【技术实现步骤摘要】
微纳特征的压印方法
[0001]本专利技术涉及微加工
,尤其涉及一种微纳特征的压印方法。
技术介绍
[0002]将微纳尺度特征(图案)从模板转移至不同基底表面,是微电子和微机电
微加工工艺流程的关键和起始步骤,也是后续通过沉积、刻蚀等工艺制备各类微结构的基础。
[0003]传统的光刻工艺使用光刻胶和掩膜板完成微米尺度特征的转移,已被大规模应用,然而其分辨率难以到达纳米级。近年来,纳米压印技术克服了光刻工艺分辨率不足的缺点,使用经电子束刻蚀制备的模具,实现了纳米尺度特征的规模化转移。然而该方法实现的是所有模具上微纳尺度特征的同步转移,如需要组合不同的微纳尺度特征,如改变相对位置等,则要求制备多个模具,从而使得其工艺过程复杂,成本增加。
[0004]可见,现有微纳尺度特征的转移方法缺乏灵活性,在实现多种微纳尺度特征灵活组合时需制作多个模具,工艺较为繁琐,在工艺原理验证等应用场合较为低效。
技术实现思路
[0005]针对现有技术存在的技术问题,本专利技术提供一种微纳特征的压印方法,有助于 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种微纳特征的压印方法,其特征在于,包括模具制备步骤以及压印与脱模步骤,其中,模具制备步骤为:通过操控引线键合仪的电子打火促使金属丝末端形成金属球,控制金属球接触平面基底并施加键合力,促使金属球末端形成压印平面,利用引线键合仪施加的键合力和键合温度,将金属球的压印平面与预先制备好的原始模具相互挤压接触,促使原始模具表面的微纳特征压印至金属球的压印平面,以构成金属球模具;压印与脱模步骤为:利用引线键合仪施加的键合力或键合力与键合温度,将金属球模具与目标基底表面的掩膜层相互挤压接触,促使金属球模具上压印平面的微纳特征压印至目标基底表面的掩膜层,对掩膜层固化处理后,金属球模具脱离掩膜层。2.根据权利要求1所述的一种微纳特征的压印方法,其特征在于,在压印与脱模步骤中,预先把电子打火电流引入接地单元,防止电流经过金属球模具,所述接地单元为接地金属棒。3.根据权利要求1所述的一种微纳特征的压印方法,其特征在于,在压印与脱模步骤中,把电子打火电流设置为低电流值,以防止电流损坏金属球模具上的微纳特征。4.根据权利要求1所述的一种微纳特征的压印方法,其特征在于,在压印与脱模步骤中,通过对所述目标基底上的掩膜层进行热处理以实现对掩膜层的固化处理。5.根据权利要求1所述的一种微纳特征的压印方法,其特征在于,在压印与脱模步骤中,利用紫外光线穿...
【专利技术属性】
技术研发人员:王晓晶,梁秀兵,胡振峰,罗晓亮,王浩旭,尹建程,
申请(专利权)人:中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院,
类型:发明
国别省市:
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