平面显示器用基板输送装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种通过最小的显影装置安装空间来获得最高的空间利用率的平面显示器用基板输送装置。本发明专利技术包括：腔室，其用于提供基板处理空间；显影液供给装置，其安装在所述腔室内，并用于在输入到腔室的基板上涂敷显影液；支撑部，其安装在所述腔室内部，并具有一定的框架结构；多个倾斜输送部，其铰接于所述支撑部，且具备由驱动单元转动的输送辊，并通过该输送辊输送基板；导引机构，其用于引导所述支撑部移动；另一驱动单元，其用于使所述支撑部上升及下降；倾斜诱导装置，其诱导所述多个倾斜输送部以铰接部为中心倾斜一定角度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种平面显示器用基板输送装置，尤其涉及一种在制造平面显示器用基板的过程中，能够适用于显影装置的、且通过最小的基板显影装置安装空间来获得最大的空间利用率的平面显示器用基板输送装置。
技术介绍
通常，在平面显示装置的制造工序中，在玻璃基板上形成电路图形的过程，可包括清洗基板的工序、在已清洗的基板表面涂敷感光性树脂而形成感光膜的工序、通过预定图案曝光所述感光膜而进行显影(developing)的工序。 这种显示器的制造工序中，显影工序利用现有的显影液供给装置来对基板涂敷显影液。这种显影工序，可采用向盛有显影液的腔室通过基板的方式或者采用喷射装置向基板喷射显影液的方式进行。而这种显影装置，包括用于向腔室供给显影液的显影液供给装置和用于输送基板的输送装置。由此，当基板输送到腔室时，通过显影液供给装置向基板供给显影液，并经过一段时间之后，通过输送装置向清洗装置输送基板。通常，为了提高基板的处理效率，基板输送装置以倾斜状态输送基板并进行清洗及干燥，该基板输送装置安装在所述显影装置的一侧，并将从显影装置中输出的基板输送到清洗装置。当显影液供给到基板时，这种现有的显影装置为了显影(developing)需搁置一段时间，之后再通过基板输送装置向清洗装置输送基板，因此基板处理时间增加，生产效率降低。而且，在显影装置的出口处，为倾斜输送基板需增设倾斜输送装置，因此安装空间变大并增加制造费用。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述问题而作，其目的在于提供一种在基板显影处理过程中，能减少处理时间，并通过最小的显影装置安装空间来减少基板制造费用的平面显示器用基板输送装置。 为达到上述目的，本专利技术提供一种平板显示器用基板输送装置，其包括腔室，其提供用于处理基板的空间；支撑部，其安装在所述腔室内部，且具有一定的框架结构；多个倾斜输送部，其铰接在所述支撑部上，且安装有由驱动单元转动的输送辊，并通过该输送辊输送基板；导引机构，其用于引导所述支撑部移动；另一驱动单元，其用于驱动所述支撑部，以使之沿着所述导引机构移动；倾斜诱导装置，其诱导所述多个倾斜输送部以铰接部为中心按预定角度倾斜。 所述多个倾斜输送部包括，铰接于所述支撑部的第一倾斜输送部和铰接于所述支撑部在所述第一倾斜输送部下方位置的第二倾斜输送部。 所述倾斜诱导装置，可包括由致动器移动的杆体，该杆体能够与所述倾斜输送部上铰接部的相反侧接触或者解除该接触状态。 本专利技术的输送基板的倾斜输送部，具有多层结构，因此能够减少基板显影时的节拍时间，并且由于具有能够以倾斜状态输出基板的结构，还可以减少显影装置的安装空间，并由此而减少基板的制造费用。附图说明图1是表示本专利技术所适用的基板输送装置的结构图。 图2是用于说明本专利技术所涉及实施例的整体结构图。 图3是用于说明图2的主要部分及动作过程的示意图。 图4是用于说明本专利技术动作过程的示意图。具体实施方式下面，参照附图详细说明本专利技术的优选实施例。 图1是用于说明本专利技术所适用的实施例的结构图，表示显影装置。本专利技术的显影装置包括基板供给部3，其用于供给玻璃基板等基板；显影液喷射部71，其用于从所述基板供给部3接收被处理对象基板G1(或者G2)，并对所述基板G1(或者G2)涂敷显影液；显影部1，其用于从所述显影液喷射部71接收基板G1(或者G2)，并搁置基板显影所需时间，以进行显影；清洗部81，其能够以倾斜状态接收来自所述显影部1的基板G1(或者G2)，并对其进行清洗；干燥部91，其用于接收来自所述清洗部81的基板G1(或者G2)，并对其进行干燥；以及基板输出部5，其用于输出所述干燥部91内的基板G1(或者G2)。 在所述显影装置中，显影液喷射部71包括显影液供给装置71a及基板输送装置71b。所述显影液供给装置71a设于腔室内，且对基板G1(或G2)涂敷显影液，并可包括显影液喷嘴等。本专利技术的所述显影液供给装置71a，可采用能够向基板G1(或G2)供给显影液并进行基板G1(或G2)的显影处理的任何一种装置，也可以采用通常的装置，因此省略其详细说明。 