光刻系统技术方案

本发明专利技术涉及一种光刻系统。该光刻系统具有至少一个空间光调制器、构造成使曝光区域相对于目标对象沿扫描方向运动的扫描机构、多个存储器（第１个至第Ｎ个存储器）、数据处理器和曝光控制器。该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域。所述多个存储器与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应。所述数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据，所述曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件。所述数据处理器在第１存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第１个至第Ｎ－１个存储器中的曝光数据分别移位至第２个至第Ｎ个存储器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种无掩模或无刻线光刻系统，该系统直接在诸如基板 的目标对象上写入或形成图案。具体地说，本专利技术涉及对曝光处理的控 制。
技术介绍
本专利技术涉及在日本专利申请No.2007-209528 (2007年8月10日提 交)中包含的主题，该申请的全部内容通过引证清楚地结合于此。在制造集成电路时，对印刷电路板或涂覆有光刻胶的基板进行光刻 处理，即曝光处理，用于使预定图案在基板上成像。在无掩模或无刻线 光刻系统中，使用具有多个二维阵列元件的空间光调制器，例如DMD(数 字微镜装置)或LCD (液晶装置)。来自光源的光被调制元件反射，每个 元件(例如可实施为镜子)基于图案数据投射图像的一部分。在曝光处理中，将涂覆有光刻胶的材料布置在台上，并使该台相对 于光敏材料沿扫描方向运动，从而扫描曝光区域(空间光调制器的投射 区域)。根据曝光区域的相对位置和图案数据对空间光调制器的每个元件 进行调制，即接通/切断。在曝光处理之后，进行显影处理、蚀刻处理、 光刻胶移除处理等等。对于曝光方法，使用步骤重复处理或者连续扫描 方法。另外，可利用在相同区域上重复照射光的多次曝光方法。在与CAD系统连接的光刻系统中，将图案数据(例如向量数据)传 输到光刻系统，并将图案数据转化为用于控制光调制元件的光栅数据。 每个光调制元件(可以是微镜)受到对应光栅数据的控制。根据曝光区 域的相对运动重复进行图案数据的输入、图案数据的处理和元件的控制。 也就是说，每次曝光区域到达待曝光的预定区域时，就更新图案数据。 这些光刻系统在日本专利公报No.2003-57836A、No.2003-15309A中公开。大量图案数据的频繁更新花费很多时间，并影响总曝光时间(即生 产率)。为了减轻数据处理的负荷，例如对具有坐标信息的向量数据进行坐标变换处理，并对变换后的向量数据的一部分取样。而且，DMD的反 射表面被分成多个区域，并在每个区域中当光栅数据传输到镜子之后对 该镜子进行重置。这些光刻系统在日本专利公报No.2005-84198A、 No.2005-55881A中公开。空间光调制器包括许多元件(例如1024X768个元件)。光栅数据量 和用于存储光栅数据所需的存储容量取决于元件数量。另外，由于曝光 区域相对于基板而言较小，所以在光刻系统中布置多个空间光调制器， 并且应根据空间光调制器的数量准备图案数据和存储。因此，数据传输 处理和用于生成光栅数据的数据变换处理需要大量时间，并且生产率没 有得到改进。特别是在多次曝光方法的情况下，数据传输和数据变换处 理的频率与单次曝光方法相比较大。因此，台的相对运动和曝光间距由于处理数据所需的时间较长而受限。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光刻系统或方法，其在使用简单数据处 理电路的同时通过增加处理速度而能够减少曝光数据的处理时间。根据本专利技术的光刻系统具有至少一个空间光调制器，该空间光调制 器包括扫描机构和多个规则排列的光调制元件。该扫描机构使曝光区域 相对于目标对象沿给定扫描方向运动，从而扫描照射光。曝光区域限定 为来自空间光调制器的投射区域。光刻系统具有多个存储器，所述存储器构造成与通过划分所述曝 光区域而限定的多个局部曝光区域对应；数据处理器，该数据处理器根 据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据；以及曝光控制器，该 曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件。所 述多个存储器指定为第1个至第N个存储器。例如，所述多个存储器可 彼此串联连接。在本专利技术中，所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N-l个存储器中的曝光数据分别移位至第2 个至第N个存储器。对于一个存储器生成光栅数据，并将存储在该存储 器中的光栅数据顺序移位至其它存储器。当所述曝光区域相对于扫描方向倾斜或旋转给定角度时，优选的是， 所述数据处理器使曝光数据移位数量与给定角度对应的像素，使得局部 曝光区域的曝光位置与其它局部曝光区域的曝光位置相同。优选的是，所述多个局部曝光区域通过等分所述曝光区域而限定。 所述曝光控制器以对应于一个局部曝光区域宽度的间距执行曝光动作。根据本专利技术的另一方面， 一种在目标对象上进行光刻的方法包括a) 使曝光区域相对于对象沿扫描方向运动；b)根据曝光定时在多个存储器 (第1个至第N个存储器)的每一个中连续存储曝光数据；C)基于曝光 区域的相对位置控制所述多个光调制元件；以及d)在第1存储器中写入 新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N-l个存储器中的曝光数据 分别移位至第2个至第N个存储器。根据本专利技术另一方面的光刻系统具有至少一个空间光调制器，该空 间光调制器包括扫描机构和多个规则排列的光调制元件，该扫描机构构 造成使曝光区域相对于目标对象沿扫描方向运动。曝光区域限定为来自 空间光调制器的投射区域。该光刻系统还具有数据处理器，该数据处 理器生成与通过划分所述曝光区域限定的多个局部曝光区域对应的曝光 数据序列；以及曝光控制器，该曝光控制器基于所述曝光区域的相对位 置控制所述多个光调制元件。所述数据处理器生成和更新与头部局部曝 光区域对应的头部曝光数据。注意，头部局部曝光区域表示首先经过和 到达待印刷区域的曝光区域。然后，当每个其余的局部曝光区域稍后经 过所述头部局部曝光区域的曝光位置时，所述曝光控制器基于所述头部 曝光数据进行曝光。根据本专利技术的另一方面， 一种在目标对象上进行光刻的方法包括a) 相对于光敏材料沿扫描方向扫描曝光区域，该曝光区域限定为来自至少 一个空间光调制器的投射区域；b)生成与通过划分所述曝光区域限定的 多个周部曝光区域对应的曝光数据序列；c)基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件；d)生成和更新与头部局部曝光区域对应的 头部曝光数据；以及e)当每个其余的局部曝光区域稍后经过所述头部局 部曝光区域的曝光位置时，基于所述头部曝光数据执行曝光动作。根据本专利技术另一方面的一种制造基板的方法包括a)在覆有光敏材 料的基板上进行曝光处理；b)进行显影处理；c)在显影后的基板上进 行蚀刻或电镀处理；以及d)在蚀刻或电镀后的基板上进行光刻胶移除处 理。然后，通过上述一个光刻系统进行曝光处理。附图说明从以下结合附图给出的对本专利技术的优选实施方式的描述将更好地理 解本专利技术，附图中图1是根据本实施方式的光刻系统的示意性立体图； 图2是曝光单元的示意性剖面图； 图3是表示扫描处理的图； 图4是光刻系统的框图； 图5是表示曝光区域划分的图6是根据步骤重复方法和多次曝光方法进行的曝光处理的流程 图；并且图7是表示曝光动作处理的图。具体实施例方式下面参照附图描述本专利技术的优选实施方式。图1是根据本实施方式的光刻系统的示意性立体图。图2是曝光单 元的示意性剖面图。图3是表示扫描处理的图。具有门件12和基部14的光刻系统IO是用于在涂覆有光敏材料的基 板SW上投射光从而使电路图案在基板SW上成像或形成的设备。在基 部14上设置支撑台18的X-Y导向机构(这里未示出)，并将基板SW设 置在台18上。在门件12上附接八个曝光单元20i至208。 一个曝光单元2(^配备有 第一照明光学系统(未示出)，第二照明光学系统22、 DMD24和物镜光 学系统26 (见图2)。其它曝本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻系统，该光刻系统包括：　至少一个空间光调制器，该空间光调制器包括多个规则排列的光调制元件；　扫描机构，该扫描机构构造成使曝光区域相对于目标对象沿给定扫描方向运动，该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域；　多个存储器，所述存储器构造成与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应，所述多个存储器指定为第１个至第Ｎ个存储器；　数据处理器，该数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据；以及　曝光控制器，该曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件，　其中，所述数据处理器在第１存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第１个至第Ｎ－１个存储器中的曝光数据分别移位至第２个至第Ｎ个存储器。

