉及一种可双面压印的纳米压印设备。

技术介绍

[0002]纳米压印技术，是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。现有的纳米压印设备只能实现单面压印，如需双面压印则需要不停的转换基片，不仅费时，且费力，增加生产成本，不利于压印行业的发展。

技术实现思路

[0003]本专利技术针对上述的技术问题，提出一种可双面压印的纳米压印设备，能实现单面压印和双面压印，也可实现软压硬，软压软等压印模式，压印过程全自动化，提高压印效率。
[0004]为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案为：一种可双面压印的纳米压印设备，包括：输送装置，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧设定为输送方向，在输送装置上连接有吸附固定装置，所述吸附固定装置用于吸附固定第一模板，在所述输送装置上方，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧顺次设置有第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置，所述第一压印装置用于固定基片，所述第二压印装置用于固定第二模板，所述输送装置沿输送方向输送吸附固定装置时，通过所述第一滴胶装置向第一模板上滴压印胶，所述第一压印装置带动基片与滴胶的第二模板相接触，完成一次压印，第一压印装置释放基片，通过第二滴胶装置向基片上方滴压印胶，并通过第二压印装置带动第二模板与基片上的压印胶接触，完成二次压印，第二压印装置释放第二模板，紫外固化装置固化压印胶。
[0005]在本专利技术的一些实施例中，还包括控制器、设置于所述吸附固定装置上的第一感应单元、设置于所述第一压印装置上的第二感应单元、以及设置于所述第二压印单元上的第三感应单元，所述控制器与所述第一感应单元、所述第二感应单元、所述第三感应单元、所述输送装置、吸附固定装置、第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置电性连接，通过第一感应单元与第二感应单元之间的感应，调整吸附固定装置上第一模板与第一压印装置上基片的之间对应关系，进而保证一次压印的成品率，通过第一感应单元与第三感应单元之间的感应，调整吸附固定装置上基片与第二压印装置上第二模板之间的对应关系，保证了二次压印的成品率，进而保证了产品的合格率。
[0006]在本专利技术的一些实施例中，所述输送装置包括输送带以及驱动输送带转动的电机。
[0007]在本专利技术的一些实施例中，所述吸附固定装置包括吸附板，设置于所述吸附板上的支撑柱以及连接于所述支撑柱上的移动块，所述吸附板上设置有透光区，在所述吸附板上位于透光区外侧设置有真空槽，所述真空槽内设置有真空孔，所述真空孔通过真空管与真空泵连接，在所述真空槽外侧设置有定位槽。
[0008]在本专利技术的一些实施例中，所述第一滴胶装置及第二滴胶装置均包括支撑架，与支撑架连接的用于盛放胶液的胶桶，设置于胶桶内的伸缩杆以及与伸缩杆连接的胶塞，所述胶桶具有胶嘴，以使所述伸缩杆推动胶塞向胶嘴方向移动时，从胶嘴出胶。
[0009]在本专利技术的一些实施例中，所述胶桶为不透明材质。
[0010]在本专利技术的一些实施例中，所述第一压印装置包括第一旋转电机、与第一旋转电机连接的第一旋转块、与第一旋转块分别连接的两第一电机、与两第一电机分别连接的第一伸缩杆、与第一伸缩杆连接的第一连接块、与第一连接块连接的第一滑移块，与第一滑移块连接的第一滑移导轨块，以及连接于两第一滑移导轨块之间的第一真空吸板，所述第一真空吸板的下表面设有真空槽，所述真空槽内设有真空孔，所述真空孔通过真空管与真空泵连接。
[0011]在本专利技术的一些实施例中，所述第二压印装置包括第二旋转电机、与第二旋转电机连接的第二旋转块、与第二旋转块分别连接的两第二电机、与两第二电机分别连接的第二伸缩杆、与第二伸缩杆连接的第二连接块、与第二连接块连接的第二滑移块，与第二滑移块连接的第二滑移导轨块，以及连接于两第二滑移导轨块之间的第二真空吸板，所述第二真空吸板的下表面设有真空槽，所述真空槽内设有真空孔，所述真空孔通过真空管与真空泵连接。
[0012]在本专利技术的一些实施例中，所述紫外固化装置包括支撑杆，与支撑杆连接的连接部以及与连接部连接的紫外灯。
