【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及纳米压印领域，更具体地说，涉及一种用于纳米压印工作模具的模切装置。
技术介绍
1、随着微纳加工技术的不断进步，母版的制备工艺日渐成熟，目前，可以用电子束光刻、离子束光刻、激光直写等方法，结合刻蚀在硅、石英等材料上制备各种微纳结构，然而大幅面微纳结构的制备，其技术难度高，加工费高昂，加工周期长，对于纳米尺度的产品，还必须保持所有图形的精确度和分辨率，而纳米压印技术就是一种新型的微纳加工技术，该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率。
2、纳米压印拼版设备可将一小组结构拼接成一大组结构，将原来数厘米大小的小目标，或者将含有微纳结构的若干宏观图形拼接成大母版，结合纳米压印技术，可快速实现微纳加工的量产。
3、在拼版的过程中，需要将小母版的工作模具裁切，然后进行拼版，一般通过人工手动裁切，将带有纳米结构的工作模具从整个模具上裁切下来，在裁切过程中需要采用固定夹具对工作模具进行固定，采用固定夹具的机械式夹取方式，容易造成工作模具上的损伤，此外，传统的裁切之后，同样需要人工将带有纳米结构的工作模具从整个模具...
【技术保护点】
1.一种用于纳米压印工作模具的模切装置，包括底座（1）和固定于其上端一侧的模切台（2），其特征在于：所述模切台（2）中部位置处开设有裁切口（201），所述模切台（2）上端面开设有两组分别对称位于裁切口（201）外侧的吸附孔（202），所述底座（1）上端通过一对电动推缸一（6）升降连接有下升降板（4），所述下升降板（4）顶端固定连接有位于裁切口（201）处的吸附台（5），所述裁切口（201）与吸附台（5）之间形成模切空间；
2.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印工作模具的模切装置，其特征在于：所述模切台（2）内部开设有与每组裁切口（201）相连通的通气槽，...
【技术特征摘要】
1.一种用于纳米压印工作模具的模切装置，包括底座（1）和固定于其上端一侧的模切台（2），其特征在于：所述模切台（2）中部位置处开设有裁切口（201），所述模切台（2）上端面开设有两组分别对称位于裁切口（201）外侧的吸附孔（202），所述底座（1）上端通过一对电动推缸一（6）升降连接有下升降板（4），所述下升降板（4）顶端固定连接有位于裁切口（201）处的吸附台（5），所述裁切口（201）与吸附台（5）之间形成模切空间；
2.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印工作模具的模切装置，其特征在于：所述模切台（2）内部开设有与每组裁切口（201）相连通的通气槽，两个所述通气槽外端共同连接有吸附管一（203）。
3.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印工作模具的模切装置，其特征在于：所述吸附台（5）在初始状态下其上端部与裁切口（201）上端面相齐平设置，且吸附台（5）截面积小于裁切口（201）截面积。
4.根据权利要求3所述的一种用于纳米压印工作模具的模切装置，其特征在于：所述吸附台（5）的四角均开设有上端具有敞口一的中空圆孔（501），相邻两个所述中空...
【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，李铭，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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