一种蒸镀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种蒸镀装置，包括一真空腔室，所述真空腔室内具有若干个相互独立的工位，所述工位上转动连接有多个蒸发源，所述蒸发源包括可加热的容器和对容器进行加热的电加热器，所述工位上还具有供电件，所述供电件包括第一导电部和第二导电部，所述第一导电部和第二导电部分别与外部供电源电性连接，所述电加热器具有与供电件保持滑动接触和电性连接的连接部，以使同一工位上多个蒸发源转动时，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第一导电部保持滑动式电性连接，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第二导电部保持滑动式电性连接。本装置结构简单，能够实现连续镀膜。续镀膜。续镀膜。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀装置


[0001]本技术涉及蒸镀设备领域，尤其是涉及一种蒸镀装置。

技术介绍

[0002]薄膜晶体管液晶显示（TFT
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LCD）已成为显示市场主流，新一代显示技术有源有机发光显示（AMOLED）开始产业化、AMOLED柔性显示等新型显示技术也在朝着产业化方向迈进。从彩色显像管（CRT）到TFT
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LCD是技术的中断和更替；从TFT
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LCD到AMOLED是技术的延伸和发展。TFT
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LCD、AMOLED等新型显示技术，它们的基础技术都是半导体技术，都可统称为半导体显示，通常的显像管在生产过程中，其需要对晶体进行蒸镀，通常使用蒸镀设备对其进行镀膜，传统的蒸镀设备仍存在各种各样的问题，难以满足实际使用需求。
[0003]如授权公告号为CN205774776U的技术所公开的一种多蒸发源镀膜装置，在所述真空镀膜室内设置有多个膜厚控制仪，其中一个所述膜厚控制仪设置在所述工件伞架的中心位置用于监控所述镀膜基片上的镀膜速率，其余的所述膜厚控制仪与所述蒸发源构成一一对应以分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置，其特征在于：包括一真空腔室，所述真空腔室内具有若干个相互独立的工位，所述工位上转动连接有多个蒸发源，所述蒸发源包括可加热的容器和对容器进行加热的电加热器，所述工位上还具有供电件，所述供电件包括第一导电部和第二导电部，所述第一导电部和第二导电部分别与外部供电源电性连接，所述电加热器具有与供电件保持滑动接触和电性连接的连接部，以使同一工位上多个蒸发源转动时，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第一导电部保持滑动式电性连接，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第二导电部保持滑动式电性连接。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述供电件还包括一绝缘部，同一工位上多个蒸发源转动时，至少有一个蒸发源的电加热器的连接部与绝缘部保持滑动连接。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于：同一工位上的供电件的数量为两个，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张耀辉，宗璐，
申请(专利权)人：合肥联顿恪智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：