一种纳米压印光刻机制造技术

本实用新型专利技术涉及光刻机技术领域，且公开了一种纳米压印光刻机，包括底座、压板和支架，所述支架的底端与底座的上表面固定，所述底座的上表面固定有安装座，所述安装座的顶部固定设置有基板承载台，所述基板承载台的内部设置有三个电动升降顶针，所述安装座的一侧设置有位置传感器，所述位置传感器的下表面固定有第一支撑杆，所述第一支撑杆的底端与底座的上表面固定。该纳米压印光刻机，在使用过程中，通过第二弹簧推动卡接件，对遮光板进行固定，然后进行纳米压印，该过程在不更换软模具的情况下，仅需更换基板，实现了循环操作，而且可以避免发生溢胶现象，从而防止基板粘在托盘上难以分离，有利于提高生产效率。有利于提高生产效率。有利于提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种纳米压印光刻机


[0001]本技术涉及光刻机
，具体为一种纳米压印光刻机。

技术介绍

[0002]纳米压印光刻(Nano
‑
ImprintLithography)是一种全新的纳米图形复制方法。它采用高分辨率电子束光刻等方法将结构复杂的纳米结构图案制在模具上，然后用预先图案化的模具使聚合物材料变形从而在聚合物上形成结构图案。其特点是具有超高分辨率，高产量，低成本。高分辨率是因为它没有光学曝光中的衍射现象和电子束曝光中的散射现象。高产量是因为它可以像光学曝光那样并行处理，同时制作成百上千个器件。低成本是因为它不像光学曝光机那样需要复杂的光学系统或电子束曝光机那样需要复杂的电磁聚焦系统。因此纳米压印可望成为一种工业化生产技术，并已被纳入2003版的国际半导体蓝图(ITRS)，与极紫外光刻，X射线光刻，电子束光刻，离子束光刻一起成为下一代光刻技术的强有力竞争者；纳米压印技术已经展示了广阔的应用领域。如用于制作量子磁碟，数据存储器，DNA电泳芯片，GaAs光检测器,波导起偏器，硅场效应管，高密度磁结构.GaAs量子器件，纳米电机系统和微波集成电路等。
[0003]目前市场上的一些纳米压印装置：
[0004](1)不便于对基板进行定位，降低了压印的准确性，导致增加了生产成本；
[0005](2)在使用过程中发生溢胶现象时，真空泵会将溢出的胶体吸入吸附槽中，胶体在吸附槽中流动固化，会造成基板粘在承载台上难以分离，不利于提高生产效率。
[0006]所以我们提出了一种纳米压印光刻机，以便于解决上述中提出的问题。

