【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及非易失性半导体存储器及其读出方法、以及微处理器,特 别涉及可以电写入和擦除的假想接地型的非易失性半导体存储器及其读出 方法、以及安装有该非易失性半导体存储器的微处理器。
技术介绍
以往,作为可以电写入和擦除的非易失性半导体存储器,浮栅型的假 想接地非易失性半导体存储器得到了广泛的普及。图7是表示以往的浮栅型的假想接地非易失性半导体存储器的结构的 图。该图为AND型的一个示例。浮栅型的假想接地非易失性半导体存储器的存储单元阵列由配置成矩 阵状的浮栅型非易失性存储单元(以下,称为存储单元)mu、 m12、…, 在各个存储单元的行方向上连接的多个字线Wb、 WL2、…,以及在列方 向上连接的多个位线BL^ BL2、…构成。多个字线WL,、 WL2、…按照 每行与各个存储单元的栅极连接。另外,多个位线BL卜BL2、…与数据 读出用的读出转换电路SA。连接,该读出转换电路SA。与参考单元mR连在数据读出处理中,读出存储单元的存储区域的阈值并与基准值进行 比较,根据阈值是高于基准值的状态还是低于基准值的状态而转换为数 据。当读出阈值时,向与被选择的地址相对应的字线和位线分别施加电压 Vwl和VBL。例如,当读出与字线肌2和位线BL4、 BL5连接的存储单元 11124的阈值时,向字线WL2施加电压VWL、向位线BU施加电压VBL。另 夕卜,与位线BL4夹持着存储单元11124的相邻的位线BLs与GND连接。由 此,漏极电流Id。由于蓄积在存储单元m24的浮栅上的电子数而改变。同样 地,向参考单元mR的字线WLR施加电压Vwl、向位线BLR施加电压 VB ...
【技术保护点】
一种非易失性半导体存储器,为可以电写入和擦除的假想接地型的非易失性半导体存储器,其特征在于,具有:存储单元阵列,通过一个单元中具有两个存储区域的非易失性存储单元的栅极与行线连接、源极/漏极分别与列线连接而形成;行选择电路和列选择电路,在所述存储单元阵列中,在相对于相邻的列线对称的两个非易失性存储单元的所述两个存储区域中,将相对于所述相邻的列线为外侧的存储区域的阈值设定为成对关系,为了对作为读出对象的所述两个非易失性存储单元的所述外侧的存储区域进行读出,向与所述两个非易失性存储单元连接的行线施加规定的读出电压,所述列选择电路向作为读出对象的所述两个非易失性存储单元的紧邻外侧的两个列线施加接地电压,向内侧的两个列线施加规定的读出电压;以及读出转换电路,通过所述两个非易失性存储单元的所述外侧的存储区域的阈值为成对关系,对各个所述非易失性存储单元的漏极电流的差进行比较,并转换为一个数据。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1. 一种非易失性半导体存储器,为可以电写入和擦除的假想接地型的 非易失性半导体存储器,其特征在于,具有存储单元阵列,通过一个单元中具有两个存储区域的非易失性存储单元的栅极与行线连接、源极/漏极分别与列线连接而形成;行选择电路和列选择电路,在所述存储单元阵列中,在相对于相邻的 列线对称的两个非易失性存储单元的所述两个存储区域中,将相对于所述 相邻的列线为外侧的存储区域的阈值设定为成对关系,为了对作为读出对 象的所述两个非易失性存储单元的所述外侧的存储区域进行读出,向与所 述两个非易失性存储单元连接的行线施加规定的读出电压,所述列选择电 路向作为读出对象的所述两个非易失性存储单元的紧邻外侧的两个列线施加接地电压,向内侧的两个列线施加规定的读出电压;以及读出转换电路,通过所述两个非易失性存储单元的所述外侧的存储区 域的阈值为成对关系,对各个所述非易失性存储单元的漏极电流的差进行 比较,并转换为一个数据。2. 根据权利要求1所述的非易失性半导体存储器,其特征在于, 所述非易失性存储单元为非浮栅型存储单元。3. 根据权利要求1所述的非易失性半导体存储器,其特征在于, 在被设定为成对关系的所述两个非易失性存储单元的所述外侧的存储区域的阈值中,将一个所述外侧的存储区域的阈值设定为高的状态,将另 一个所述外侧的存储区域的阈值设定为低的状态。4. 根据权利要求1所述的非易失性半导体存储器,其特征在于, 所述阈值被设定为成对关系的所述两个非易失性存储单元位于所述相邻的列线的紧邻外侧。5. 根据权利要求4所述的非易失性半导体存储器,其特征在于, 所述列选择电路选择所述相邻的两个列线而施加规定的读出电压,并且选择位于所述相邻的两个列线的紧邻外侧的两个列线而施加接地电压。6. 根据权利要求1所述的非易失性半导体存储器,其特征在于, 在所述行选择电路和所述列选择电路中,在相对于列线对称的两个非易失性存储单元的所述两个存储区域中, 将相对于所述列线为内侧的存储区域的阈值设定为成对关系,所述行选择 电路为了对作为读出对象的所述两个非易失性存储单元的所述外侧的存储 区域进行读出,向与所述两个非易失性存储单元...
【专利技术属性】
技术研发人员:高桥基,福冈郁人,
申请(专利权)人:富士通微电子株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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