[0013]在本专利技术的一些实施例中，还包括外壳，所述第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置位于所述外壳内的顶端，所述输送装置位于所述外壳内的底端，所述外壳的左右两端设置有开口。
[0014]与现有技术相比，本专利技术的优点和积极效果在于：
[0015]1、输送装置沿输送方向输送吸附固定装置时，通过第一滴胶装置向第一模板上滴压印胶，第一压印装置带动基片与滴胶的第二模板相接触，完成一次压印，第一压印装置释放基片，通过第二滴胶装置向基片上方滴压印胶，并通过第二压印装置带动第二模板与基片上的压印胶接触，完成二次压印，第二压印装置释放第二模板，紫外固化装置固化压印胶，不仅能实现单面压印，也能够实现双面压印，且可实现软压硬，软压软等压印模式，压印过程全自动化，提高压印效率，节约了产生成本。
[0016]2、通过第一感应单元与第二感应单元之间的感应，调整吸附固定装置上第一模板与第一压印装置上基片的之间对应关系，进而保证一次压印的成品率，通过第一感应单元与第三感应单元之间的感应，调整吸附固定装置上基片与第二压印装置上第二模板之间的对应关系，保证了二次压印的成品率，进而保证了产品的合格率。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为本专利技术的内部结构示意图；
[0019]图2为本专利技术中吸附板的俯视结构示意图；
[0020]图3为图1中C部分的局部放大图；
[0021]图4为本专利技术中第一压印装置的结构示意图；
[0022]图5为本专利技术中第一压印装置的俯视结构示意图；
[0023]图6为本专利技术中第二压印装置的结构示意图；
[0024]图7为本专利技术中第二压印装置的俯视结构示意图；
[0025]图8为本专利技术的压印过程图；
[0026]图9为纳米压印结构的压印过程图。
[0027]以上各图中：1、输送装置；101、左侧；102、右侧；11、输送带；12、电机；2、吸附固定装置；21、吸附板；211、透光区；212、真空槽；213、真空孔；214、真空管；215、定位槽；22、支撑柱；23、移动块；3、第一模板；4、第一滴胶装置；41、支撑架；42、胶桶；421、胶嘴；43、伸缩杆；44、胶塞；5、第一压印装置；51、第一旋转电机；52、第一旋转块；53、第一电机；5本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可双面压印的纳米压印设备，其特征在于，包括：输送装置，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧设定为输送方向，在输送装置上连接有吸附固定装置，所述吸附固定装置用于吸附固定第一模板，在所述输送装置上方，自所述输送装置的左侧向所述输送装置的右侧顺次设置有第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置，所述第一压印装置用于固定基片，所述第二压印装置用于固定第二模板。2.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：还包括控制器、设置于所述吸附固定装置上的第一感应单元、设置于所述第一压印装置上的第二感应单元、以及设置于所述第二压印单元上的第三感应单元，所述控制器与所述第一感应单元、所述第二感应单元、所述第三感应单元、所述输送装置、吸附固定装置、第一滴胶装置、第一压印装置、第二滴胶装置、第二压印装置以及紫外固化装置电性连接。3.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：所述输送装置包括输送带以及驱动输送带转动的电机。4.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：所述吸附固定装置包括吸附板，设置于所述吸附板上的支撑柱以及连接于所述支撑柱上的移动块，所述吸附板上设置有透光区，在所述吸附板上位于透光区外侧设置有真空槽，所述真空槽内设置有真空孔，所述真空孔通过真空管与真空泵连接，在所述真空槽外侧设置有定位槽。5.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备，其特征在于：所述第一滴胶装置及第二滴胶装置均包括支撑架，与支撑架连接的用于盛放胶液的胶桶，设置于胶桶内的伸缩杆以及与伸缩杆连接的胶塞，所述胶桶具有胶嘴...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：