【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于图像处理，具体涉及一种纳米压印图像的检测方法。
技术介绍
1、纳米科学自上世纪90年代以来蓬勃发展，目前其成果已经在很多行业得到了广泛应用。纳米材料加工技术是纳米科学的基础,纳米压印技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单、大面积结构复制的均匀性和重复性良好的特点。纳米压印的基本指导思想就是通过转移介质将掩模具上的图形转移到基板上，基板的表面涂上光刻胶，然后将模板压在其表面，采用加压的方式使图案转移到光刻胶上。但在纳米压印的实际操作过程中，加工后的基板图形并不一定满足生产需求，因此需对加工后的基板图像与模具的图像进行对比分析，确定纳米压印加工是否合格。
技术实现思路
1、本专利技术为了解决以上问题，提出了一种纳米压印图像的检测方法。
2、本专利技术的技术方案是：一种纳米压印图像的检测方法包括以下步骤：
3、s1、采集待检测基板的压印图像，并获取待检测基板对应的纳米压印模具的模板图像；
4、s2、根据模板图像，确定压印图像的成形度；
<...【技术保护点】
1.一种纳米压印图像的检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述S2包括以下子步骤：
3.根据权利要求2所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述S22包括以下子步骤：
4.根据权利要求3所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述S221中，像素点的像素偏置值b的计算公式为：；式中，K表示像素点的像素值，β表示极小的正数，K0表示所有像素点的像素值均值。
5.根据权利要求3所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述S223中，像素点的边缘完整度w的计...
【技术特征摘要】
1.一种纳米压印图像的检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述s2包括以下子步骤：
3.根据权利要求2所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述s22包括以下子步骤：
4.根据权利要求3所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述s221中，像素点的像素偏置值b的计算公式为：；式中，k表示像素点的像素值，β表示极小的正数，k0表示所有像素点的像素值均值。
5.根据权利要求3所述的纳米压印图像的检测方法，其特征在于，所述s223中，像素点的边缘完整度w的计算公式为：；式中，x表示像素点的海森矩阵，random[·]表示随机数函数，b表示像素点的像素偏置值，d表示矩阵值序列的中位数。
6.根据权利要求1所述的纳米压印图像的检...
【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，李铭，董征，刘苹伟，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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