【技术实现步骤摘要】
一种复合涂层制备方法
[0001]本专利技术涉及一种复合涂层制备方法,特别是涉及一种
技术介绍
[0002]物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition,简称:PVD)顾名思义是以物理方式来进行涂层但不涉及任何化学反应的制程技术,所谓物理机制是将物质产生相变化的现象,如蒸镀是藉由蒸镀源将欲涂层的固体靶材,加热至变成气态后使之涂层在基材表面上。而溅镀则透过高能量的原子碰撞靶材并产生动量转移现象,将靶材原子轰击出来并沉积于基材表面形成一层薄膜。而工具镀所使用大多为多弧离子镀等方式,由最初的TiN与CrN涂层逐渐地发展到AlTiN,TiCN,但随着工业化的高速化与高产能的要求,其涂层性能需要更多功能性,因此开发处四元或更多元的氮化物涂层,例如:AlCrSiN、TiSiCN等涂层。多元涂层的元素所添加的元素会对涂层性能有不同的影响。
[0003]而现今随工业的高速加工化,对切削刀具的使用要求更为严苛,必须对刀具涂层的高硬度、耐磨性、化学稳定性与耐高温性等几项特性更是需要。
技术实现思路
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种复合涂层制备方法,其特征在于,包括步骤如下:S1.对刀具表层进行活化处理;S2.采用多弧离子镀与溅射法电源在基底表面形成中间过渡层;S3.取第一多元合金靶材、第二多元合金靶材分别通过多弧离子镀、溅射法电源技术在中间过渡层表面形成涂层;所述第一多元合金靶材、第二多元合金靶材为不同合金靶材。2.根据权利要求1所述一种复合涂层制备方法,其特征在于,所述S3中涂层为AlCrSiWN涂层。3.根据权利要求2所述一种复合涂层制备方法,其特征在于,所述AlCrSiWN涂层中硅含量为8
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【专利技术属性】
技术研发人员:郭光宇,陈立,
申请(专利权)人:株洲科汇钛力新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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