一种用于物理气相沉积的腔室结构制造技术

本实用新型专利技术公开了种用于物理气相沉积的腔室结构，包括工作箱、移动装置、加热釜和真空泵，工作箱内部底端的两侧固定设置有移动装置，移动装置内部的一侧固定安装有旋转电机，旋转电机的一侧固定连接有螺旋轴，螺旋轴外部的一侧活动连接有第一活动块。本实用新型专利技术通过在工作箱的顶端设置有第一箱门，可以打开对基片进行放置，同时在工作箱内部顶端的两侧固定设置有空心套筒，通过拉动空心套筒一侧活动连接的固定夹，可以使固定夹通过第三活动块挤压空心套筒内部的弹簧，并使两侧的固定夹进行距离调整，同时将基片放置在固定夹上，由于弹簧被挤压的反作用力，可以带动第三活动块推动固定夹，使固定夹完成对基片的夹持。使固定夹完成对基片的夹持。使固定夹完成对基片的夹持。

【技术实现步骤摘要】
一种用于物理气相沉积的腔室结构


[0001]本技术涉及镀膜装置
，具体为一种用于物理气相沉积的腔室结构。

技术介绍

[0002]物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源
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固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体或等离子体过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等
[0003]现有的用于物理气相沉积的腔室，基片不易安放，只能固定合适大小的基片，无法根据不同基片大小进行调整，装置适用性较差，工作效率低下。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于物理气相沉积的腔室结构，以解决上述
技术介绍
中提出的装置适用性差，无法根据不同基片大小进行调整等问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于物理气相沉积的腔室结构，包括工作箱、移动装置、加热釜和真空泵，所述工作箱内部底端的两侧固定设置有移动装置，所述移动装置内部的一侧固定安装有旋转电机，所述旋转电机的一侧固定连接有螺旋轴，所述螺旋轴外部的一侧活动连接有第一活动块，所述第一活动块的一侧固定连接有加热釜，所述加热釜内部的底端固定安装有风机，所述加热釜内部的中间位置设置有放置腔，所述放置腔的两侧固定设置有电热丝杆，所述加热釜的顶端固定连接有通气盖，所述通气盖的内部活动连接有旋转盘，所述旋转盘的一侧固定连接有滑块，所述通气盖的内部活动连接有第二活动块，所述工作箱外部的一侧固定安装有真空泵，所述真空泵的顶端固定设置有导管，所述工作箱内部顶端的两侧固定连接有空心套筒，所述空心套筒内部的一侧固定连接有弹簧，所述弹簧的一侧固定连接有第三活动块，所述第三活动块的一侧固定连接有固定夹，所述固定夹的一侧活动连接有基片。
[0006]优选的，所述工作箱的顶端固定设置有第一箱门，所述工作箱的一侧固定设置有第二箱门。
[0007]优选的，所述通气盖的一侧固定设置有第一滑槽，所述通气盖的顶端固定设置有第二滑槽。
[0008]优选的，所述滑块的外部滑动连接有第一滑槽，所述旋转盘的顶端固定设置有第三滑槽。
[0009]优选的，所述第二活动块的顶端固定设置有第一卡块，所述第一卡块的外部滑动连接有第二滑槽，所述第二活动块的底端固定连接有第二卡块，所述第二卡块的外部滑动连接有第三滑槽。
[0010]优选的，所述通气盖外部的一侧固定连接有固定块，所述固定块的一侧固定安装
有电动推杆，所述电动推杆的一侧固定连接有滑块。
[0011]优选的，所述导管的一侧固定连接有风口，所述风口的外部固定设置有防护罩。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]1.该种用于物理气相沉积的腔室结构，通过在工作箱的顶端设置有第一箱门，可以打开对基片进行放置，同时在工作箱内部顶端的两侧固定设置有空心套筒，通过拉动空心套筒一侧活动连接的固定夹，可以使固定夹通过第三活动块挤压空心套筒内部的弹簧，并使两侧的固定夹进行距离调整，同时将基片放置在固定夹上，由于弹簧被挤压的反作用力，可以带动第三活动块推动固定夹，使固定夹完成对基片的夹持；
[0014]2.该种用于物理气相沉积的腔室结构，通过在工作箱内部底端的两侧设置有移动装置，通过移动装置内的旋转电机启动，可以带动螺旋轴旋转，使螺旋轴上的第一活动块在螺旋轴进行左右运动，同时两侧的第一活动块的中间位置固定连接有加热釜，则第一活动块可以带动加热釜在工作箱内部的底端进行移动，并使加热釜对顶端夹持的基片进行蒸汽镀膜；
