彩色显象管及其制造方法技术

提供一种彩色显象管，其黑色基质层具有清晰的光束孔，形成具优良对比度的象，还提供该显象管的制造方法。在屏权的内表面上有防反射层的彩色显象管的生产中，在屏板的内表面上形成所述的ＢＭ层之后，涂层一种含有ＳｉＯ↓［２］微细颗粒的Ｓｉ（ＯＲ）↓［４］的醇溶液，同时在该屏板的内表面上不存在该ＢＭ层的部位，形成所述含ＳｉＯ↓［２］细微颗粒的防反射层。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种彩色显象管(CRT，即阴极射线管)，该显象管的屏板上有防反射层，还涉及该种显象管的制造方法。更具体讲，所涉及的显象管所具有的防反射层可以防止在其屏板内表面上反射外来光线，还涉及这种显象管的制造方法。显象管的屏板(即显象表面)的表面一般是有光泽的，于是就存在这样的问题对于外来光线有强的反射，在该屏板上显示的象就不容易观看。由于带有各式显象管的显示装置除在电视机上应用外，还在信息系统的终端装置上得到广泛应用，上述的外来光线反射问题在VDT(视觉显示终端机)领域就广泛存在，对于防止反射的要求越来越迫切。迄今已采取了多种抵消措施来防止外来光线的反射。其中之一是用硅氟化氢腐蚀玻璃表面，使之形成深度5-3000nm、节距10-200nm的波纹，从而具有防反射的作用(USP2490662);另一方法是将烷氧基甲硅烷(Si(OR)4，R是烷基)的醇溶液喷向玻璃表面，然后焙烤该表面，于是形成由SiO2膜组成的波纹(Japanese Patent L.O.118932/1986)。对于要求高分辨度的高精度显象管以及高解象度的电视显象管，有一种防反射的方法已在实际应用淀积一层金属化合物，如MgF2、TiO2或SiO2或一种聚合的化合物，或是涂上多层;精确地控制该膜的厚度和折射率;并且利用光的干涉来减弱反射的光线。然而，前述各方法都是防止反射的方法，并且是针对显象管的屏板的外表面防反射。按照这些方法本身，会发生这样的情况，在该屏板的内表面反射的外来光线的影响，在该表面强烈地显现，并使得所成的象不易看到。这样，就会想到在该屏板的内表面上形成含有前述内容的防反射层可能是有用的。然而，在显象管的内表面上还必须涂覆燐光体，并且该防反射层必须能很好地承受此一涂层的影响。因此，这里出现了这样那样的问题。换言之，按照用H2SiF6腐蚀屏板的内表面而将之粗化的方法，当涂覆该燐光体时由于不同的化学处理产生粗化表面变化的问题，并且燐光体不能平整地涂覆。在采用的方法是喷Si(OR)4的醇溶液而形成波纹表面时，存在的问题是表面的波纹程度太剧烈，使得燐光体不能很好地淀积上去。此外，在涂多层金属化合物或聚合的化合物时，其膜层一般是借助真空淀积或溅射法涂上去。然而，所存在的问题是膜的品质非常容易改变，并且由于在涂燐光体时的热处理和化学处理使其反射因数急剧增大。为了解决这些问题，本专利技术者在先前曾提出一种显象管，在该管的屏板的内表面上有具有防反射特性的膜，以及这种显象管的生产方法。本专利技术者先前建议的技术包括如图5所示，在显象管的屏板3的表面3′上，涂覆一种加有SiO2的Si(OR)4在醇中溶液;将该屏板焙烤，形成由SiO2膜组成的防反射层5;然后在该层上形成黑的基质石墨层4(后文中称之为BM层)以及燐光体层6。然而，这种方法存在以下的问题(1)在用此法时，所述防反射层5是位于内表面3′和BM层4之前，如图5所示。这样，BM层的光束孔4′不能精确地开成“清晰切成”的形式。近年来，由于对高精度彩色显象管的要求是小的光束直径和细微的节距，这一要求日益提高，上述的技术难以达到这一要求。(2)如图5所示，防反射层5位于屏板3的内表面3′与BM层4之间。因此，由于来自防反射层5的温射及反射光，使BM层4有一定程度的显白色。由于BM层的本身作用是增大对比度，它应当尽可能地显黑色。(3)此外，在涂覆BM层4时，对于屏板的已涂覆过的内表面3′必须用氢氟酸或碱加以清洗。若事先已经淀积了防反射层5，用氢氟酸或碱去洗会使防反射层5变质，所以这里的局限性是不能进行充分洗涤。本专利技术的目的是提供一种彩色显象管和制造这种显象管的方法，从而解决上述的先有技术中存在的问题。其在BM层上所开的光束孔成“清晰切成”的形式，使所成的象具极优的对比度，并且所成的防反射层可以承受涂覆燐光体层时进行的各项处理，对于燐光体的涂层无不利影响，并且对于屏板的内表面有充分和合要求的防反射特性。