紫外光照射装置以及光清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种紫外光照射装置以及使用该装置的光清洗装置，即抑制在大气中对工件照射真空紫外光时真空紫外光的衰减，同时可以适当地管理臭氧以及活性氧的浓度。紫外光照射装置（ＵＶＥ）具有产生真空紫外光的受激准分子放电灯（ＥＸＬ）；点亮受激准分子放电灯的高频点灯电路（ＨＦＩ）；惰性气体环境形成装置（ＩＧＢ），该惰性气体环境形成装置朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照方向在工件（Ｗ）的周围形成惰性气体浓厚的环境；氧气环境形成装置（Ｏ↓［２］Ｂ），该氧气环境形成装置在沿着工件的移动方向与惰性气体环境形成位置相分离的位置上，朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照射方向在工件周围形成氧气浓厚的环境。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种紫外光照射装置以及使用了该装置的光清洗装置。
技术介绍
使氙等稀有气体或者稀有气体的卤化物等进行无声放电即介质阻挡放电，从而产生近于固有单色的放射的受激准分子放电灯，也就是介质阻挡放电灯，被记载在很多文献中并且一直以来被人们所熟知。在介质阻挡放电中，流过脉冲状的电流。该脉冲状的电流具有高速的电子流并且停止期间多，因此使氙等发出紫外光的物质暂时键合为分子状态(受激准分子状态)，当其返回基础状态时有效地放出再吸收少的短波紫外光。并且，在氙的情况下，进行以172nm为中心波长的半值辐较宽的分子发光。波长172nm的紫外线其能量比从低压水银灯得到的波长185nm和254nm的紫外线大，同时比所要分解的有机化合物的键的能量大。因此，利用照射波长172nm的紫外线，可以切断上述有机化合物的键，从而将其分解去除。并且，通过在大气环境中进行波长172nm的紫外光照射，大气中的氧气分解生成活性氧，被切断键的有机化合物与活性氧反应，生成二氧化碳(CO2)和水(H2O)等，所以容易去除有机化合物。所以，介质阻挡放电灯作为真空紫外光照射装置以及使用该装置的光清洗装置的光源效果显著。作为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外光照射装置，其特征在于，具有：　　　　产生真空紫外光的受激准分子放电灯；　　　　点亮受激准分子放电灯的高频点灯电路；　　　　惰性气体环境形成装置，该惰性气体环境形成装置朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照射方向在工件的周围形成惰性气体浓厚的环境；和　　　　氧气环境形成装置，该氧气环境形成装置在沿着工件的移动方向与惰性气体环境形成位置相分离的位置上，朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照射方向在工件周围形成氧气浓厚的环境。

【技术特征摘要】
JP 2005-9-21 273181/20051.一种紫外光照射装置，其特征在于，具有产生真空紫外光的受激准分子放电灯；点亮受激准分子放电灯的高频点灯电路；惰性气体环境形成装置，该惰性气体环境形成装置朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照射方向在工件的周...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤田义贵，
申请(专利权)人：哈利盛东芝照明株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]