[0015]3.该种用于物理气相沉积的腔室结构，通过在通气盖一侧固定连接有固定块，通过固定块一侧的电动推杆启动，可以推动一侧的滑块，使滑块在通气盖上的第一滑槽滑动，并带动旋转盘在通气盖的内部旋转，同时旋转盘的顶端设置有六组第二活动块，通过旋转盘旋转可以带动第二活动块底端的第二卡块在第三滑槽上滑动，同时使第二活动块顶端的第一卡块在第二滑槽上滑动，此时可以带动第二活动块进行移动，并调整通气孔的大小，调整镀膜工作的蒸汽范围，提高装置工作效率。
附图说明
[0016]图1为本技术的正视结构示意图；
[0017]图2为本技术的俯视结构结构示意图；
[0018]图3为本技术加热釜的正视结构示意图；
[0019]图4为本技术通气盖的俯视结构结构示意图；
[0020]图5为本技术通气盖、旋转盘、第二活动块的拆分结构示意图。
[0021]图中：1、工作箱；101、第一箱门；102、第二箱门；2、移动装置；201、旋转电机；202、螺旋轴；203、第一活动块；3、加热釜；301、风机；302、放置腔；303、电热丝杆；4、通气盖；401、第一滑槽；402、第二滑槽；5、旋转盘；501、滑块；502、第三滑槽；6、第二活动块；601、第一卡块；602、第二卡块；7、固定块；701、电动推杆；8、真空泵；801、导管；802、风口；803、防护罩；9、空心套筒；901、弹簧；902、第三活动块；903、固定夹；10、基片。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1
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5，本技术提供的一种实施例：一种用于物理气相沉积的腔室结构，包括工作箱1、移动装置2、加热釜3和真空泵8,工作箱1的顶端固定设置有第一箱门101，工作箱1的一侧固定设置有第二箱门102，通过打开第一箱门101可以完成对基片10的放置，
并通过打开第二箱门102，可以将蒸发物放置在加热釜3的内部；
[0024]工作箱1内部底端的两侧固定设置有移动装置2，移动装置2内部的一侧固定安装有旋转电机201，旋转电机201的一侧固定连接有螺旋轴202，螺旋轴202外部的一侧活动连接有第一活动块203，第一活动块203的一侧固定连接有加热釜3，通过旋转电机201启动可以带动螺旋轴202旋转，并使螺旋轴202上活动连接的第一活动块203带动加热釜3进行移动，该旋转电机201为Y90S
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2电机；
[0025]加热釜3内部的底端固定安装有风机301，加热釜3内部的中间位置设置有放置腔302，放置腔302的两侧固定设置有电热丝杆303，加热釜3的顶端固定连接有通气盖4，通过电热丝杆303可以对放置腔302内的蒸发物进行加热蒸发，同时通过风机301启动可以将蒸汽从通气盖4吹出；
[0026]通气盖4的一侧固定设置有第一滑槽401，通气盖4的顶端固定设置有第二滑槽402，通气盖4的内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于物理气相沉积的腔室结构，其特征在于,包括工作箱(1)、移动装置(2)、加热釜(3)和真空泵(8)，所述工作箱(1)内部底端的两侧固定设置有移动装置(2)，所述移动装置(2)内部的一侧固定安装有旋转电机(201)，所述旋转电机(201)的一侧固定连接有螺旋轴(202)，所述螺旋轴(202)外部的一侧活动连接有第一活动块(203)，所述第一活动块(203)的一侧固定连接有加热釜(3)，所述加热釜(3)内部的底端固定安装有风机(301)，所述加热釜(3)内部的中间位置设置有放置腔(302)，所述放置腔(302)的两侧固定设置有电热丝杆(303)，所述加热釜(3)的顶端固定连接有通气盖(4)，所述通气盖(4)的内部活动连接有旋转盘(5)，所述旋转盘(5)的一侧固定连接有滑块(501)，所述通气盖(4)的内部活动连接有第二活动块(6)，所述工作箱(1)外部的一侧固定安装有真空泵(8)，所述真空泵(8)的顶端固定设置有导管(801)，所述工作箱(1)内部顶端的两侧固定连接有空心套筒(9)，所述空心套筒(9)内部的一侧固定连接有弹簧(901)，所述弹簧(901)的一侧固定连接有第三活动块(902)，所述第三活动块(902)的一侧固定连接有固定夹(903)，所述固定夹(903)的一侧活动连接有基片(10)。2.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉积的腔室...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱卫刚，
申请(专利权)人：株洲科汇钛力新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：