在屏板的内表面上有防反射层的彩色显象管的生产中，达到上述的目的是按如下方式制造彩色显象管在屏板的内表面上形成所述的BM层之后，涂覆一种Si(OR)4的醇溶液，其中加有SiO2的微细颗粒，同时在该屏板的内表面上至少该BM层不存在的部位，也形成所述SiO2细微颗粒的防反射层。更确切地讲，在常规式显象管的形成BM层和燐光体层的步骤中，先把屏板的内表面用氢氟酸等清洗，然后用通常的方法形成该BM层。其后，涂覆含有细微SiO2颗粒的Si(OR)4醇溶液，然后于约100℃干燥，形成由SiO2细微颗粒组成、由SiO2粘合剂固定该颗粒的防反射层。最后，用常规方法涂覆燐光体层。按照本专利技术的彩色显象管及其生产方法，在形成该BM层之后才形成该防反射层。因此，可以很精确地形成BM层，并且可以提高光束孔的品质，诸如其形状、可切割性和均匀性。此外，由于在屏板的内表面和BM层之间不存在防止反射的漫射层，可以保持BM层固有的黑色。BM层占有屏板整个内表面面积的大约20%，同时防反射效果的损失也相当于这个百分率。然而，由于在其余80%表面积上涂覆了防反射层，不致于有显著的影响。所述防反射层是由SiO2细微颗粒构成，其厚度小于0.5μm。在防反射层上涂覆的燐光体的晶粒大小约为10μm。因此，该防反射层全然不会影响到燐光体的涂覆精确度。此外，该防反射层是由SiO2构成，其透射因数为90%，它等于或高于玻璃的透射因数。因此，该反射层不会影响燐光体的亮度，并且，由于有防反射效果，燐光体发出的光显现在屏板前表面的比率更大，甚致使亮度得到提高。当涂覆BM层之时，BM层的涂布精确度受基质清洁度很大影响。在前述的先有技术的方法中，其基质是该防反射膜，因此不能使用强力的清洗剂如氢氟酸、苛性钠等等。在采用本专利技术时，许可使用这样的强清洗剂，因此可以得到极清洁的BM层。还有，由于上述在屏板内表面形成的防反射层是由SiO2细微颗粒构成，其表面十分平整，在此层的表面上涂覆燐光体和BM石墨就很容易。因为SiO2微细颗粒是由Si(OR)4分解所成的SiO2粘结剂所牢牢固定住，它具有极优的耐化学、耐热和机械性能，对于各种化学和热处理显示极优的耐受性。附图说明图1所示是按本专利技术的显象管屏板的主部位放大示意图;图2是按本专利技术的彩色显象管部分截面结构示意图;图3可以解释图2中的防反射层的防反射机制;图4是不同情况下，彩色显象管屏板内表面上正反射因数曲线的比较。图4中，A代表在内表面没有防反射层;B代表在内表面上具有晶粒大小为0.3μm的SiO2细颗粒的防反射层;C代表在内表面上具有晶粒大小为0.5μm的SiO2细颗粒的防反射层。图5是按先有技术的显象管屏板的主部位的放大示意图。优选实施方案后文中，参照此实施方案对本专利技术的显象管及其生产加以详细阐释。参照图2和3，当外来光线L入射到屏板3的外表面，此光线的一部分被该外表面所反射，成为反射光L1，一部分成为入射光L2，进入到屏板3的内表面处。若不存在防反射层2，L2被表面E所反射，再次射向外而到达该外表面。然而，因为屏板3的内表面E和D之间这部分充填有SiO2细颗粒7和固定颗粒7的粘结剂8，并由于其折射指数基本上等于SiO2玻璃的折射指数，即约1.47，由于干涉作用使该光线穿过表面E并成为入射光线L3。若表面D是平的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色显象管（ＣＲＴ，即阴极射线），该显象管的屏板的内表面具有一个防反射层，所述防反射层含有ＳｉＯ↓［２］细微颗粒，并且该防反射层是淀积到所述屏板上不存在黑色基质（ＢＭ）层的部位。

【技术特征摘要】
JP 1991-3-11 44664/911.一种彩色显象管(CRT，即阴极射线管)，该显象管的屏板的内表面具有一个防反射层，所述防反射层含有SiO2细微颗粒，并且该防反射层是淀积到所述屏板上不存在黑色基质(BM)层的部位。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：河村启溢，小原克美，河村孝男，
申请(专利权)人：株式会社日立制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]