弧源磁场机构制造技术

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种弧源磁场机构，弧源磁场机构包括：固定主体；第一磁构件，设置于固定主体并形成沿第一方向分布的第一磁场；第二磁构件，设置于固定主体并形成沿与第一方向不同的第二方向分布的第二磁场；第三磁构件，设置于固定主体并形成有沿与第一方向、第二方向不同的第三方向分布的第三磁场；第一磁场、第二磁场、第三磁场叠加形成综合磁场。本申请提供的弧源磁场机构，通过改变磁构件的分布方式，形成至少存在横向分布的磁场分量和纵向分布的磁场分量的综合磁场，使得磁场分布的范围更广，有效改善弧斑运动的速度、方向，影响弧斑的放电形式，在一定程度上消除大颗粒发射，从而有效提高膜层质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
弧源磁场机构


[0001]本申请涉及真空镀膜
，尤其是涉及一种弧源磁场机构。

技术介绍

[0002]目前，真空镀膜技术日益成熟，应用也越来越广泛，通常通过布置永磁铁形成磁场跑道以使电弧移动，磁场的形式对电弧的走向产生重要影响，或者说对镀膜的质量会产生很大影响，但现有技术中常采用永磁体的磁路设置模式简单、单一，难以保证电弧跑向的引导精度，进而容易影响镀膜质量。