技术实现思路

[0007](一)解决的技术问题
[0008]针对上述
技术介绍
中现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种纳米压印光刻机，以解决上述
技术介绍
中提出的目前市场上的一些纳米压印光刻机，存在不便于对基板进行定位，降低了压印的准确性，导致增加了生产成本和在使用过程中发生溢胶现象时，真空泵会将溢出的胶体吸入吸附槽中，胶体在吸附槽中流动固化，会造成基板粘在承载台上难以分离，不利于提高生产效率的问题。
[0009](二)技术方案
[0010]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：
[0011]一种纳米压印光刻机，包括底座、压板和支架，所述支架的底端与底座的上表面固定，所述底座的上表面固定有安装座，所述安装座的顶部固定设置有基板承载台，所述基板承载台的内部设置有三个电动升降顶针，所述安装座的一侧设置有位置传感器，所述位置传感器的下表面固定有第一支撑杆，所述第一支撑杆的底端与底座的上表面固定，所述安装座的另一侧设置有套筒，所述套筒的底面固定有两个第二支撑杆，两个所述第二支撑杆的底端均与底座的上表面固定，所述套筒的内部设置有伸缩杆，所述套筒的一侧开设有条
孔，所述条孔的内部设置有第一拉杆，所述第一拉杆的一端与伸缩杆的一侧固定，所述第一拉杆的另一端固定套接有防滑套，所述伸缩杆的一端固定有连接块，所述连接块的一侧固定有基板承载支架；
[0012]所述支架的下表面固定有两个连接板，两个所述连接板与支架的下表面之间均固定设置有角钢，两个所述连接板的底端均与压板的上表面固定，所述压板的下表面设置有软模具，所述软模具的下表面设置有夹具，所述支架的下表面设置有紫外线灯，所述紫外线灯位于压板的正上方。
[0013]优选的，三个所述电动升降顶针的底面均与基板承载台的内底壁固定，三个所述电动升降顶针的顶端均通过基板承载台上表面所开设的通孔延伸到外部，三个所述电动升降顶针以基板承载台的中心为圆心呈圆周阵列分布。
[0014]优选的，所述基板承载台的上表面开设有真空吸附槽，所述真空吸附槽的形状为圆形，所述安装座的内部固定安装有真空泵，所述真空泵的输出端与真空吸附槽接通连接。
[0015]优选的，所述套筒的内部设置有第一弹簧，所述第一弹簧的一端与伸缩杆的一端固定，所述第一弹簧的另一端与套筒的内侧壁固定。
[0016]进一步的，所述伸缩杆的上表面均匀开设有若干个卡槽，所述套筒的上表面固定设置有连接件，所述连接件上通过销轴铰接有与卡槽相适配的卡板，所述卡板的形状为L形。
[0017]进一步的，所述紫外线灯的两侧均固定有移动杆，两个所述移动杆远离紫外线灯的一端均固定有空心块，两个所述空心块的顶端均设置有螺纹块，两个所述螺纹块的内部均螺纹连接有螺纹杆，两个所述螺纹杆的顶端均与支架的下表面固定，两个所述螺纹杆的底端均固定有限位块，所述紫外线灯的顶端连接有导线，所述支架的下表面设置有线槽，所述导线的一端通过线槽延伸到支架的内部。
[0018]进一步的，两个所述连接板上均活动插接有第二拉杆，两个所述第二拉杆外侧的一端均固定有拉块，两个所述第二拉杆内侧的一端均固定有卡接件，两个所述卡接件的一侧与其对应的连接板之间均固定设置有第二弹簧，两个所述卡接件之间卡接有遮光板。
[0019](三)有益效果
[0020]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该纳米压印光刻机：
[0021](1)在使用时，将基板放置于基板承载支架上并固定其位置，通过位置传感器感应其位置准确，并传输信号至纳米压印设备的中央控制单元，此时纳米压印设备的中央控制单元控制电动升降顶针升起，然后移动伸缩杆，时伸缩杆带动基板承载支架移出设备，之后将卡板卡接在对应的卡槽内，位置传感器检测到基板承载支架移出设备并传输信号，设备中央控制单元控制电动升降顶针下降，基板落于设备基板承载台上，之后打开真空泵，基板于纳米压印设备内的定位、固定动作结束，继续进行下一步的压印流程，使得基板的定位更加快速精准，保证了纳米压印的精确性，从而降低了生产成本。
[0022](2)在使用过程中，通过第二弹簧推动卡接件，对遮光板进行固定，然后进行纳米压印，该过程在不更换软模具的情况下，仅需更换基板，实现了循环操作，而且可以避免发生溢胶现象，从而防止基板粘在托盘上难以分离，使用方便，有利于提高生产效率。
附图说明
[0023]图1为本技术纳米压印光刻机的结构示意图；
[0024]图2为本技术纳米压印光刻机的A处的放大示意图；
[0025]图3为本技术纳米压印光刻机的B处的放大示意图；
[0026]图4为本技术纳米压印光刻机的C处的放大示意图；
[0027]图5为本技术纳米压印光刻机的基板承载台和安装座的结构示意图；
[0028]图6为本技术纳米压印光刻机的基板承载台的俯视图；
[0029]图7为本技术纳米压印光刻机的基板承载支架的结构示意图；
[0030]图8为本技术纳米压印光刻机的套筒的结构示意图。
[0031]图中：支架1，底座2，角钢3，压板4，夹具5，位置传感器6，第一支撑杆7，电动升降顶针8，安装座9，基板承载台10，基板承载支架11，连接块12，伸缩杆13，第二支撑杆14，套筒15，条孔16，连接板17，软模具 18，卡槽19，真空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印光刻机，包括底座(2)、压板(4)和支架(1)，其特征在于，所述支架(1)的底端与底座(2)的上表面固定，所述底座(2)的上表面固定有安装座(9)，所述安装座(9)的顶部固定设置有基板承载台(10)，所述基板承载台(10)的内部设置有三个电动升降顶针(8)，所述安装座(9)的一侧设置有位置传感器(6)，所述位置传感器(6)的下表面固定有第一支撑杆(7)，所述第一支撑杆(7)的底端与底座(2)的上表面固定，所述安装座(9)的另一侧设置有套筒(15)，所述套筒(15)的底面固定有两个第二支撑杆(14)，两个所述第二支撑杆(14)的底端均与底座(2)的上表面固定，所述套筒(15)的内部设置有伸缩杆(13)，所述套筒(15)的一侧开设有条孔(16)，所述条孔(16)的内部设置有第一拉杆(30)，所述第一拉杆(30)的一端与伸缩杆(13)的一侧固定，所述第一拉杆(30)的另一端固定套接有防滑套(24)，所述伸缩杆(13)的一端固定有连接块(12)，所述连接块(12)的一侧固定有基板承载支架(11)；所述支架(1)的下表面固定有两个连接板(17)，两个所述连接板(17)与支架(1)的下表面之间均固定设置有角钢(3)，两个所述连接板(17)的底端均与压板(4)的上表面固定，所述压板(4)的下表面设置有软模具(18)，所述软模具(18)的下表面设置有夹具(5)，所述支架(1)的下表面设置有紫外线灯(35)，所述紫外线灯(35)位于压板(4)的正上方。2.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征在于，三个所述电动升降顶针(8)的底面均与基板承载台(10)的内底壁固定，三个所述电动升降顶针(8)的顶端均通过基板承载台(10)上表面所开设的通孔延伸到外部，三个所述电动升降顶针(8)以基板承载台(10)的中心为圆心呈圆周阵列分布。3.根据权利要求1所述的一种纳米压印光刻机，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈杰相，
申请(专利权)人：苏州硕芯电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：