一种陶瓷管负载催化剂设备制造技术

本实用新型专利技术为一种陶瓷管负载催化剂设备，包括：反应池，用于储存待涂覆的试剂；涂覆装置，用于将反应池中的试剂涂覆至管内；回流机构，用于将涂覆装置涂覆过程中剩余的试剂回流至反应池中；真空装置，用于对涂覆装置进行真空处理；其中，反应池通过输送管道连接于涂覆装置的上部；回流机构连接于涂覆装置的底部，且，另一端伸入反应池的内部；真空装置连接于涂覆装置的侧方，且，与涂覆装置内部连通。与涂覆装置内部连通。与涂覆装置内部连通。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷管负载催化剂设备


[0001]本技术涉及催化剂喷涂设备领域，具体涉及一种陶瓷管负载催化剂设备。

技术介绍

[0002]近年来，随着工业烟气排放要求提高，治理新技术也不断革新，其中陶瓷催化滤管工艺逐步成为烟气脱硝除尘领域的重点发展方向。陶瓷催化滤管主要用作工业烟气脱硝除尘，内部为错综复杂的多孔结构，具有脱硝效率高，除尘能力强等特点，其制作过程较为复杂，需经过产品成型、焙烧、负载催化剂、烘烤等流程。而目前负载催化剂主要以浸渍法为主，所需处理时间较长，且催化剂负载极易不均匀，对催化剂药剂的使用造成很大的浪费。