技术实现思路

[0003]本申请的目的在于提供一种弧源磁场机构，以在一定程度上解决现有技术中存在的磁路对电弧的导向精度低，影响镀膜质量的技术问题。
[0004]本申请提供了一种弧源磁场机构，包括：固定主体；
[0005]第一磁构件，设置于所述固定主体并形成沿第一方向分布的第一磁场；
[0006]第二磁构件，设置于所述固定主体并形成沿与所述第一方向不同的第二方向分布的第二磁场；
[0007]第三磁构件，设置于所述固定主体并形成有沿与所述第一方向、所述第二方向不同的第三方向分布的第三磁场；
[0008]所述第一磁场、所述第二磁场、所述第三磁场叠加形成综合磁场。
[0009]在上述技术方案中，进一步地，所述固定主体包括：
[0010]固定板；
[0011]固定座，与所述固定板间隔设置，所述第一磁构件设置于所述固定座；
[0012]底座，所述固定座形成有安装部，所述底座设置于所述安装部，所述第二磁构件设置于所述底座；
[0013]封盖，与所述底座连接，用于将所述第二磁构件限位在所述底座与所述封盖之间。
[0014]在上述任一技术方案中，进一步地，所述第三磁构件包括线圈架，所述线圈架与所述固定座连接；
[0015]所述线圈架设置有线圈，所述线圈通电后形成所述第三磁场；
[0016]所述线圈架设置于所述固定板与所述固定座之间。
[0017]在上述任一技术方案中，进一步地，所述线圈架包括：
[0018]第一板构件；
[0019]第二板构件，与所述第一板构件相互面对设置；
[0020]连接柱，设置于所述第一板构件与所述第二板构件之间，所述线圈设置于所述连接柱。
[0021]在上述任一技术方案中，进一步地，所述第一磁构件的数量为多个，所述固定座具有圆盘或圆板结构，所述固定座一侧表面形成有容纳槽，所述容纳槽沿所述固定座的圆周
分布，多个所述第一磁构件在所述容纳槽内顺次排布；
[0022]每一所述第一磁构件均具有N极和S极，所述第一磁构件的N极和S极沿水平方向分布。
[0023]在上述任一技术方案中，进一步地，所述第二磁构件的数量为多个；
[0024]底座具有槽体结构，所述槽体结构内形成多个安装槽，每一所述安装槽内设置有第一个所述第二磁构件；
[0025]每一所述第二磁构件均具有N极和S极，所述第二磁构件的N极和S极沿竖直方向分布。
[0026]在上述任一技术方案中，进一步地，所述弧源磁场机构还包括调节组件，所述固定板形成有安装孔，所述调节组件穿设于所述安装孔；
[0027]所述调节组件的部分与所述固定主体连接，通过调节所述调节组件能够调节所述综合磁场与弧源的靶材之间的距离。
[0028]在上述任一技术方案中，进一步地，所述调节组件包括：
[0029]定位套，所述线圈架的中心形成有穿设通道，所述定位套设置于所述穿设通道，所述定位套与所述第一板构件连接；
[0030]调节套，穿设于所述定位套，所述调节套与所述定位套螺纹连接。
[0031]在上述任一技术方案中，进一步地，所述定位套设置有连接法兰，所述连接法兰与所述第一板构件连接。
[0032]在上述任一技术方案中，进一步地，所述弧源磁场机构还包括电极，所述电极呈杆状，所述电极穿设于所述调节套、所述穿设通道、所述底座。
[0033]在上述任一技术方案中，进一步地，所述固定板设置有航空插头，所述航空插头连接有防水插头。
[0034]与现有技术相比，本申请的有益效果为：
[0035]本申请提供的弧源磁场机构包括：固定主体；第一磁构件，设置于固定主体并形成沿第一方向分布的第一磁场；第二磁构件，设置于固定主体并形成沿与第一方向不同的第二方向分布的第二磁场；第三磁构件，设置于固定主体并形成有沿与第一方向、第二方向不同的第三方向分布的第三磁场；第一磁场、第二磁场、第三磁场叠加形成综合磁场。
[0036]本申请提供的弧源磁场机构，通过改变磁构件的分布方式，形成至少存在横向分布的磁场分量和纵向分布的磁场分量的综合磁场，使得磁场分布的范围更广，有效改善弧斑运动的速度、方向，影响弧斑的放电形式，在一定程度上消除大颗粒发射，从而有效提高膜层质量。
附图说明
[0037]为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0038]图1为本申请实施例提供的弧源磁场机构的结构示意图；
[0039]图2为本申请实施例提供的弧源磁场机构的又一视角图；
[0040]图3为本申请实施例提供的弧源磁场机构的另一视角图；
[0041]图4为图3沿A
‑
A的剖视图；
[0042]图5为本申请实施例提供的弧源磁场机构的固定座的结构示意图；
[0043]图6为本申请实施例提供的弧源磁场机构的底座结构示意图；
[0044]图7为本申请实施例提供的弧源磁场机构的部分结构示意图；
[0045]图8为本申请实施例提供的弧源磁场机构的第一磁构件和第二磁构件的排布示意图。
[0046]附图标记：
[0047]1‑
固定板，2
‑
固定座，201
‑
容纳槽，202
‑
安装部，3
‑
底座，301
‑
安装槽，4
‑
封盖，5
‑
线圈架，501
‑
第一板构件，502
‑
第二板构件，503
‑
连接柱，6
‑
第一磁构件，7
‑
第二磁构件，8
‑
定位套，801
‑
连接法兰，9
‑
调节套，10
‑
航空插头，11
‑
防水插头。
具体实施方式
[0048]下面将结合附图对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0049]通常在此处附图中描述和显示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种弧源磁场机构，其特征在于，包括：固定主体；第一磁构件，设置于所述固定主体并形成沿第一方向分布的第一磁场；第二磁构件，设置于所述固定主体并形成沿与所述第一方向不同的第二方向分布的第二磁场；第三磁构件，设置于所述固定主体并形成有沿与所述第一方向、所述第二方向不同的第三方向分布的第三磁场；所述第一磁场、所述第二磁场、所述第三磁场叠加形成综合磁场。2.根据权利要求1所述的弧源磁场机构，其特征在于，所述固定主体包括：固定板；固定座，与所述固定板间隔设置，所述第一磁构件设置于所述固定座；底座，所述固定座形成有安装部，所述底座设置于所述安装部，所述第二磁构件设置于所述底座；封盖，与所述底座连接，用于将所述第二磁构件限位在所述底座与所述封盖之间。3.根据权利要求2所述的弧源磁场机构，其特征在于，所述第三磁构件包括线圈架，所述线圈架与所述固定座连接；所述线圈架设置有线圈，所述线圈通电后形成所述第三磁场；所述线圈架设置于所述固定板与所述固定座之间。4.根据权利要求3所述的弧源磁场机构，其特征在于，所述线圈架包括：第一板构件；第二板构件，与所述第一板构件相互面对设置；连接柱，设置于所述第一板构件与所述第二板构件之间，所述线圈设置于所述连接柱。5.根据权利要求2所述的弧源磁场机构，其特征在于，所述第一磁构件的数量为多个，所述固定座具有圆盘或圆板结构，所述固定座一侧表...

【专利技术属性】
技术研发人员：王君，闫超颖，依君，梁惠朋，
申请(专利权)人：沈阳爱科斯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：