而且，所述清洗装置的清洗部81和干燥部91，是用于清洗和干燥已显影的基板，所以也可以采用通常的装置，因此省略其详细说明。 图2是用于说明本专利技术所涉及实施例的整体结构图；图3是用于说明图2中主要部分及动作过程的示意图，图中显示显影部1。该显影部1用于暂时保管基板G1(或者G2)，并以倾斜状态输出基板，以使所述基板G1(或者G2)在显影处理中能够获得必要的显影时间。 在本专利技术中，结合附图说明在所述显影部1的一侧设有基板供给部3，并由该基板供给部3向显影部1供给基板G1(或G2)的实施例。另外，结合附图说明在所述显影部1的基板G1(或G2)输出侧设有能够以倾斜状态输送基板的基板输出部5的实施例。在本专利技术中，亦可由显影液喷射部71取代向所述显影装置1供给基板G1(或G2)的基板供给部3(如图1所示)的位置，并由清洗部81取代基板输出部5的位置。为方便起见，本专利技术只说明在基板供给部3和基板输出部5之间安装显影部1的实施例。 即，在本专利技术中，通过基板供给部3来说明以水平状态向显影部1供给基板G1(或G2)的实施方式，而通过所述基板输出部5来说明以倾斜状态输出基板G1(或G2)的实施方式。 如图2所示，所述基板供给部3具备由通常的驱动源即电机3a转动的多个辊轮R，并通过这些辊轮R向水平方向输送基板G1(或G2)。另外，所述基板输出部5具备由另一通常的驱动源即电机5a转动的多个辊轮R，而这些辊轮R用于接收以倾斜状态输送的基板G1(或G2)，并将其输送到清洗装置，而这些辊轮R沿着倾斜方向设置，以使基板G1(或G2)在倾斜状态下移动。 所述显影部1包括腔室11，其提供用于处理所述基板G1(或G2)的空间；支撑部15，其安装在所述腔室11内部；第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19，其铰接于所述支撑部15的上、下位置；导引机构21，其用于引导所述支撑部15，以使其沿着上下方向移动；驱动单元23，其用于带动所述支撑部15移动；以及倾斜诱导装置25，其用于使第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19分别以第一铰接部18和第二铰接部20为中心转动并保持一定的倾斜角度。 所述腔室11提供能够使平面显示器用基板G1(或G2)滞留一段时间，以接受显影(developing)处理的空间。所述腔室11包括用于接入基板G1(或G2)的入口12和在结束显影处理后用于输出基板G1(或G2)的出口14等。 所述支撑部15可沿上下方向移动，且具有框架结构。而所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19分别铰接于该支撑部15。这种支撑部15并不限于框架形状的结构，只要是能够上下移动的结构均可采用。另外，所述支撑部15上铰接有所述第一倾斜输送部17和所述第二倾斜输送部19的结构，能够在倾斜状态下输送基板G1(或G2)。同时，所述支撑部15被制成能够使所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19在其上上下并排的结构。 即，所述支撑部15的上、下位置上铰接有第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19，且具有第一铰接部18和第二铰接部20，而且所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19可保持水平或者按一定角度倾斜的状态。换言之，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面显示器用基板输送装置，其特征在于，包括：腔室，其提供用于处理基板的空间；　支撑部，其安装在所述腔室内部，且具有预定的框架结构；多个倾斜输送部，其铰接在所述支撑部上，且安装有由驱动单元转动的输送辊，并通过该输送辊输送基板；导引机构，其用于引导所述支撑部移动；另一驱动单元，其用于使所述支撑部上升或下降；倾斜诱导装置，其诱导所述倾斜输送部以铰接部为中心按预定角度倾斜。

【技术特征摘要】
KR 2005-12-26 10-2005-01296801.一种平面显示器用基板输送装置，其特征在于，包括腔室，其提供用于处理基板的空间；支撑部，其安装在所述腔室内部，且具有预定的框架结构；多个倾斜输送部，其铰接在所述支撑部上，且安装有由驱动单元转动的输送辊，并通过该输送辊输送基板；导引机构，其用于引导所述支撑部移动；另一驱动单元，其用于使所述支撑部上升或...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙台峰，柳东勋，
申请(专利权)人：显示器生产服务株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]