【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在溅射靶或x-射线阳极上施加层的方法,所述层仅含有少量的气体杂质如氧气。
技术介绍
在表面上施加难熔金属层会产生许多问题。在熟悉的方法中,金属通常完全或部分熔化,结果金属易于氧化或吸收其它 气体杂质。因此,必须在惰性气体或真空中进行常规的方法如堆焊和等离子喷涂。在这种情况下,需要较高的设备开销,并且构件的尺寸是受限制的,其中气 体杂质的含量仍然不能令人满意。引入大量的输送到要涂覆的物体上的热会使得变形的可能性非常大,导致这 些方法不能用在复杂构件的情况(通常还包括在低温下熔融的部件)中。具体地说, 这些构件是所谓的溅射靶,即,用在金属的阴极溅射中的金属源。因此,复杂构件 必须在加工之前拆卸,结果导致实践中所述加工不经济,并且只能进行构件材料的 再利用(废弃)。在真空等离子喷涂中,源自使用的电极的钨和铜杂质会引入层中,结果导致 了不利的情况。例如,如果钽或铌层用于防腐,则这些杂质会通过形成所谓的微原 电池降低涂层的保护作用。在溅射靶的情况下,这一污染会导致部件变得不能用。并且,这些方法是熔融冶金方法,总是包含其固有的缺点,如单向颗粒生长。 这具体发生在激光加工中,其中,合适的粉末施加在表面上并且通过激光束熔化。另一个问题是多孔性,这具体可在这样的情况下观察到金属粉末先施加,接着用热源熔化。在WO 02/064287中已试图仅通过用能量束如激光束表面熔化和烧结粉 末颗粒来解决这些问题。但是,结果并不总是令人满意的,较高的设备开销是必需 的,且一些相关的问题确实解决了,但是无论如何在复杂构件中引入高热量的问题 仍然存在。WO-A-03/106, ...
【技术保护点】
一种再加工或制造溅射靶或X-射线阳极的方法,其中,气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的两种或多种的混合物、以及它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体/粉末混合物,所述粉末的粒度为0.5-150μm,其中,将超音速赋予所述气流,并将该超音速的喷射口导向要再加工或制造的物体的表面。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2005-5-5 60/678,0521.一种再加工或制造溅射靶或X-射线阳极的方法,其中,气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的两种或多种的混合物、以及它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体/粉末混合物,所述粉末的粒度为0.5-150μm,其中,将超音速赋予所述气流,并将该超音速的喷射口导向要再加工或制造的物体的表面。2. 如权利要求l所述的方法,其特征在于,加入所述气体中的粉末的量保证 颗粒的流量密度为0.01-200g/s cm2,较佳的是0.01-100g/s cm2,非常好的是 0.01-20g/s cm2,或者最好是0.05-17g/s cm2。3. 如权利要求l所述的方法,其特征在于,所述喷涂包括以下步骤-提供与要通过喷射涂覆的表面相邻的喷射口;-向喷射口提供微粒材料的粉末,所述微粒材料选自铌、钽、钨、钼、钛、 锆、它们中的至少两种的混合物、以及它们相互之间的合金或与其它金属的合金, 所述粉末的粒度为0.5-150pm,所述粉末处于压力下;-在压力下将惰性气体提供到喷射口,以在喷射口处形成静压,并在要涂覆 的表面上喷射所述微粒材料和气体;以及-将喷射口置于小于1个大气压,并且基本上小于喷射口处的静压的低压的区 域中,以充分加速所述微粒材料和气体喷射到要所述涂覆的表面上。4. 如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述喷涂用冷喷枪和要涂覆的靶 进行,所述冷喷枪置于压力小于80kPa,较佳的是0.1-50kPa,最好是2-10kPa的真空 室内。5. 如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述接合在物体表面 上的粉末颗粒形成层。6. 如权利要求l所述的方法,其特征在于,存在的垫板或其它结构部件在再 加工之前不被除去。7. 如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述气体/粉末混合 物中的粉末速度为300-2000m/s,较佳的是300-1200m/s。8. 如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,所述施加的层的粒度为5-150|im,较佳的是10-50pm、 10-32拜、10-38拜、10-25,或5-15fim。9. 如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述金属粉末中的气 体杂质的含量为200-2500ppm,以重量计。10. 如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述金属粉末的氧 含量为小于1000ppm氧,或者小于500、小于300、具体是小于100ppm。11. 如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述施加的层的氧 含量为小于1000ppm氧,或者小于500、小于300、具体是小于100ppm。12. 如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述施加的层的气 体杂质含量与初始粉末中的含量的偏差不超过50%。13. 如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述施加的层的气 体杂质含量与初始粉末中的含量的偏差...
【专利技术属性】
技术研发人员:S齐默尔曼,U帕普,H凯勒,SA米勒,
申请(专利权)人:HC施塔克有限公司,HC施塔克公司,
类型:发明
国别省市:DE[德国]
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