【技术实现步骤摘要】
一种校正压印光刻机
[0001]本技术属于光刻机领域,尤其是涉及一种校正压印光刻机。
技术介绍
[0002]传统光刻通过深紫外激光依次穿过模板和光刻镜头,最终直射到置片台的晶圆上,但传统光刻对光源和光刻镜头有所要求,使其造价昂贵,与传统光刻相比,纳米压印光刻是一种全新微纳米图形化的方法,避免采用昂贵的深紫外激光和光刻镜头,只采用普通紫外灯即可达到更优的效果,具有高分辨率、成本低的特点。
[0003]但将晶圆放置在置片台上时,晶圆可能产生偏移,无法正对模板,使其最终效果不佳,造成晶圆的浪费,且置片台无法根据不同晶圆的直径进行调节,适用范围小。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种校正压印光刻机,能够使晶圆正对模板,避免产生偏移,且置片台可根据不同晶圆的直径进行调节固定。
[0005]为解决上述技术问题,本技术采用的技术方案是:一种校正压印光刻机,包括安装架、工作台、曝光室、模板、置片台和校正装置,所述安装架设置在所述工作台上,所述曝光室通过移动板可升降设置在所述安装 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种校正压印光刻机,其特征在于,包括安装架(2)、工作台(7)、曝光室(9)、模板(6)、置片台(8)和校正装置,所述安装架(2)设置在所述工作台(7)上,所述曝光室(9)可升降设置在所述安装架(2)上,在所述曝光室(9)的下端设置有压印头(5),所述模板(6)设置在所述压印头(5)上,在所述曝光室(9)内设置有紫外灯(91)和反射镜(92),所述紫外灯(91)用于发出紫外光线,所述反射镜(92)用于将所述紫外光线垂直反射至所述模板(6)上,所述校正装置可升降设置在所述曝光室(9)的一侧,所述校正装置包括校正架(12)和校正杆(16),所述校正杆(16)可滑动设置在所述校正架(12)上,所述置片台(8)可滑动设置在所述工作台(7)内,所述置片台(8)与所述校正杆(16)和所述模板(6)相配合。2.根据权利要求1所述的一种校正压印光刻机,其特征在于:在所述校正架(12)内设置有推动杆(14)和固定座(15),所述固定座(15)设置在所述校正架(12)的底端,所述推动杆(14)可转动设置在所述固定座(15)上,在所述固定座(15)上贯穿设有弧形槽(151),所述弧形槽(151)斜向设置,所述校正杆(16)滑动设置在所述弧形槽(151)内,所述推动杆(14)与所...
【专利技术属性】
技术研发人员:ꢀ七四专利代理机构,
申请(专利权)人:常熟埃眸科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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