技术实现思路

[0003]本技术提出一种陶瓷管负载催化剂设备，将催化剂通过排液管伸入涂覆管内部进行喷涂，多余的催化剂试剂可以在底部回流至反应池中，以解决上述提到的技术问题。
[0004]本技术的有益效果为：
[0005]一种陶瓷管负载催化剂设备，包括：
[0006]反应池，用于储存待涂覆的试剂；
[0007]涂覆装置，用于将所述反应池中的试剂涂覆至管内；
[0008]回流机构，用于将所述涂覆装置涂覆过程中剩余的试剂回流至所述反应池中；
[0009]真空装置，用于对所述涂覆装置进行真空处理；
[0010]其中，所述反应池通过输送管道连接于所述涂覆装置的上部；所述回流机构连接于所述涂覆装置的底部，且，另一端伸入所述反应池的内部；所述真空装置连接于所述涂覆装置的侧方，且，与所述涂覆装置内部连通。
[0011]进一步地，所述反应池中具有多个搅拌单元。
[0012]进一步地，所述涂覆装置包括喷涂室、回收室、排液管、涂覆管；
[0013]所述喷涂室处于所述回收室的上方；所述涂覆管设置于所述喷涂室的内部；所述排液管与所述输送管道相连接，且，从所述喷涂室的上部伸入所述涂覆管的内部。
[0014]进一步地，所述回流机构包括回流管、回流泵、第一阀；
[0015]所述回流泵和所述第一阀均连接于所述回流管上。
[0016]进一步地，所述真空装置包括真空管、真空泵、第二阀；
[0017]所述真空泵和所述第二阀均连接于所述真空管上。
[0018]进一步地，所述输送管道设有输送泵和第三阀。
[0019]进一步地，所述涂覆管设置为多个，所述排液管具有多个喷头；
[0020]所述喷头与所述涂覆管一一对应，且，伸入所述涂覆管内部。
[0021]本技术的有益效果为：
[0022]本技术通过设置涂覆装置，排液管伸入至涂覆管中进行喷涂，在喷涂的过程中涂覆装置底部会储存剩余的药剂，且可以通过回流机构回流至反应池中，避免造成浪费。
真空装置能够让涂覆装置在喷涂的过程中其内部呈负压状态，使涂覆更加充分。
附图说明
[0023]图1为一种陶瓷管负载催化剂设备结构示意图。
[0024]1、反应池；2、涂覆装置；3、回流机构；4、真空装置；5、输送管道；11、搅拌单元；21、喷涂室；22、回收室；23、排液管；24、涂覆管；31、回流管；32、回流泵；33、第一阀；41、真空管；42、真空泵；43、第二阀；51、输送泵；52、第三阀；231、喷头。
具体实施方式
[0025]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0026]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0027]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本技术进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本技术的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本技术的概念。
[0028]如图1所示，一种陶瓷管负载催化剂设备，包括：
[0029]反应池1，用于储存待涂覆的试剂；
[0030]涂覆装置2，用于将反应池1中的试剂涂覆至管内；
[0031]回流机构3，用于将涂覆装置2涂覆过程中剩余的试剂回流至反应池1中；
[0032]真空装置4，用于对涂覆装置2进行真空处理；
[0033]其中，反应池1通过输送管道5连接于涂覆装置2的上部；回流机构3连接于涂覆装置2的底部，且，另一端伸入反应池1的内部；真空装置4连接于涂覆装置2的侧方，且，与涂覆装置2内部连通。
[0034]具体而言，通过输送管道5将催化剂药剂从反应池1中输送至涂覆装置2中进行涂覆操作。在喷涂的过程中涂覆装置2底部会储存剩余的药剂，且可以通过回流机构3回流至反应池中，避免造成浪费。真空装置4能够让涂覆装置2在喷涂的过程中其内部呈负压状态，使涂覆更加充分。
[0035]可选的，反应池1中具有多个搅拌单元11。
[0036]搅拌单元11可以让反应池1中的催化剂药剂混合充分，且当有药剂从涂覆装置2的底部回流至反应池1中时，搅拌单元11也可通过搅拌使得回流的药剂更好地混合进去。
[0037]可选的，涂覆装置2包括喷涂室21、回收室22、排液管23、涂覆管24；
[0038]喷涂室21处于回收室22的上方；涂覆管24设置于喷涂室21的内部；排液管23与输送管道5相连接，且，从喷涂室21的上部伸入涂覆管24的内部。
[0039]排液管23与涂覆管24适配，可伸入涂覆管24的内部进行全面的涂覆。
[0040]可选的，回流机构3包括回流管31、回流泵32、第一阀33；
[0041]回流泵32和第一阀33均连接于回流管31上。
[0042]回流泵32只是提供动力的一种选择，也可选用其他的动力件，第一阀33用作该管路的开关。
[0043]可选的，真空装置4包括真空管41、真空泵42、第二阀43；
[0044]真空泵42和第二阀43均连接于真空管41上。
[0045]同理，真空泵42也是用作将涂覆装置2内形成负压状态的动力件，也可选用其他适合的动力件，第二阀43，也是作为开关，也可用其他对管路具备开关作用的部件。
[0046]可选的，输送管道5设有输送泵51和第三阀52。
[0047]输送管道5为动力件，也可选用其他适合的动力件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷管负载催化剂设备，其特征在于，包括：反应池(1)，用于储存待涂覆的试剂；涂覆装置(2)，用于将所述反应池(1)中的试剂涂覆至管内；回流机构(3)，用于将所述涂覆装置(2)涂覆过程中剩余的试剂回流至所述反应池(1)中；真空装置(4)，用于对所述涂覆装置(2)进行真空处理；其中，所述反应池(1)通过输送管道(5)连接于所述涂覆装置(2)的上部；所述回流机构(3)连接于所述涂覆装置(2)的底部，且，另一端伸入所述反应池(1)的内部；所述真空装置(4)连接于所述涂覆装置(2)的侧方，且，与所述涂覆装置(2)内部连通。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷管负载催化剂设备，其特征在于：所述反应池(1)中具有多个搅拌单元(11)。3.根据权利要求1所述的一种陶瓷管负载催化剂设备，其特征在于：所述涂覆装置(2)包括喷涂室(21)、回收室(22)、排液管(23)、涂覆管(24)；所述喷涂室(21)处于所述回收室(22)的上方；所述涂覆管(24)设置于所述喷涂室(...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱光人，张佳，吴健忠，岳阳，
申请(专利权)人：上海大学材料基因组工程萍乡研究院，
类型：新型
国别省市：