【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施方式涉及液晶面板的制造工序等中使用的紫外线照射装置。
技术介绍
在液晶面板的制造工序中,一般为了控制取向,进行称为PSA(Polymer SustainedAlignment,聚合物持续取向)工序的光取向工序。该工序是对具备液晶和作为光反应物质的单体的液晶面板照射紫外线、使单体聚合而控制液晶的取向的工序。在紫外 线的照射中,如专利文献I那样主要使用紫外线灯。在此,单体具有吸收光谱在250nm左右最高,随着朝向长波长而变低的倾向。为了使单体聚合,有效的是照射吸收光谱高的250nm左右的紫外线,但是若照射300nm以下的紫外线,则会对液晶面板产生影响,有可能使液晶面板的可靠性下降。此外,比380nm长的波长的光有可能会对液晶面板产生热影响。因而,为了抑制对液晶面板的损伤并且使单体聚合,需要照射310nnT380nm、特别是320nnT350nm的紫外线。专利文献专利文献I特开2011-146363号公报
技术实现思路
本专利技术所要解决的课题在于提供关于310nnT380nm、特别是320nnT350nm可以照射强紫外线的紫外线照射装置。为了解决上述课题 ...
【技术保护点】
一种紫外线照射装置,其对包含光反应性物质的液晶面板进行照射,具备:第1光源,其形成有包含在310nm~340nm具有峰值波长的LaPO4荧光体的荧光体层;以及第2光源,其形成有包含在340nm~360nm具有峰值波长的YPO4荧光体的荧光体层。
【技术特征摘要】
2011.09.22 JP 206806/2011;2012.04.19 JP 095762/201.一种紫外线照射装置,其对包含光反应性物质的液晶面板进行照射,具备 第I光源,其形成有包含在310nnT340nm具有峰值波长的LaPO4荧光体的荧光体层;以及 第2光源,其形成有包含在340nnT360nm具有峰值波长的YPO4荧光体的荧光体层。2.根据权利要求1所述的紫外线照射装置,其中 包含含有LaPO4的荧光体的荧光体层的厚度为7. 6 μ πΓ 2. ...
【专利技术属性】
技术研发人员:日野弘喜,藤冈纯,田内亮彦,
申请(专利权)人:哈利盛东芝照明株式会社,
类型:发明
国别省市:
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