【技术特征摘要】
JP 2007-8-10 2007-2095281.一种光刻系统，该光刻系统包括至少一个空间光调制器，该空间光调制器包括多个规则排列的光调制元件；扫描机构，该扫描机构构造成使曝光区域相对于目标对象沿给定扫描方向运动，该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域；多个存储器，所述存储器构造成与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应，所述多个存储器指定为第1个至第N个存储器；数据处理器，该数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据；以及曝光控制器，该曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件，其中，所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N-1个存储器中的曝光数据分别移位至第2个至第N个存储器。2. 根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述存储器彼此串联连接。3. 根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述曝光区域相对于扫 描方向倾斜给定角度，所述数据处理器使曝光数据移位数量取决于角度 的像素，使得局部曝光区域的曝光位置与其它局部曝光区域的曝光位置 相同。4. 根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述多个局部曝光区域 通过等分所述曝光区域而限定，所述曝光控制器以对应于一个局部曝光 区域宽度的间距执行曝光动作。5. —种在目标对象上进行光刻的方法，该方法包括 使曝光区域相对于对象沿扫描方向运动，该曝光区域限定为来自至少一个空间光调制器的投射区域，所述空间光调制器具有多个规则排列 的光调制元件；根据曝光定时在多个存储器的每一个中连续存储曝光数据，所述多 个存储器构造成与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对 应，所述多个存储器指定为第1个至第N个存储器；基于曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件；以及 在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在...

【专利技术属性】
技术研发人员：奥山隆志，小林义则，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]